• 제목/요약/키워드: p-n junction diode

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SOI 수평형 접합의 항복 전압 향상을 인한 Negative Curvature(NC) 효과 (A Negative Curvature effect for breakdown voltage of lateral junction on SOI)

  • 변대석;최연익;한민구
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1993년도 정기총회 및 추계학술대회 논문집 학회본부
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    • pp.243-245
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    • 1993
  • The negative curvature effect on the breakdown voltage of p-n junction, which may realize 1-D breakdown voltage due to the lower peak electric field at the junction, is proposed and verified by the fabrication of lateral diode on Silicon-on-Insulator (SOI) together with MEDICI simulation. The experimental and simulation results show good agreements with the theoretical expectation. The proposed method is effectively applicable to the lateral, especially on SOI, power devices.

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CVD 텅스텐의 응력 및 접합 누설전류 특성 (Stress and Junction Leakage Current Characteristics of CVD-Tungsten)

  • 이종무;최성호;이종길
    • 한국진공학회지
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    • 제1권1호
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    • pp.176-182
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    • 1992
  • CVD 텅스텐의 응력 및 접합 누설전류 특성을 조사하였다. 응력-연속 어닐링온도 의 그래프는 냉각곡선의 응력이 가열곡선의 그것보다 더 높게 나타나는 이력현상을 보인다. SiH4 환원에 의하여 증착된 텅스텐 막이 수소환원에 의하여 증착된 막보다 전반적으로 내부 응력 뿐만 아니라 열 응력도 더 큰 것으로 나타났으며 전자가 후자에 비해 실리콘 기판과의 부착특성이 불량한 것도 이러한 응력차와 유관한 것으로 생각된다. SiH4 환원에 의하여 형 성된 텅스텐 막은 상온에서 인장 응력 상태에 있으며, 온도가 증가됨에 따라 응력이 감소하 다가 $700^{\circ}C$ 부근에서 압축 응력 상태로 바뀌고, 계속 더 온도가 증가됨에 따라 압축 응력 이 급격히 증가한다. SiH4 환원에 의한 텅스텐 막의 증착 온도가 증가함에 따라 n+/p 접합 의 누설전류가 크게 증가하며, 특히 $400^{\circ}C$로 온도가 증가함에 따라 누설전류의 증가폭이 크게 나타났는데, 이것은 수소환원 반응시와 유사하게 텅스텐의 침투(encroachment)에 의 한 실리콘 소모가 그 원인이다. SiH4/WF6 유속비의 증가에 따라서도 누설전류가 증가하는 데 그 효과는 미소한 것으로 나타났다.

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세라믹 패키지를 이용한 표면 실장형 다이오드의 제작과 특성 평가 (Manufacture and Characteristic of Surface Mounted Device Type Fast Recovery Diode with Ceramic Package)

  • 전명표;조상혁;조정호;김영익;유인기
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 Vol.19
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    • pp.221-221
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    • 2006
  • The SMD type P-N junction diode with ceramic package for diode case were fabricated. It was made this diode with simple process from $Al_2O_3$ ceramic chip, solder preform, diode chip, coating reagent and conductive paste for chip terrmination. Its merit is small size, easy manufacture. fast cooling with ceramic case. The electric characteristics of the diode such as reverse recovery time, breakdown voltage, forward voltage, and leakage current were 5 28ns, 1322V, 1.08V, $0.45{\mu}A$.

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A Study on the Electrical Characteristic Analysis of c-Si Solar Cell Diodes

  • Choi, Pyung-Ho;Kim, Hyo-Jung;Baek, Do-Hyun;Choi, Byoung-Deog
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • 제12권1호
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    • pp.59-65
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    • 2012
  • A study on the electrical characteristic analysis of solar cell diodes under experimental conditions of varying temperature and frequency has been conducted. From the current-voltage (I-V) measurements, at the room temperature, we obtained the ideality factor (n) for Space Charge Region (SCR) and Quasi-Neutral Region (QNR) of 3.02 and 1.76, respectively. Characteristics showed that the value of n (at SCR) decreases with rising temperature and n (at QNR) increases with the same conditions. These are due to not only the sharply increased SCR current flow but the activated carrier recombination in the bulk region caused by defects such as contamination, dangling bonds. In addition, from the I-V measurements implemented to confirm the junction uniformity of cells, the average current dispersion was 40.87% and 10.59% at the region of SCR and QNR, respectively. These phenomena were caused by the pyramidal textured junction structure formed to improve the light absorption on the device's front surface, and these affect to the total diode current flow. These defect and textured junction structure will be causes that solar cell diodes have non-ideal electrical characteristics compared with general p-n junction diodes. Also, through the capacitance-voltage (C-V) measurements under the frequency of 180 kHz, we confirmed that the value of built-in potential is 0.63 V.

전자 조사된 실리콘 $p^--n^-$ 접합 다이오드의 transient 거동 (Reverse recovery and other electrical properties of an electron-irradiated silicon $p^--n^-$ junction diode)

  • 엄태종;강승모;박현아;김상진;김현우;이종무;조중렬;김계령
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2003년도 춘계학술발표강연 및 논문개요집
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    • pp.118-118
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    • 2003
  • 전력반도체 소자로 사용되는 p$^{-}$-n$^{-}$ 접합 다이오드의 스위칭 속도를 향상시키고 그에 따른 에너지 손실을 감소시키기 위해 전자 조사를 실시하였다. Reverse recovery time이 현저히 감소한 반면, 전자 조사에 의한 누설전류와 on-state 전압 강하와 같은 그 외의 전기적 특성 저하는 무시할 수 있는 정도였다. 그밖에 시료의 deep level transient spectroscpy(DLTS) 분석 결과와 secondary ion mass spectrometry(SIMS) depth profile을 근거로 결함 분포와 전자조사 유도결함의 유형을 논하였다.

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극히 얕은 $N^+$-P 실리콘 접합에서의 어발런치 현상 (Avalanche Phenomenon at The Ultra Shallow $N^+$-P Silicon Junctions)

  • 이정용
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제6권3호
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    • pp.47-53
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    • 2007
  • Ultra thin Si p-n junctions shallower than $300{\AA}$ were fabricated and biased to the avalanche regime. The ultra thin junctions were fabricated to be parallel to the surface and exposed to the surface without $SiO_2$ layer. Those junctions emitted white light and electrons when junctions were biased in the avalanche breakdown regime. Therefore, we could observe the avalanche breakdown region visually. We could also observe the influence of electric field to the current flow visually by observing the white light which correspond to the avalanche breakdown region. Arrayed diodes emit light and electrons uniformly at the diode area. But, the reverse leakage current were larger than those of ordinary diodes, and the breakdown voltage were less than 10V.

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La0.7Ca0.3MnO3 박막의 저산소압 증착과 물리적 특성의 영향 및 이종접합구조에서의 P-N 접합 특성 (Low Oxygen Pressure Growth and its Effects on Physical Properties of La0.7Ca0.3MnO3 Thin Films and Characteristics of P-N Junction in Heterostructure)

  • 송종현
    • 한국자기학회지
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    • 제19권3호
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    • pp.94-99
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    • 2009
  • Pulsed Laser Deposition 방법으로 합성된 $La_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$ 박막의 물리적 특성을 증착 조건에 따라 조사하였다. 기존에 알려진 바와는 매우 달리 매우 낮은 산소 분압 ($1.0{\times}10^{-5}$, $1.0{\times}10^{-6}Torr$)에서도 큐리 온도가 높은 박막의 합성이 이루어졌으며 이는 박막의 합성 과정에서 쳄버 내부의 산소 분압보다는 플라즈마 plume의 모양과 그 내부 물질들의 운동에너지가 박막의 질을 결정하는 매우 중요한 요소임을 의미한다. 이러한 양질 박막의 합성 증착 조건을 이용하여 $La_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$ 을 Nb가 도핑된 $SrTiO_3$ 기판위에 증착함으로써 p-n 접합을 제작하였으며 이의 전류-전압곡선이 정류 특성을 보였고 그 모양은 자기장에 의해 바뀔 수 있음을 확인하였다.

CdSe/ZnS 나노결정 양자점 Pyrolysis 제조와 발광다이오드 소자로의 응용 (Pyrolysis Synthesis of CdSe/ZnS Nanocrystal Quantum Dots and Their Application to Light-Emitting Diodes)

  • 강승희;키란쿠마르;손기철;허훈회;김경현;허철;김의태
    • 한국재료학회지
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    • 제18권7호
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    • pp.379-383
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    • 2008
  • We report on the light-emitting diode (LED) characteristics of core-shell CdSe/ZnS nanocrystal quantum dots (QDs) embedded in $TiO_2$thin films on a Si substrate. A simple p-n junction could be formed when nanocrystal QDs on a p-type Si substrate were embedded in ${\sim}5\;nm$ thick $TiO_2$ thin film, which is inherently an n-type semiconductor. The $TiO_2$ thin film was deposited over QDs at $200^{\circ}C$ using plasma-enhanced metallorganic chemical vapor deposition. The LED structure of $TiO_2$/QDs/Si showed typical p-n diode currentvoltage and electroluminescence characteristics. The colloidal core-shell CdSe/ZnS QDs were synthesized via pyrolysis in the range of $220-280^{\circ}C$. Pyrolysis conditions were optimized through systematic studies as functions of synthesis temperature, reaction time, and surfactant amount.