다결정 Si/ $SiO_2$ II Si 적층구조에서 $SiO_2$ ∥ 층의 두께에 따른 유전특성의 변화
(Dielectric Constant with $SiO_2$ thickness in Polycrystalline Si/ $SiO_2$ II Si structure)
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- 한국표면공학회지
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- 제33권4호
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- pp.217-221
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- 2000