• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제22권12호
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• pp.1014-1017
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• 2009

In this study, we studied the nature of thin films formed by holographic photodoping chalcogenide thin films with for use in programmable metallization cell devices(PMC), a type of ReRAM. We formatted straight conduction pathway from the internal interferences of the diffraction gratings which is builded by the holographic lithography method. We investigated the resistance change of solid-electrolyte chalcogenide thin films varied in the applied voltage bias direction from about $1\;M{\Omega}$ to several hundreds of $\Omega$. The switching characteristics of the devices applied holographic lithography method was more improved than ultraviolet exposure condition. As a result of improved resistance change effects, we can analogize that the diffraction gratings is a kind of pattern for straight conduction pathway formation inside the chalcogenide thin films.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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• pp.162-163
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• 2007

In this paper, we fabrication of 2-D photonic crytal using holographic lithography. We used Ag doped chalcogenide AsGeSeS film and He-Ne (632.8nm) (P:P) Polarized laser beam. The thickness of Ag thin film was varied from 60nm and the thickness of chalcogenide thin film was varied from 2um. Frist, holographic lithography with 1-D photonic crystal on Ag/AsGeSeS film. And than revolved the sample $90^{\circ}$ to fabricate 2-D photonic crystal with holographic lithography.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문집
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• pp.123-126
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• 2004

We have demonstrated the fabrication of patterned 3D photonic crystals by holographic lithography in conjunction with soft lithography. Holographic lithography created 3D ordered macroporous structures and soft lithography made tailored defects. Because the hard baked photoresist pattern possessed high resistance against the uncured photoresist solution and the refractive index did not change appreciably by hard baking, a crosslinked photoresist was used as a relief pattern for the holographic fabrication of patterned 3D photonic crystals. More complicated defect geometries might be easily obtained with more complicated patterns on PDMS stamps. Moreover, the present results might be used as templates for 3D PCs of highindex defects that can be exploited as optical waveguides and optical circuits.

• Current Optics and Photonics
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• 제7권6호
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• pp.638-654
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• 2023

Holography is generally known as a technology that records and reconstructs 3D images by simultaneously capturing the intensity and phase information of light. Two or more interfering beams and illumination of this interference pattern onto a photosensitive recording medium allow us to control both the intensity and phase of light. Holography has found widespread applications not only in 3D imaging but also in manufacturing. In fact, it has been commonly used in semiconductor manufacturing, where interference light patterns are applied to photolithography, effectively reducing the half-pitch and period of line patterns, and enhancing the resolution of lithography. Moreover, holography can be used for the manufacturing of 3D regular structures (3D photonic crystals), not just surface patterns such as 1D or 2D gratings, and this can be broadly divided into (i) holographic recording and (ii) holographic lithography. In this review, we conceptually contrast two seemingly similar but fundamentally different manufacturing methods: holographic recording and holographic lithography. We comprehensively describe the differences in the manufacturing processes and the resulting structural features, as well as elucidate the distinctions in the diffractive optical properties that can be derived from them. Lastly, we aim to summarize the unique perspectives through which each method can appear distinct, with the intention of sharing information about this field with both experts and non-experts alike.

• 한국정밀공학회지
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• 제23권12호
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• pp.128-134
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• 2006

Two-dimensional nano-patterns are fabricated using immersion holographic lithography. The photoresist layer is exposed to an interference pattern generated by two incident laser beams($\lambda$=441.6 nm, He-Cd laser) of which the pitch size is less than 200 nm. Good surface profiles of the 2 dimensional patterns are achieved by trimming the lithography process parameters, such as, exposure time, developing time and refractive index of medium liquid.

• 한국광학회지
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• 제20권3호
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• pp.175-181
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• 2009

내부전반사 홀로그래픽 노광 기술은 넓은 면적(6")을 아주 미세하게($0.35{\mu}m$) 노광할 수 있는 차세대 광 노광 기술로서 평가받고 있다. 기존의 광 노광 기술은 $1.5{\mu}m/6}$ 이상이 가능한 (LCD용 노광기)과 $0.2{\mu}m/1.5"$ 이하(반도체용 노광기)의 패턴을 노광할 수 있도록 양분되어 발전하여 왔다. 이에 반하여 내부전반사 홀로그래픽 노광 기술은 일괄 노광 면적은 6"로 유지하면서 $0.35{\mu}m$에서 $1.5{\mu}m$의 사이의 패턴을 구현할 수 있는 특별한 능력을 갖고 있다. 이는 기존 광 노광 방식에서 반드시 필요로 하는 결상 광학계를 사용하지 않고 홀로그램 마스크를 사용하기 때문이다. 본 논문에서는 내부전반사 홀로그래픽 노광 기술의 핵심기술인 홀로그램 마스크를 표면 부조 홀로그램 형태로 구현할 수 있는 핵심 인자가 무엇인지를 분석하여 최적화 하는 방법에 대해 논하고, 이를 이용하여 노광한 미세패턴에 대한 결과를 실험적으로 평가하였다.

• 한국광학회지
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• 제20권1호
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• pp.23-28
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• 2009

본 논문에서는 대면적 리소그래피를 위하여 홀로그램 영상을 연결하여 기록 물질에 저장하고 이를 마스크로 이용하는 노광 방법을 제안하고 구현하였으며, 홀로그램 영상을 재생하는 과정에서 발생되는 영상 연결 부분에서의 간섭 무늬를 제거하였다. 연결하고자 하는 영상은 DMD(digital micro-mirror device)로 표시하였으며, DMD 영상은 축소 광학계를 통하여 기록 물질에 저장되었다. 기록 물질은 전동 스테이지로 이동되도록 하여, DMD로 표시되는 영상이 기록 물질에 연속적으로 저장되도록 하였다. 이러한 방법으로 저장되는 연결된 영상은 재생광에 의하여 노광에 사용되는데, 재생광의 간섭성에 의하여 연결부분에 간섭무늬가 발생된다. 간섭무늬는 노이즈로 작용하는데, 다중 노광에 의한 홀로그램 영상의 기록과 재생을 이용하여 이를 제거하였다. 본 논문에서는 DMD와 전동 스테이지를 이용하여 영상을 연결하여 기록하고, 다중 노광에 의한 영상 기록 방법을 이용하여, 간섭 무늬가 제거된 연결된 영상을 구현하고 이를 리소그래피에 적용하였다.

• 한국광학회지
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• 제20권6호
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• pp.334-338
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• 2009

최근 디스플레이 기기의 수요가 증대되면서 대면적 노광에 대한 요구가 증대되고 있는데, 내부전반사(total internal reflection: TIR)홀로그래픽 리소그라피는 대면적 노광을 위한 효과적인 방법으로 연구가 진행되고 있다. TIR 홀로그래피에서는 일반적으로 레이저를 이용하여 영상을 기록하고 재생한다. 그러나 자외선 램프와 같은 비가간섭광을 이용하여 재생한다면, 가간섭성에 의해 나타나는 영상잡음을 줄일 수 있고, 대면적 노광에도 보다 용이할 것이다. TIR 홀로그램의 재생을 위하여 자외선 램프를 이용할 때, 램프의 유한한 선폭과 확산각이 재생 영상에 미치는 영향을 분석하고, 재생패턴에 나타나는 선폭 확대 결과를 실험을 통하여 검증하였다. ${\mu}m$ 규모의 선폭을 갖는 대면적 패턴을 TIR 홀로그램으로부터 얻기 위한 재생 광원으로, 가간섭성 광원인 레이저 대신 저잡음성과 경제성을 갖춘 일반적인 자외선 램프의 사용이 가능할 것으로 기대된다.

• Journal of the Optical Society of Korea
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• 제19권1호
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• pp.63-68
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• 2015

A one-step fabrication of a photonic crystal (PC) with functional defects is demonstrated. Using multi-beam phase-controlled holographic lithography with a diffracting optical element, large area one dimensional (1D) and two dimensional (2D) PCs with periodic defects were fabricated. The uniform area is up to $2mm^2$, and tens of defect channels have been introduced in the 1D and 2D PC structure. This technique gives rise to substantial reduction in the fabrication complexity and significant improvement in the spatial accuracy of introducing functional defects in photonic crystals. This method can also be used to design and fabricate three dimensional (3D) PCs with periodic defects.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제21권6호
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• pp.580-583
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• 2008

In this paper, we investigated the properties of chalcogenide glass thin films formed by photo-inducing for use in 1-dimensional photonic crystals. We used Ag-doped amorphous As-Ge-Se-S thin films which belongs in the chalcogenide materials having sensitive photoluminescence properties. The purpose of this experiment is to form the holographic lattice for 1-dimensional photonic crystals. The way in which photo-induce into the amorphous chalcogenide thin films is holographic lithography method. We confirmed the formation of diffraction lattice by sensing the existence of diffraction beam and measured the diffraction efficiency. The results suggest that there is an application possibility with photonic crystals.