The effect of post-annealing temperature on $Bi_{3.25}La_{0.75}Ti_3O_{12}$ thin films deposited by RF magnetron sputtering
(RF magnetron sputtering법에 의한 BLT 박막의 후열처리 온도에 관한 영향)
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- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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- 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.2
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- pp.624-627
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- 2003