• 전자공학회논문지SC
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• 제39권2호
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• pp.146-156
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• 2002

이 논문에서는 불규칙한 배선 구조에 대한 가상직선(virtual-straight line) 파라미터 추출 방법과 이를 이용한 새롭고 빠른 시간 영역에서의 시뮬레이션 방법론을 보이고 검증한다. 비선형인 트랜지스터의 특성을 고려한 인터컨넥트 회로의 시간영역에서의 신호응답은 모델차수감소법(model order reduction method)을 사용하여 수행된다. 모델차수감소법은 인터컨넥트 회로의 단위길이당 파라미터를 이용하므로 인터컨넥트의 길이가 서로 다르고 불규칙한 형태를 갖는 인터컨넥트에 대해서 직접적으로 모델차수감소법을 적용하기 위해 가상직선 모델을 사용하여 인터컨넥트의 파라미터를 추출한다. 또한 모델차수감소법은 일반적인 Berkeley SPICE의 모듈로 구성하여 인터컨넥트 회로의 시간영역 시간응답을 구하였으며 일반적인 회로 시뮬레이터인 HSPICE의 시뮬레이션 결과와 비교하여 잘 일치한다는 것을 보인다. 제안된 방법은 복잡한 다층 배선 구조에 대한 신속하고 정확한 시간영역 신호응답을 제공함으로써 고성능 VLSI 회로 설계에 유용하게 적용할 수 있다.

• 전자공학회논문지 IE
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• 제48권2호
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• pp.6-11
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• 2011

본 논문은 나노 구조에서 ASIC 표준 라이브러리 셀의 특성에 대하여 전파지연시간 측정의 새로운 설계 방법을 제시하였다. 라이브러리 셀((NOR, AND, XOR 등)에 대한 정확한 시간 정보를 제공함으로서 ASIC 설계 흐름 공정의 시간적 분석을 증진시킬 수 있다. 이러한 분석은 기술 공정에서 반도체 파운드리 팀에게 유용하게 사용할 수 있다. CMOS 소자의 전파지연시간과 SPICE 시뮬레이션 은 트랜지스터 파라미터의 정확도를 예측할 수 있다. 위상오차 축적방법 물리적 실험은 반도체 제조공정($0.11{\mu}m$, GL130SB)으로 실현하였다. 표준 셀 라이브러리에서 전파지연시간은 $10^{-12}$초 단위까지 정확성을 측정할 수 있었다. VLSI STPE를 위한 솔루션은 배치, 시뮬레이션, 그리고 검증에 사용할 수 있다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집 Vol.14 No.1
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• pp.201-204
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• 2001

In this paper, for modeling of electrical characteristics in Poly Silicon Thin Film Transistors with process parameters set up optimum values, So, the I-V characteristics of poly silicon TFT parameters are examined and simulated in terms of the variations in process parameter. And these results compared and analyzed simulation values with examination value. The simulation program for characteristic analysis used SUPREM IV for processing, Matlab for modeling by mathematics, and SPICE for electric characteristic of devices. Input parameter for simulation characteristics is like condition of device process sequence, these electric characteristic of $I_D-V_D$ $I_D-V_G$, variations of grain size. The Gate oxide thickness of poly silicon are showed similar results between real device characteristics and simulation characteristics.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집
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• pp.201-204
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• 2001

In this paper, for modeling of electrical characteristics in Poly Silicon Thin Film Transistors with process parameters set up optimum values. So, the I-V characteristics of poly silicon TFT parameters are examined and simulated in terms of the variations in process parameter. And these results compared and analyzed simulation values with examination value. The simulation program for characteristic analysis used SUPREM IV for processing, Matlab for modeling by mathematics, and SPICE for electric characteristic of devices. Input parameter for simulation characteristics is like condition of device process sequence, these electric characteristic of I$_{D}$-V$_{D}$, I$_{D}$-V$_{G}$, variations of grain size. The Gate oxide thickness of poly silicon are showed similar results between real device characteristics and simulation characteristics.ristics.

• 센서학회지
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• 제14권6호
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• pp.387-394
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• 2005

In order to design SOI CMOS image sensors, SOI MOSFET model parameters were extracted using the equation of bulk MOSFET model parameters and were optimized using SPICE level 2. Simulated I-V characteristics of the SOI NMOSFET using the extracted model parameters were compared to the experimental I-V characteristics of the fabricated SOI NMOSFET. The simulation results agreed well with experimental results. A unit pixel for SOI CMOS image sensors was designed and was simulated for the PPS, APS, and logarithmic circuit using the extracted model parameters. In these CMOS image sensors, a nano-wire MOSFET photodetector was used. The output voltage levels of the PPS and APS are well-defined as the photocurrent varied. It is confirmed that SOI CMOS image sensors are faster than bulk CMOS image sensors.

• 대한의용생체공학회:의공학회지
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• 제29권5호
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• pp.392-399
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• 2008

Thin-film transistor (TFT) arrays for an x-ray detector require quite different design concept from that of the conventional active-matrix liquid crystal devices (AM-LCDs). In this paper anew design of TFT array which uses only SiNx for passivation layer is described to meet the detector performance and the product availability simultaneously. For the purpose of optimizing the design parameters of the TFT array, a Spice simulation was performed. As a result, some parameters, such as the TFT width, the data line capacitance, and the storage capacitance, were able to be fixed. The other parameters were decided within a permissible range of the TFT process especially the photolithography process and the wet etch process. Then we adapted the TFT array which had been produced by the proposed design to our prototype model (FDXD-1417 and evaluated it clinically by comparing with a commercial model (EPEX, Hologic, Beford, USA). The results say that our prototype model is slightly better than EPEX system in chest PA images. So we can prove the technical usefulness and the commercial values of the proposed TFT design.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제38권8호
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• pp.20-26
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• 2001

본 논문에서는 위상획득과정과 동기과정에서의 trade-off를 향상시킨 듀얼 위상 주파수 검출기를 이용하여 차지펌프 PLL을 설계하였다. 제안된 듀얼 위상 주파수 검출기는 상승에지에서 동작하는 POSITIVE 위상 주파수 검출기와 하강에지에서 동작하는 NEGATIVE 위상 주파수 검출기로 구성되어있다. 또한 PLL에 사용된 차지펌프는 전류뺄셈회로를 이용하여 전류 부정합을 감소시켰으며, reference spurs와 전압제어발진기의 변동을 감소시킬수 있도록 구현하였다. 제안된 PLL의 동작특성은 0.25${\mu}m$ CMOS 공종 파라미터를 이용하여 SPICE 시뮬레이션을 통해 검증되었다.

• 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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• 제49권1호
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• pp.1-7
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• 2000

The SNOSFET memory devices with ultrathin ONO(tunnel oxide-nitride-blocking oxide) gate dielectric were fabricated using n-well CMOS process and investigated its characteristics. The thicknesses of tunnel oxide, nitride and blocking oxide were $23{\AA},\; 53{\AA}\; and\; 33{\AA}$, respectively. Auger analysis shows that the ONO layer is made up of $SiO_2(upper layer of blocking oxide)/O-rich\; SiO_x\N\_y$. It clearly shows that the converting layer with $SiO_x\N\_y(lower layer of blocking oxide)/N-rich SiO_x\N\_y(nitride)/O-rich SiO_x\N\_y(tunnel oxide)$. It clearly shows that the converting layer with $SiO_x\N\_y$ phase exists near the interface between the blocking oxide and nitride. The programming condition of +8 V, 20 ms, -8 V, 50 ms is determined and data retention over 10 years is obtained. Under the condition of 8 V programming, it was confirmed that the modified Fowler-Nordheim tunneling id dominant charge transport mechanism. The programmed threshold voltage is distributed less than 0.1 V so that the reading error of memory stated can be minimized. An $8\times8$ NAND type flash EEPROM with SONOSFET memory cell was designed and simulated with the extracted SPICE parameters. The sufficient read cell current was obtained and the upper limit of $V_{TH}$ for write state was over 2V.

• 전자공학회논문지SC
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• 제37권4호
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• pp.28-34
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• 2000

본 논문에서는 완전평형 전류 적분기를 이용하여 저전압 구동이 가능하고 고주파수 응용이 가능한 연속시간 필터를 설계하였다. 적분기 회로의 평형 구조 특성 때문에 짝수 차수의 고조파 성분들이 제거되고, 입력 신호 범위가 2배가되어 제안된 필터는 개선된 잡음 특성과 넓은 동적범위를 갖는다. 또한 상보형 전류미러를 이용하기 때문에 바이어스 회로가 간단하고 필터의 차단주파수는 단일 바이어스 전류원에 의해 간단히 제어할 수 있다. 설계의 예로 3차 버터워스 저역통과 필터를 개구리도약법으로 구현하였고, 제안된 완전평형 전류모드 필터는 0.65㎛ CMOS n-well 공정 파라미터를 이용하여 SPICE 시뮬레이션한 후 필터의 특성을 검토하였다. 시뮬레이션 결과 3V의 공급 전압에서 50㎒의 차단주파수, 1%의 THD에서 69㏈의 동적 범위를 갖고, 전력소모는 4㎽이다.

• 전기전자학회논문지
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• 제3권2호
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• pp.226-235
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• 1999

SPICE잡음모델식 및 그 모델변수들의 특성을 조사하기 위하여, BiCMOS공정으로 제조된 NMOS소자에서 1/f 잡음을 측정하여 기존에 발표된 1/f 잡음의 실험결과 및 모델들과 비교해 보았다. 일반적으로 알려진 드레인 잡음전류의 전력밀도 스펙트럼 $S_{Id}$의 게이트 바이어스 의존도 및 드레인 전압에 따른 그 특성이 본 연구의 n-MOSFET소자에서도 측정되었다. 등가게이트 전압잡음전력밀도 $S_{Vg}$의 바이어스 의존도도 채널의 길이가 비교적 길 때에는 이론 및 실험적으로 알려진 결과와 대체적으로 일치하나, 짧은 채널에서는 $S_{Id}$ 및 $S_{Vg}$에 관한 기존 모델들의 적용이 타당하지 않았다 그러므로 본 논문에서는 서로 상이한 잡음모델들을 비교해서 본 연구의 시료소자인 BiCMOS공정에 적용 가능한 1/f 잡음모델을 모색하였다.