Gate 산화막으로 $HfO_2$ 박막을 이용하여 제작한 NFET 특성 고찰
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- 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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- 한국반도체및디스플레이장비학회 2003년도 추계학술대회 발표 논문집
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- pp.86-88
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- 2003