Electroless plating of nickel was studied electrochemically in the presence of complexing agents. Nickel sulfate solution with dimethylamine borance(DMAB) as the reducing agent was used. Effects of temperature pH, concentration and complexing agents-citric acid, EDTA, tartaric acid-were studied.Experimental meas-urements showed that the rate of electroless nickel deposition was closely related to electrochemical parame-ters such as temdperature, pH, concentration and the properties of complexing agets.
Relationships between the plating condition and the plating rate of the deposition film for the electroless plating of Co-Cu-P alloy were discussed in this report. The result obtained from this experiment were summarized as follow ; The optimum bath composition was consisted of 0.8 ppm thiourea as a stabilizing agent. Composition of the deposit was found to be uniform after two hours of electroless plating. Plating rates of nickel-catalytic surface and zincate-catalytic surface were found to be very closely equal, but the plating time of nickel-catalytic surface took longer than that of the zincated-catalytic surface.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.21
no.8
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pp.27-33
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2004
The ultra-precision cutting is a key technique for the manufacture of optical components such as aluminium mirrors, electroless nickel mirror, plastic mirror in a variety of advanced science and technology applications. The paper presents experimental results of ultra-precision diamond fuming of electroless nickel materials. In general, the cutting condition such as feed rate and depth of rut, have effect on the surface roughness in ultra-precision diamond turning. To obtain an optimal cutting condition, we studied the effect of the cutting speed. the tool length, the tool nose radius, the feed rate and depth of cut on the surface roughness. So, the relationship of the surface roughness and cutting condition has been clarified. From the experimental results, the machined surface roughnesses were obtained less than 1nm rms.
This paper deals with the effects of the surfactant and preplate process (sensitization and activation) on electroless copper plating on carbon nano-fiber (CNF). Ultrasonic irradiation was applied both during dispersion of CNF and during electroless plating containing preplate process. The dispersion of CNF and flatness of the plated copper film were discussed based on the changes in surfactant concentration and preplate process time. It was clearly shown that high concentration of surfactant and long time of preplate process could promote the agglomeration of CNF and uneven copper plating on CNF.
This paper is relative to the electroless deposition of nickel or copper films on polyimide and polytetrafluoroethylene substrates. First, it is presented an original approach of the electroless process which consists in grafting nitrogenated functionalities on the polymer surfaces via plasma or VUV-assisted treatments operating in a nitrogen-based atmosphere ($NH_3$, $N_2$), and then in catalysing the grafted surfaces in an aqueous tin-free, Pd(+2)-based solution. Adhesion of the Pd(+2) catalytic species on polymer surfaces is explained by the formation of strong covalent bonds between these species and the grafted nitrogenated groups. Second, it is show how a fragmentation test performed in conjunction with electrical measurements can be used to characterize the practical adhesion of the electroless coatings deposited on flexible polymer substrates, and to evidence the influence of some experimental parameters (plasma treatment time and nature of the gas phase).
In the present work, a low cost and fine pitch bumping process by electroless Ni/immersion Au UBM (under bump metallurgy) and stencil printing for the solder bump on the Al pad is discussed. The Chip used this experimental had an array of pad 14x14 and zincate catalyst treatment is applied as the pretreatment of Al bond pad, it was shown that the second zincating process produced a dense continuous zincating layer compared to first zincating. Ni UBM was analyzed using Scanning electron microscopy, Energy dispersive x-ray, Atomic force microscopy, and X-ray diffractometer. The electroless Ni-P had amorphous structures in as-plated condition. and crystallized at 321 C to Ni and Ni$_3$P. Solder bumps are formed on without bridge or missing bump by stencil print solder bump process.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2003.06a
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pp.538-541
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2003
Ultra-precision machining was carried out on a electroless nickel materials using single crystal diamond tools. The effects of the cutting velocity, the tool length, the tool nose radius, the feed rate and depth of cut on the surface roughness were studied. In this paper, the cutting condition for getting nano order smooth surface of electroless nickel have been examined experimentally by the ultra-precision machine and single crystal diamond tools. And also. the surface roughness was measured by the three dimension
Mechanical solderless chip packaging with small gold bumps or metal balls has increased in the electronic devices. The preparation of conductive particles (5~7 $\mu\textrm{m}$ diamiter) by electroless nickel plating have been investigated. Generally, batch type electroless plating is applied to provide conductivity on the nonconductors. Since the surface areas of particles are much larger than the bulk substrate, accordingly the electroless plating bath becomes unstable. Thus, we applied the continuous dropping method for the preparation of conductive particles. The uniform coverage of deposited nickel on the particles was obtained by using ammonium acetate as a complexing agent, and surface coverage is further improved without coagulation of particles by the surface active agent treatment before enter the plating bath.
In this study, the adsorption behaviors of mercury ions on the electroless Cu-plated activated carbons have been investigated. The amount of copper on activated carbons have been confirmed by atomic absorption spectrophotometer (AAS). The surface properties of the ACs studied have been characterized by using Boehm's titration method and scanning electron microscopy (SEM).Experimental results showed the adsorption capacity of mercury ions was increased as the electroless Cu plating. This was probably due to the introduction of copper on ACs leaded to an increase in the surface basicity.
The typical MCFC (molten carbonate fuel cell) anode is made of Ni-10%Cr alloy. The work of this paper is focused concerning long life of anode because Ni-10% Cr anode is suffering from sintering and creep behavior during cell operation. Therefore, Ni-coated Alumina powder($20{\mu}m$) was developed by electroless nickel plating. Optimum condition of electroless nickel coation on $20{\mu}m$ alumina is as follows: pH 11.7, temperature $65{\sim}80^{\circ}C$, powder amount $100cm^2/l$. The deposition rate for Ni-electroless plating was as a function of temperature and activation energy was evaluated by Arrhenius Equation thereby activation energy calculated slope of experimental data as 117.6 kJ/mol, frequency factor(A) was $6.28{\times}10^{18}hr^{-1}$, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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