게이트 유전체 적용을 위한 플라즈마를 이용해 질화된 $HfO_2$ 박막의 특성 평가
(Characterization of Nitrided $HfO_2(HfO_xN_y)$ for Gate Dielectric Application using Plasma)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2003년도 추계학술대회 논문집 Vol.16
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- pp.11-14
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- 2003