Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2003.07b
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- Pages.624-627
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- 2003
The effect of post-annealing temperature on $Bi_{3.25}La_{0.75}Ti_3O_{12}$ thin films deposited by RF magnetron sputtering
RF magnetron sputtering법에 의한 BLT 박막의 후열처리 온도에 관한 영향
- Lee, Ki-Se (Sungkyunkwan Univ.) ;
- Lee, Kyu-Il (Sungkyunkwan Univ.) ;
- Park, Young (Sungkyunkwan Univ.) ;
- Kang, Hyun-Il (Sungkyunkwan Univ.) ;
- Song, Joon-Tae (Sungkyunkwan Univ.)
- 이기세 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
- 이규일 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
- 박영 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
- 강현일 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
- 송준태 (성균관대학교 정보통신공학부)
- Published : 2003.07.10
Abstract
The BLT thin-films were one of the promising ferroelectric materials with a good leakage current and degradation behavior on Pt electrode. The BLT target was sintered at