The transparent electrode properties of ITO films deposited by RF magnetron sputtering with process pressure were investigated. The ITO thin films was deposited on a glass substrate using a target with 3in diameter sintered at a ratio of $In_2O_3$ : $SnO_2$ (9 : 1). 200-nm-thick ITO thin films were manufactured by various process pressures ($2.0{\times}10^{-2}$, $7.0{\times}10^{-3}$ and $2.0{\times}10^{-3}$ Torr). The optical transmittance and resistivity of the deposited ITO thin films showed a relatively satisfactory result under $10^{-2}$ Torr. For high process pressure, the optical transmittance was below 80%, while for low process pressure, the optical transmittance was above 85%. As a result of of mobility, resistivity and carrier concentration by Hall measurement, we obtained satisfactory properties to apply into a transparent conducting thin film.
Kwon, Soon Yeol;Jung, Dong Geon;Choi, Young Chan;Lee, Jae Yong;Kong, Seong Ho
Journal of the Semiconductor & Display Technology
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v.17
no.2
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pp.57-60
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2018
Recently, Thin-film transistors (TFTs) are fundamental building blocks for state-of-the-art microelectronics, such as flat-panel displays and system-on-glass. Zinc oxide thin films have the advantage that they can grow at low temperature and can obtain high charge movility. Also the zinc oxide thin film can be used to control the resistance according to the oxygen content, so it is very easy to obtain the desired physical properties. In this paper, we fabricated a zinc oxide thin film on a polished copper substrate through a solution process, then improved the crystallinity through a geat treatment porcess, and studied to transfer it on a flexible substrate after the heat treatment was completed.
The tunable electronic performance of the solution-processed semiconductor metal oxide is of great significance for the printing electronics. In current work, transparent thin-film transistors (TFTs) with indium-zinc oxide (IZO) were fabricated as active layer by a simple eco-friendly aqueous route. The aqueous precursor solution is composed of water without any other organic additives and the IZO films are amorphous revealed by the X-ray diffraction (XRD). With systematic studies of atomic force microscopy (AFM), X-ray photoemission spectroscopy (XPS) and the semiconductor property characterizations, it was revealed that the electrical performance of the IZO TFTs is dependent on the concentration of precursor solution. As well, the optimum preparation process was obtained. The concentrations induced the regulation of the electronic performance was clearly demonstrated with a proposed mechanism. The results are expected to be beneficial for development of solution-processed metal oxide TFTs.
Lee, DongWoon;Cho, Eou Sik;Seong, Jin-Wook;Kwon, Sang Jik
Journal of the Semiconductor & Display Technology
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v.21
no.1
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pp.91-94
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2022
Top emission organic light-emitting diode is commonly used because of high efficiency and good color purity than bottom - emission organic light-emitting device. Unlike BEOLED, TEOLED contain semi-transparent metal cathode. Because of semi-transparent cathode, micro cavity effect occurs in TEOLED. We optimized this effect by changing the thickness of hole injection layer. Device consists of is indium-tin-oxide / N,N'-Di-[(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl]-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine (x nm) / tris-(8-hydroxyquinoline) aluminum (50nm) / LiF(0.5nm) / Mg:Ag (1:9), and we changed NPB thickness which is used as HTL in our device in order to study how micro cavity effects are changed by optical path. As the results, NPB thickness at 35nm showed the current efficiency of 8.55Cd/A.
Tandem white organic light emitting diodes (WOLEDs) are fabricated by using a transparent interconnecting layer of Al:LiF composite/molybdenum oxides ($MoO_3$). We demonstrate two types of tandem WOLEDs consisting of two color emissions (red and blue emission) and three color emissions (red, green and blue emission). Tandem WOLED consisting of three color emission shows higher external quantum efficiency and current efficiency.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.17
no.4
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pp.235-237
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2016
Oxide/metal/oxide (OMO) thin films were fabricated using amorphous indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO) and an Ag metal layer on a glass substrate at room temperature. The optical and electrical properties of the a-IGZO/Ag/a-IGZO samples changed systemically depending on the thickness of the Ag layer. The transmittance in the visible range tends to decrease as the Ag thickness increases while the resistivity, carrier concentration, and Hall mobility tend to improve. The a-IGZO/Ag (13 nm)/a-IGZO thin film with the optimum Ag thickness showed an average transmittance (Tav) of 71.7%, resistivity of 6.63 × 10−5 Ω·cm and Hall mobility of 15.22 cm2V−1s−1.
Park, Jehong;Kim, Hyojun;Kang, Hyeonwoo;Kim, Jongsu;Jeong, Yongseok
Journal of the Semiconductor & Display Technology
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v.19
no.4
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pp.6-10
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2020
The silver nanowires (AgNWs) were synthesized by the conventional polyol process, which revealed 25 ㎛ and 30 nm of average length and diameter, respectively. The synthesized AgNWs were applied to the CdSe/CdZnS quantum dot (QD) based transparent light-emitting device (LED). The device using a randomly networked AgNWs electrode had some problems such as the high threshold voltage (for operating the device) due to the random pores from the networked AgNWs. As a method of improvement, a composite electrode was formed by overlaying the ZnO:Ga on the AgNWs network. The device used the composite electrode revealed a low threshold voltage (4.4 Vth) and high current density compared to the AgNWs only electrode device. The brightness and current density of the device using composite electrode were 55.57 cd/㎡ and 41.54 mA/㎠ at the operating voltage of 12.8 V, respectively, while the brightness and current density of the device using (single) AgNWs only were 1.71 cd/㎡ and 2.05 mA/㎠ at the same operating voltage. The transmittance of the device revealed 65 % in a range of visible light. Besides the reliability of the devices was confirmed that the device using the composite electrode revealed 2 times longer lifetime than that of the AgNWs only electrode device.
Jo, Dawoon;Yu, Yeon-Soo;Nam, Hee-Eun;Chang, Jin-Hae;Oh, Chung-Seog
Journal of the Semiconductor & Display Technology
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v.21
no.1
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pp.79-84
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2022
As various flexible display products are released, the demand for high-performance colorless and transparent polyimide (CPI) film is continuously increasing. The primary purpose of this study is to establish a systematic procedure for optimizing the optical performance of CPI films by applying the response surface method. After selecting three key factors (monomer type, stirring time for varnish synthesis, and maximum temperature of vacuum furnace for film production) affecting optical performance based on experiences and references, CPI films were manufactured according to the experimental sequence designed by the central composite design, and then the yellowness index (YI) and optical transmittance (Tr) of the films were measured. When producing a CPI film by pouring varnish into a petri dish, the change in optical properties according to thickness should be considered, and there was a meaningful linear relationship between YI and Tr. The species of monomer and the maximum temperature were the critical factors that had an influence on YI and Tr, respectively. It is expected that the procedure proposed in this study can serve as a starting point for CPI film optimization studies considering the other factors that were not considered and responses such as thermal properties.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.30
no.12
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pp.806-811
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2017
An all-transparent ultraviolet (UV) photodetector was fabricated by structuring $p-NiO/n-SnO_2/ITO$ on a glass substrate. $SnO_2$ is an important semiconductor material because of its large bandgap, high electron mobility, high transmittance (as high as 80% in the visible range), and high stability under UV light. For these reasons, $SnO_2$ is suitable for a range of applications that involve UV light. In order to form a highly transparent p-n junction for UV detection, $SnO_2$ was deposited onto a device containing NiO as a high-transparent metal conductive oxide for UV detection. We demonstrated that all-transparent UV photodetectors based on $SnO_2$ could provide a definitive photocurrent density of $4nA\;cm^{-2}$ at 0 V under UV light (365 nm) and a low saturation current density of $2.02nA{\times}cm^{-2}$. The device under UV light displayed fast photoresponse with times of 31.69 ms (rise-time) and 35.12 ms (fall-time) and a remarkable photoresponse ratio of 69.37. We analyzed the optical and electrical properties of the $NiO/SnO_2$ device. We demonstrated that the excellent properties of $SnO_2$ are valuable in transparent photoelectric device applications, which can suggest various routes for improving the performance of such devices.
This paper, Ga-doped ZnO (GZO) thin films which were deposited on Corning glass substrate using an magnetron sputtering deposition technology and then the post deposition annealing process was conducted for 30 minutes at different temperature of 100, 200, 300, and $400^{\circ}C$, respectively. So as to investigate the properties for the relevant the Concentration and Oxygen Vacancy with Annealing temperature of Ga-doped ZnO thin films by RF Sputtering method. The Carrier concentration is enhanced as annealing temperature decreases, and also the oxygen vacancy concentration is enhanced as annealing temperature decreased. Oxygen vacancy will decrease along with Carrier concentration. This change in Carrier concentration is related to changes in oxygen vacancy concentration. The figure of merit obtained in this study means that Ga-doped ZnO films which annealed at $400^{\circ}C$ have the lowest Carrier concentration and Oxygen vacancy, which have the highest optoelectrical performance that it could be used as a transparent electrode.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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