In2O3 계열의 산화물 전도성 투명 전극은 최근 디스플레이, 태양전지 등 전자산업에서 중요한 소재로 전 세계적으로 많이 연구되고 있다. 또한 3.6 eV의 wide bandgap을 가짐으로서 센서 등의 반도체 소자로의 응용가능성이 매우 큰 것으로 알려져 있다. 기존의 연구는 In2O3에 SnO2, Al2O3, Ga2O3 등을 혼합하여 화합물 형태의 투명전극 소재를 개발하고, 전도성 및 투과율 등을 개선시키는데 초점이 맞춰져왔다. 최근에 들어서 나노스케일 물질의 제조 기술 개발로 낮은 차원의 In2O3 나노구조는 센서나 발광다이오드와 같은 전자기기의 제작을 위해서 연구 되었는데, 본 논문에서는 Carbon을 doping하여 p-형 반도체로의 응용 가능성을 고찰하였다. 본 논문에서는 In2O3:C 박막을 radio-frequency magnetron sputtering 방법으로 sapphire(0001) 기판위에 증착하였다. 통상적으로 ceramic target에 carbon을 혼합하여 sintering하여 제작한 ceramic target 대신, In2O3 powder와 CNT를 혼합하여 powder형태의 sputter target을 사용하였다. 박막의 증착 초기에는 매우 평평한 층구조로 성장하였고, 박막의 두께가 증가함에 따라 섬조직이 생성되기 시작하여 표면거칠기가 매우 크게 증가하였다. 박막의 두께가 500 nm 이상이 되면 나노 피라미드가 생성되는데, 이는 In2O3의 결정구조에 기인한 것으로 판단된다.
Kim, Min-Su;Nam, Gi-Woong;Kim, So-A-Ram;Lee, Dong-Yul;Kim, Jin-Soo;Kim, Jong-Su;Son, Jeong-Sik;Leem, Jae-Young
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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pp.310-310
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2012
ZnO thin films were grown on porous silicon (PS) by plasma-assisted molecular beam epitaxy (PA-MBE). The optical properties of the ZnO thin films grown on PS were studied using room-temperature, low-temperature, and temperature-dependent photoluminescence (PL). The full width at half maximum (FWHM) of the near-band-edge emission (NBE) from the ZnO thin films was 98 meV, which was much smaller than that of ZnO thin films grown on a Si substrate. This value was even smaller than that of ZnO thin films grown on a sapphire substrate. The Huang-Rhys factor S associated with the free exciton (FX) emission from the ZnO thin films was found to be 0.124. The Eg(0) value obtained from the fitting was 3.37 eV, with ${\alpha}=3.3{\times}10^{-2}eV/K$ and ${\beta}=8.6{\times}10^3K$. The low- and high-temperature activation energies were 9 and 28 meV, respectively. The exciton radiative lifetime of the ZnO thin films showed a non-linear behavior, which was established using a quadratic equation.
Single-crystal like $MgB_2$ thin film was grown on (000l) $Al_2O_3$ substrate by using hybrid physical-chemical vapor deposition (HPCVD) system. Single crystal properties were studied by X-ray diffraction (XRD) and the full width at half maximum (FWHM) of the (0001) $MgB_2$ peak is $15^{\circ}$, which is very close to that has been reported for $MgB_2$ single-crystal. It indicates that the crystalline quality of thin film is good. Temperature dependence on resistivity was investigated by physical property measurement system (PPMS) in various applied fields from 0 to 9 T. The upper critical field ($H_{c2}$) and irreversibility field ($H_{irr}$) were determined from PPMS data, and the estimated values are comparable with that of $MgB_2$ single-crystals. The thin film shows a high critical temperature ($T_c$) of 40.4 K with a sharp superconducting transition width of 0.2 K, and a high residual resistivity ratio (RRR=21), it reflects that $MgB_2$ thin film has a pure phase structure.
초임계 이산화탄소를 이용하여 다공성 고분자 모노리스를 제조하는 실험적 연구를 행하여, 단량체의 종류와 중합반응 조건들이 생성되는 고분자 모노리스의 물성에 미치는 영향을 실험적으로 조사하였다. 중합반응은 반응이 진행되는 동안 반응물의 상변화를 관찰할 수 있도록 사파이어 창을 부착한 고압 반응기 내에서 진행되었으며, 단량체의 농도가 매우 낮은 경우를 제외하고는 반응기 내부형태와 동일한 형상의 건조하고 다공성인 고분자 모노리스를 얻었을 수 있었다. 생성되는 고분자 모노리스의 비 표면적은 반응혼합물 중의 단량체 농도와 중합반응 압력에 따라 증가하였으며, 기계적 강도는 경도 보강제 MMA를 첨가하여 증대시킬 수 있었다.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
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pp.583-588
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2005
Indium tin oxide (ITO) is a commonly used conducting transparent oxide film (CTO) used in flat panel display applications. Direct write laser ablation is sometimes employed for ITO patterning and it is important that the substrate material and remaining ITO be affected as little as possible by the laser ablation. In this investigation, femtosecond laser ablation of ITO was studied to identify laser processing parameters which cleanly ablated ITO with a minimum of damage to a glass substrate and surrounding ITO. The Ti:Sapphire chirp pulse amplified femtosecond laser used for the experiments had a wavelength of 775nm and produced pulses with a duration of 150fs at a rate of 2 kHz. Ablation was carried out at a sufficiently high panel scanning speed that single ablation spots could be studied. The pulse energy was adjusted to determine feasible spot diameters and depths which could be ablated into the ITO without damaging the glass substrate. Next, ablation of lines without glass damage was also demonstrated. Experiments were also performed with a high repetition rate (100kHz) femtosecond laser.
We have investigated the sensing properties of ethanol gas sensor with pure ZnO and Ga-doped ZnO nanowires on Au coated (0001) sapphire substrates grown by hot walled pulsed laser deposition. Randomly aligned ZnO nanowires arrays were grown on a Au-electrode patterned under ambient conditions. ZnO nanowires have various sizes and shapes with a different substrate position inside a furnace. The average of length and diameter of the ZnO nanowires were $8\;{\mu}m$ and 100 nm respectively, and confirmed by field emission scanning electron microscopy. Sensitivity chanege characterization of the gas sensor was found that measured sensitivities of the ethanol gas sensors were 83.3% and 68.3% at $300^{\circ}C$ respectively.
Highly c-axis oriented poly-crystalline GaN with a dimension of $1{\sim}3\;{\mu}m$ was deposited on $c-Al_2O_3$ substrate by vapor transport epitaxy (VTE) method at the temperature range of $900{\sim}1150^{\circ}C$. XRD intensities from (00'2) plane of grown GaNs were increased with reaction conditions which indicate the improvement of the crystal quality. In the PL spectra measured at 10 K, the spectrum composed with the neutral-donor bound exciton-related emission at 3.47 eV, crystal defect-related emission band at 3.42 eV and with its phonon replicas. The fact that intensity of $I_2$ were increased and FWHM were decreased with growth conditions means that the quality of GaN crystals were improved. With this simple VTE technology, we confirm that the GaNs were simply deposited on sapphire substrate and crystal quality related to optical properties of GaN grown by VTE were relatively good. PL emission without deep level emission in spite of polycrystalline structure can be applicable to the fabrication of large area and low cost optical devices using poly-GaN grown by VTE.
Effects of nitrogen and oxygen annealing on the carrier concentration, carrier mobility, electrical resistivity and PL characteristics as well as the crystallinity of ZnO films deposited on sapphire substrates by atomic layer deposition (ALD). X-ray diffraction (XRD), Scanning electron microscope (SEM), photoluminescence (PL) analyses, and Hall measurement were performed to investigate the crystallinity, optical properties and electrical properties of the ZnO thin films, respectively. According to the XRD analysis results the crystallinity of the ZnO film annealed in an oxygen atmosphere is better than that of the ZnO film annealed in a nitrogen atmosphere. Annealing undoped ZnO films grown by ALD at a high temperature above $600^{\circ}C$ improves the crystallinity and enhances W emission but deteriorates the electrical conductivity of the flms. The resistivity of the ZnO film annealed particularly at $800^[\circ}C$ in a nitrogen atmosphere is much higher than that annealed at the same temperature in an oxygen atmosphere.
GaN 단결정 박막은 halide vapor phase epitaxy(HVPE)방법을 사용하여 사파이어 기판위에 헤케로에피탁시하게 성장시켰다. 이렇게 제조된 박막은 n형 전동성을 갖는다. 아연(Zn)을 받개 불순물로 도핑시켜 절연형 GaN 박막을 만들었는데 2.64과 2.43eV의 청색영역에서 발광 피크를 가졌다. 본 연구에의해 GaN 박막은 MIS(metal-insulator-semiconductor) 접합구조로 제작이 가능함을 시사하였고, 이종접합형 발광소자 개발에 기초자료가 될 것으로 전망된다.
By thermal evaporation method, well-aligned ZnO nanowires were synthesized on sapphire substrate at $1000^{\circ}C$ with different oxygen flow rate by using pure ZnO powder (99.999 %). The as-synthesized ZnO nanowires were characterized by field emission scanning electron microscopy (FESEM) and transmission electron microscopy (TEM). The well-aligned nanowires are single crystalline in nature and perpendicularly grown along the c-axis. Also the growth rate of nanowires, such as diameter and length, had a tendency to increase as oxygen flow rate increased. Based on the PL measurement of ZnO nanowires, we found that the near band edge of emission redshifted with the increasing intensity of the defect-related green emission in proportion to the increase of oxygen flow rate. "This research was supported by the Korea Research Foundation Grant funded by the Korean Government(MOEHRD)" (The Regional Research Universities Program/Chungbuk BIT Research-Oriented University Consortium).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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