• The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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• v.15 no.6
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• pp.608-618
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• 2004

In this paper, modifying the diode star double balanced mixer of Maas, a novel resistive 60 GHz pHEMT MMIC star mixer is suggested. Due to star configuration, troublesome IF balun for ring configuration FET mixer is not necessary. In addition, the sysematic design method of dual balun through EM simulation is suggested rather than the design by inspection as Maas. The mixer circuit is fabricated as MMIC on CPW base using 0.1 um GaAs pHEMT Library of MINT in Dongguk University. The size is 1.5 ${\times}$ 1.5 $\textrm{mm}^2$ and its performance is adjustable by DC supply. It can be operated as both up and down converters and it shows the conversion loss of about 13∼18 ㏈ over the full V-band frequencies.

• Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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• v.22 no.5
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• pp.431-435
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• 2009

The apparatus has been fabricated using the laser diode and microprocessor unit. The apparatus used a InGaAlP laser diode for laser medical therapy and was designed for a pulse width modulation type to increase stimulation effects. To raise the stimulus effect of the human body, the optical irradiation frequency could be set up. The study has executed in-vivo experiment by employing our own developed laser diode irradiation system to investigate the effects of the InGaAlP laser diode irradiation on the wound healing as a preliminary study aimed at the application of InGaAlP laser diode to wound healing of human skin injury. The study cut out whole skin layers of Sprague-Dawley rat on the back part in 1 cm circle and observed developing effects after executing light irradiation for 9 days, and in result it is found that the light irradiation rat showed earlier wound healing than non-irradiation rat during the experimental period. In addition, there are some differences found regarding the healing process between laser diode irradiated rats and non-irradiated ones.

• Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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• v.34D no.7
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• pp.15-22
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• 1997

A 10Gbit/s limiting amplifier IC for optical transmission system was implemented with AlGaAs HBT (heterojunction bipolar transistor) technology. HBTs with 2x10.mu. $m^{2}$ and 6x20.mu. $m^{2}$ emitter size were used. The HBT structures are based on metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) epitxy and employ a mesa structure with self-aligned emitter/base and sidewall dielectric passivation. IC was designed to support differnetial input and output. Small signal performance of the packaged IC showed 26dB gain and $f_{3dB}$ of 8GHz. A single ouput has 800m $V_{p-p}$ swing with more than 26dB dynamic range. The performance of the limiting amplifier was verified through single mode fiber320km transmission link test.est.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2014.02a
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• pp.449.1-449.1
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• 2014

GaAs태양전지는 일반적으로 22%이상의 변환효율을 가지는 차세대 태양전지이다. GaAs태양전지의 변환효율은 태양광이 조사되었을 때, p-type emitter와 n-type base의 p-n접합으로 생기는 Voc, Isc, FF 인자들로 인하여 그 값이 결정되는데, 이때 각 layer의 물리적 parameter에 의해 그 효율이 변한다. 일반적으로는 각 parameter가 증가할 때, 더욱 많은 전자로 인하여, 저 높은 변환효율을 기대할 수 있겠으나, 전자의 재결합이나 mobility의 감소와 같은 이유로 변환효율은 감소 될 수 있다. GaAs태양전지의 base layer의 두께와 도핑농도를 simulation한 결과 두께 $2.6{\mu}m$, 도핑농도 $7{\times}E17cm^{-3}$와 두께 $2.7{\mu}m$, 도핑농도 $8{\times}E17cm^{-3}$에서 25.86%의 가장 높은 에너지 효율을 가짐을 확인 할 수 있었다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 1991.06a
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• pp.135-138
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• 1991

A planar type PIN photodiode has been fabricated and discussed. We used OMVPE systems to grow the structure of u-InP/u-InP/n-InP. P-n junction was formed by Zn-diffusion method at 50$0^{\circ}C$, for 5 minitues. The device characteristics at 5V were as follows: Dark currents were distributed around 1nA. Capacitance was 1.6pF and responsivity was above 0.85 mA/mW for 1.3${\mu}{\textrm}{m}$ wavelength. Measured cut-off frequency(-3dB) at -5V was 1.1㎓.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 1999.07a
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• pp.92-92
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• 1999

양자우물 무질서화 기술은 양자우물구조의 성장후 그 구조의 밴드갭을 국부적으로 변화시킬 수 있는 기술적 특성으로 인해 기존의 광기능 소자 제작을 위한 결정재성장방법을 대체 혹은 보완할 수 있는 장점이 있기 때문에 최근 활발히 연구되고 있다. 여러 가지 양자우물 무질서화공정중 유전체 박막을 사용하는 impurity free vacancy disordering (IFVD) 공정은 불순물이 개입하지 않는 공정으로 공정후 양질의 반도체 표면을 유지할 수 있는 장점이 있으며 고아소자 제작시 광손실의 증가를 초래하지 않는다. 이 공정은 vacancy의 source로 작용하는 유전체박막의 특성에 크게 의존하며 GaAs/AlGaAs 계열의 양자우물에서는 많은 연구가 진행되었으나, 광통신용 광소자의 제작에 사용되는 InGaAs/InGaAsP 계열의 양자우물에 대한 연구는 충분하지 않다. 그림 1은 IFVD를 위해 본 연구에서 사용된 CBE로 성장한 InGaAs/InGaAsP SQW 구조이다. 성장된 구조는 상온에서의 QW peak, λpl=1550nm 이었다. IFVD를 위한 유전체 덮개층으로는 PECVD로 성장 조정하여 박막성장시의 조건을 변화시킴으로써 유전체 덮개층 박막의 특성을 변화시켰다. 그림 2는 질소 분위기의 furnace에서 75$0^{\circ}C$로 8분간 IFVD를 수행한후 측정한 무질서화된 양자우물의 상온 PL spectrum을 보여준다. 그림에서 보는바와 같이 동일한 SiNx 덮개층을 사용하는 경우에도 적어도 24meV의 bandgap차를 갖는 양자우물을 영역을 동일한 기판상에 제작할 수 있음을 알 수 있다. 일반적으로 IFVD 방법으로 국부적으로 양자우물을 무질서화 하기 위해서는 SiNx/SiO2와 같은 강이한 박막을 사용하였지만 이 방법을 사용하는 경우 상이한 박막을 사용하는 데서 야기되는 제반 문제를 해결할 수 있을 것으로 판단된다. 따라서 이 기술은 기존의 광소자 제작을 위한 IFVD 방법의 문제점을 해결할 뿐만 아니라 결정 재성장 없이 도일한 기판상에 국부적으로 상이한 bandgap 영역을 만들 수 있기 때문에 광소자 제작에 적극 이용될 수 있다.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2003.11a
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• pp.510-513
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• 2003

Our Zn diffusion into n-type $GaAs_{0.40}P_{0.60}$ used ampoule-tube method to increase IV. N-type epitaxial wafers were preferred by $H_2SO_4$-based pre-treatment. $SiO_2$ thin film was deposited by PECVD for some wafers. Diffusion times and diffusion temperatures respectability are 1, 2, 3 hr and 775, $805^{\circ}C$. LED chips were fabricated by the diffused wafers at Fab. The peak wavelength of all chips showed about $625{\sim}650\;nm$ and red color. The highest IV is about 270 mcd at the diffusion condition of $775^{\circ}C$, 3h for the wafers which didn't deposit $SiO_2$ thin films. Also, the longer diffusion time is the higher IV for the wafers which deposit $SiO_2$ thin films.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.164-164
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• 2011

본 연구에서는 InAs 양자점 태양전지의 활성영역에 크기가 다른 양자점을 삽입하여 그 광학적 특성변화를 photoreflectance (PR)와 photoluminescence (PL)를 이용하여 연구하였다. 본 연구에 사용된 InAs 양자점 태양전지 구조는 n+-GaAs (100) 기판 위에 n+-GaAs buffer를 300 nm 성장 후 활성영역에 InAs 양자점과 40 nm 의 n-GaAs spacer를 이용하여 8층의 양자점을 삽입하였다. 그 위에 n-GaAs $1.14{\mu}m$와 p+-GaAs $0.6{\mu}m$, p+-AlGaAs window를 50 nm 성장하고 ohmic contact을 위하여 p+-GaAs 10 nm 성장하였다. 활성영역에 사용된 InAs 양자점의 크기는 InAs 조사량을 1.7 ML~3.0 ML까지 변화시키며 조절하였다. 양자점 태양전지의 활성영역에 삽입한 양자점의 크기에 따른 photoreflectance 측정에서 InAs 조사량이 0~2 ML 사이에서는 Franz-Keldysh oscillation (FKO)의 주기가 짧아지고 2.5 ML 이상에서는 일정한 값 가짐을 보였다. 이는 양자점의 크기가 커질수록 내부 응력에 의한 전기장의 변화에 의한 것으로 사료된다. 아울러 InAs 양자점 태양전지의 photoluminescence 측정 결과 상온에서 1.35 eV 근처에 발광이 관측되었으며 InAs 조사량이 증가할수록 발광중심 낮은 에너지쪽으로 이동함을 보였으며 태양전지 효율은 2.0 ML 인 경우 최고치를 나타내었다. InAs 조사량을 2.0 ML 이상 증가 시킨 경우는 효율이 점진적으로 감소하였다.

• Journal of the Korean Vacuum Society
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• v.10 no.2
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• pp.257-261
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• 2001

InAs/GaAs quantum dots between InGaAs/GaAs superlattices were grown by MBE. The quantum dots size is shown to be very uniform by measuring photoluminescence spectra of quantum dots. Single photon structures based on self-consistent calculation were grown and single photon devices were fabricated by e-beam lithography. The electrical hystereses of I-V curves for single Photon devices would result from single electron-hole recombination, where the resonant-tunneling voltages of electron and hole are different.

• Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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• v.41 no.9
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• pp.1-9
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• 2004

Analytical expressions for breakdown voltages of abrupt pn junction in GaP, GaAs and InP of III-V binary semiconductors was induced. Getting analytical breakdown voltage, effective ionization coefficients were extracted using ionization coefficient parameters for each materials. The result of analytical breakdown voltages followed by ionization integral agrees well with numerical and experimental results within 10% in error.