몬데 칼로 방법을 이용한 실리콘 MOSFET의 드레인영역에서 77 K와 300 K의 Impact Ionization 특성 (Impact Ionization Characteristics Near the Drain of Silicon MOSFET's at 77 and 300 K Using Monte Carlo Method)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 1989년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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- pp.131-135
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- 1989