강유전체 게이트 구조에서의 $Al_2O_3$ 완충층의 효과
(Effects of $Al_2O_3$ films as buffer layer in ferroelectric gate structure)
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2003년도 춘계학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.89-89
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- 2003