Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.415-415
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2012
ZnO nanostructures were synthesized by a vapor phase transport process in a single-zone furnace within a horizontal quartz tube with an inner diameter of 38 mm and a length of 485 mm. The ZnO nanostructures were grown on Au-catalyzed Si(100) substrates by using a mixture of zinc oxide and graphite powders. The growth of ZnO nanostructures was conducted at $800^{\circ}C$ for 30 min. High-purity Ar and $O_2$ gases were pushed through the quartz tube during the process at a flow rate of 100 and 10 sccm, respectively. The sequence of ON/OFF cycles of the Ar gas flow was repeated, while the $O_2$ flow is kept constant during the growth time. The Ar gas flow was ON for 1 min/cycle and that was OFF for 2 min/cycle. The structure and optical properties of the ZnO nanostructures were investigated by field-emission scanning electron microscope, X-ray diffraction, temperature-dependent photoluminescence. The preferred orientation of the ZnO nanostructures was along c-axis with hexagonal wurtzite structure.
Ga/Al doped ZnO (GAZO) thin films were prepared on non-alkali glass substrate by co-sputtering system using two DC cathodes equipped with AZO ($Al_2O_3$:2.0 wt%) target and GZO ($Ga_2O_3$:6.65 wt%) target. This study examined the influence of Al/Ga concentration and substrate temperature on the electrical, structural and optical properties of GAZO films. The lowest resistivity $1.95{\times}10^{-3}{\Omega}cm$ was obtained at room temperature. With increasing substrate temperature, resistivity of GAZO film decreased to a minimum value of $7.47{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ at below $300^{\circ}C$. Furthermore, when 0.05% $H_2$ gas was introduced, resistivity of GAZO film decreased to $6.69{\times}10^{-4}{\Omega}cm$. All the films had a preferred orientation along the (002) direction, indicating that the deposited films have hexagonal wurtzite structure formed by the textured growth along the c-axis. The average transmittance of the films was more than 85% in the visible light range.
For many applications of $ReBa_2Cu_3O_{7-x}$ (ReBCO) tapes it is needed to know the anisotropic properties of the used conductor in a broad range of magnetic field. In this paper we present the results of transport measurements on the SuNAM tape (GdBaCuO) with the rotation of the sample in magnetic fields up to 5 T in liquid nitrogen. The critical current over the magnetic field orientation ($I_c({\theta})$) curves demonstrate the appearance of distinct second peak around c-axis in low fields. This peak almost vanishes in the fields over 3 T. The evolution of the ab-peak form is also presented: the peak consistently reduces its height with the magnetic field going up and in the high fields the shoulders rise, changing the type of the distribution. To describe experimental curves the vortex path model was applied to the angular distributions of the critical current in magnetic field. Good agreements of the experimental data with the analytical expressions were obtained that confirm the vortex path model approach.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.26
no.1
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pp.56-63
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2013
IGZO thin films have been prepared by RF magnetron sputtering. The structural, electrical and optical properties of the IGZO thin films have been investigated as a function of deposition condition. XRD analysis of IGZO thin films showed a typical crystallographic orientation with c-axis perpendicular regardless of deposition conditions. The carrier mobility, carrier concentration and resistivity of the IGZO films sputtered at 200 W, 1mTorr and $300^{\circ}C$ were $28.5cm^2/V{\cdot}sec$, $2.6{\times}10^{20}cm^3$, $8.8{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}cm$ respectively. The optical transmittance were higher than 80% at visible region regardless of the deposition conditions under the experiments above, and specifically higher than 90% at wave length over 500 nm. The absorption edge was shifted to shorter wavelength with increase of carrier concentration.
Park, Y.K.;Ju, B.K.;Jeon, H.S.;Yoon, Y.S.;Oh, Y.J.;Lee, Y.H.;Suh, S.H.;Oh, M.H.;Kim, C.J.
Proceedings of the KIEE Conference
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1999.07g
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pp.3304-3306
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1999
In this study, we used the sputtering method with single target to obtain the thick and uniform PZT($PbZrTiO_3$) films for micromached IR sensor application. Then, we investigated the etching characteristics and conditions which is necessary process to fabricate the IR sensor. We tested the C-axis orientation and P-E loop of the deposited PZT films with the XRD and RT66A, respectively. Also we investigated the surface of the films by the AFM and SEM analysis.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.20
no.11
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pp.965-968
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2007
In this study we investigated the variation of the substrate temperatures using RF sputtering to identify the effect on the structure and electrical properties by c-axis orientation of ZnO thin film. ZnO thin films were prepared on Al/Si substrate. In our experimental results, ZnO thin film at $300^{\circ}C$ was well grown with (002) peak of ZnO thin film, the thin film showed the high resistivity with the value of $5.9{\times}10^7\;{\Omega}cm$ and the roughness with 27.06 nm. As increased the substrate temperatures, the grain size of ZnO thin films was increased. From these results, we could confirm the suitable substrate temperature of ZnO thin films for FBAR(film bulk acoustic resonator).
We have studied physical properties of MnAs thin films grown by Molecular-Beam Epitaxy as well as their post-growth annealing effects. The samples grown at $600^{\circ}C$ show the preferred crystal orientation of type-B independent of substrate whereas type-A is observed for the samples grown at below $200^{\circ}C$. The sample grown at $600^{\circ}C$ on GaAs(001) substrate is magnetized to only one direction even on the easy axis of magnetization. The magnetic properties are vastly enhanced after post-growth annealing for both MnAs/Si(001) sample with no ferromagnetism and ferromagnetic MnAs/GaAs(001) grown at $200^{\circ}C$.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.47
no.1
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pp.6-13
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2010
In this study, Ga-doped ZnO (GZO) thin films have been fabricated on Eagle 2000 glass substrates at various substrate temperatures $100{\sim}400^{\circ}C$ and thin film thickness by RF magnetron sputtering in order to investigate the structural, electrical, and optical properties of the GZO thin films. It is observed that all the thin films exhibit c-axis orientation and a (002) diffraction peak only. The GZO thin films, which were deposited at $T=300^{\circ}C$ and 400 nm, shows the highest (002) orientation, and the full width at half maximum (FWHM) of the (002) diffraction peak is $0.4^{\circ}$. AFM analysis shows that the formation of relatively smooth thin films are obtained. The lowest resistivity ($8.01{\times}10^{-4}\;{\Omega}cm$) and the highest carrier concentration ($3.59{\times}10^{20}\;cm^{-3}$) are obtained in the GZO thin films deposited at $T=300^{\circ}C$ and 400 nm. The optical transmittance in the visible region is approximately 80 %, regardless of process conditions. The optical band-gap shows the slight blue-shift with increase in doping which can be explained by the Burstein-Moss effect.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.13
no.1
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pp.115-120
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2009
The 3wt.% Al-doped zinc oxide (AZO) thin films were fabricated on Coming 1737 substrates at a fixed oxygen pressure of 200 mTorr with various substrate temperatures ($100\;{\sim}\;250^{\circ}C$) by using pulsed laser deposition in order to investigate the microstructure, optical, and electrical properties of AZO thin films. All thin films were shown to be c-axis oriented, exhibiting only a (002) diffraction peak. The AZO thin film, fabricated at 200 mTorr and $250^{\circ}C$, showed the highest (002) orientation and the full width at half maximum (FWHM) of the (002) diffraction peak was $0.44^{\circ}$. The optical transmittance in the visible region was higher than 85 %. The Burstein-Moss effect, which shifts to a high photon energy, was observed. The electrical property indicated that the highest carrier concentration ($3.48{\times}10^{20}cm^{-3}$) and the lowest resistivity ($1.65{\times}10^{-2}{\Omega}cm$) were obtained in the AZO thin film fabricated at 200 mTorr and $250^{\circ}C$.
$Cr_{100-x}Ti_x$ amorphous texture-inducing layers (TIL) were investigated to realize highly (002) oriented $L1_0$ FePt-C granular films through hetero-epitaxial growth on the (002) textured bcc-$Cr_{80}Mn_{20}$ seed layer (bcc-SL). As-deposited TILs showed the amorphous phase in Ti content of $30{\leq}x(at%){\leq}75$. Particularly, films with $40{\leq}x{\leq}60$ kept the amorphous phase against the heat treatment over $600^{\circ}C$. It was found that preference of the crystallographic texture for bcc-SLs is directly affected by the structural phase of TILs. (002) crystallographic texture was realized in bcc-SLs deposited on the amorphous TILs ($40{\leq}x{\leq}70$), whereas (110) texture was formed in bcc-SLs overlying on crystalline TILs (x < 30 and x > 70). Correlation between the angular distribution of (002) crystal orientation of bcc-SL evaluated by full width at half maximum of (002) diffraction (FWHM) and a grain diameter of bcc-SL indicated that while the development of the lateral growth for bcc-SL grain reduces FWHM, crystallization of amorphous TILs hinders FWHM. $L1_0$ FePt-C granular films were fabricated under the substrate heating process over $600^{\circ}C$ with having different FWHM of bcc-SL. Hysteresis loops showed that squareness ($M_r/M_s$) of the films increased from 0.87 to 0.95 when FWHM of bcc-SL decreased from $13.7^{\circ}$ to $3.8^{\circ}$. It is suggested that the reduction of (002) FWHM affects to the overlying MgO film as well as FePt-C granular film by means of the hetero-epitaxial growth.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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