We studied the nematic liquid crystaL(NLC) aligning capabilities using the new alignment material of a nitrogenated diamond-like carbon(NDLC) thin film. The NDLC thin film exhibits high electrical resistivity and thermal conductivity that are similar to the properties shown by diamond-like carbon (DLC) thin films. The diamond-like properties and nondiamond-like bonding make NDLC an attractive candidate for applications. A high pretilt angle of about 9.9$^{\circ}$ by ion beam(IB) exposure on the NDLC thin film surface was measured. A good LC alignment is achieved by the IB alignment method on the NDLC thin films surface at annealing temperature of 200 $^{\circ}C$. The alignment defect of the NLC was observed above annealing temperature of 250 $^{\circ}C$. Consequently, the high pretilt angle and the good LC alignment by the IB alignment method on the NDLC thin film surface can be achieved.
We studied the nematic liquid crystal (NLC) aligning capabilities using the new alignment material of the SiC (Silicon Carbide) thin film. The SiC thin film exhibits good chemical and thermal stability. The good thermal and chemical stability makes SiC an attractive candidate for electronic applications. A vertical alignment of nematic liquid crystal by ion beam exposure on the SiC thin film surface was achieved. The about $87^{\circ}$ of stable pretilt angle was achieved at the range from $30^{\circ}$ to $45^{\circ}$ of incident angle. The good LC alignment is main-tained by the ion beam alignment method on the SiC thin film surface at high annealing temperatures up to 300.
본 논문에서는 상호상관함수를 이용한 지문인식 기법을 제시한다. 본 기법은 특징추출, 지문정렬, 지문매칭으로 구성되는데, 이중에서 본 논문은 새로운 지문정렬 기법을 제안한다. 본 지문정렬 기법에서는 특징점의 융선방향 각도에 대해 상호상관함수를 적용하여 두 지문사이의 회전각도를 구하고, 그후 회전된 지문으로부터 두 지문간의 이동변위를 구하여 지문을 정렬한다. 본 정렬기법은 과도한 탐색에 의존하지 않고 두 지문의 회전각도와 이동변위를 구할 수 있다 제시된 기법으로 지문인식 실험을 한 결과 2.086%의 타인수락오류율(FAR)에 대해 17.299%의 본인거부오류율(FRR)을 얻을 수 있었다.
수 마이크로 단위로 계측되는 반도체 COG의 불량 검사에 있어서 칩 얼라인은 검사의 정확성을 높이는데 매우 중요한 역할을 한다. 본 논문에서는 칩 얼라인의 정확성을 높이기 위해서 영역분할 패턴매칭 방법을 제안한다. 영역분할 패턴매칭 방법은 세분화 된 영역 내의 특징치들과 영역들 간의 상관관계를 비교하여 매칭된다. 그리고 불량 패턴으로 인한 매칭오류를 최소화 하기 위해서 패턴 주위의 3영역을 학습시킨다. 제안된 방법은 분할 된 영역에서 특징치를 찾기 때문에 매칭 시간을 단축시키는 효과와 정확성을 높일 수 있는 이점을 가지고 있다.
By using $45^{\circ}$ obliqued evaporation method with electron beam system, uniformly vertical liquid crystal (LC) alignment was achieved. And a high pretilt angles of about $2.5^{\circ}$ were measured. Also, it was verified that there are no variations of pretilt angle as a function of $SiO_x$ thin film thickness 20 nm and 50 nm. A good LC alignment states were observed at annealing temperature of $250^{\circ}C$. Consequently, the high pretilt angle and the good thermal stability of LC alignment by $45^{\circ}$ obliqued electron beam evaporation method on the $SiO_x$ thin film can be achieved.
다중 서열 정렬(multiple sequence alignment, MSA)은 단백질과 핵산 서열들의 분석에 필요한 가장 중요한 도구이다. 생물학적인 서열들은 그들 사이의 유사성과 차이점을 보여주기 위하여 각각의 서열들을 수직적으로 정렬한다. 본 논문에서는 클러스터링 분기를 이용하여 두 그룹의 서열들 사이에서 정렬을 수행하는 효율적인 그룹 정렬 방법을 제안하였다. 제안한 알고리즘(Multiple Sequence Alignment using Clustering Divergence : CDMS)은 하향식 발견 방법인 트리 형태의 병합을 위해 클러스터링 방법으로 구축하였다. 클러스터링 방법은 가장 긴 거리를 가지는 서열을 두 개의 클러스터로 나눌 수 있다는 것에 기초하였다. 제안한 새로운 서열 정렬 알고리즘은 기존의 Clustal W알고리즘 보다 질적 향상과 처리 시간 단축 O($n^{3} L^{2}$)이 기대된다.
서열 정렬에 있어서 전체를 비교하여 두 서열 사이의 최대의 유사성 또는 상동성을 찾는 전역 정렬은 넓은 범위를 선호하게 되는 편향성을 갖게 된다. 비일치 부분을 과감히 제거하고 높은 일치도를 갖는 부분 영역을 정렬하게 되면 정렬점수를 높이는 효과를 갖게 된다. 여러 개의 부분 지역 정렬을 탐색하게 하는 다중 지역정렬 방법을 적용하여 다수의 지역정렬을 수행하는 알고리즘을 구현하고 결과를 분석해 본다. 지역 정렬에 일반적으로 사용되는 Smith-Waterman 알고리즘의 제한점 중 하나인 서열이 길어지는 것을 방지하고, sub-optimal sequence를 찾기 위한 방법을 응용하여 다중지역 정렬을 수행한다.
웨이퍼 Pre-Alignment는 반도체 공정에서 장비에 웨이퍼를 놓기 전에 웨이퍼의 중심 및 방향을 정확하게 정렬할 필요가 있는데, 이를 위해서 일정한 수준 이하로 중심과 방향을 찾아 Alignment 하는 방법을 말한다. 본 논문에서는 웨이퍼를 Alignment 하기 위해 기존의 Mechanical한 방법이 아닌 Area 카메라를 통한 비접촉식 방법을 이용하였다. 이 방법은 웨이퍼를 45도씩 8번씩, 한 바퀴를 회전하여 이미지를 획득한 뒤, 이미지의 웨이퍼의 에지값 들을 이용하여 Least Square Circle Fitting을 이용하여 웨이퍼의 중심과 방향을 정확하게 측정하여 Alignment를 한다.
The errors can cause the serious loss of the performance of a precision machine system. In this paper, we proposed the method of allocating the alignment tolerances of the parts and applied this method to get the optimal tolerances of a Confocal Scanning Microscope. In general, tight tolerances are required to maintain the performance of a system, but a high cost of manufacturing and assembling is required to preserve the tight tolerances. The purpose of allocating the optimal tolerances is minimizing the cost while keeping the high performance of the system. In the optimal problem, we maximized the tolerances while maintaining the performance requirements. The Monte Carlo Method, a statistical simulation method, is used in tolerance analysis. Alignment tolerances of optical components of the confocal scanning microscope are optimized to minimize the cost and to maintain the observation performance of the microscope. We can also apply this method to the other precision machine system.
In this paper we propose an angular rate and acceleration matching method for initial transfer alignment in aircraft. The conventional angular rate and acceleration matching method performs compensation for the lever arm effects between the master and slave INS before initial alignment. However, the conventional method does not take the flexure angular acceleration into account and thus is not effective when the flexure angular acceleration is large. We propose a new angular rate and acceleration matching method to cope with the flexure acceleration between the master and slave INS and compare the results with those of the conventional method by simulation. The simulation results show that the proposed matching method is better than the conventional matching method in case of large flexure acceleration.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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