After $MoS_2$ catalyst was prepared at 1, 30, and 70 atm, the hydrothermal pressure effect over preparation of $MoS_2$ was investigated in terms of catalyst characterization and direct methanation. Multifaceted characterization techniques such as XRD, BET, SEM, TPR, EDS, and XPS were used to analyze and investigate the effect of high pressure over the preparation of surface and bulk $MoS_2$ catalyst. Result from XRD, SEM, and BET demonstrated that $MoS_2$ was more dispersed as preparation pressure was increased, which resulted finer $MoS_2$ crystal size and higher surface area. EDS result confirmed that bulk composition was $MoS_2$ and XPS result showed that S/Mo mole ratio of surface was about 1.3. TPR showed that $MoS_2$ prepared at 30 atm possessed higher active surface sites than $MoS_2$ prepared at 1 atm and these sites could contribute to higher CO yield during methanation. Direct methanation was used to evaluate the CO conversion of the both catalysts prepared at 1 atm and 30 atm and reaction condition was at feed mole ratio of $H_2/CO=1$, GHSV=4800, 30 atm, temperature($^{\circ}C$) of 300, 350, 400, and 450. $MoS_2$ prepared at 30 atm showed more stable and higher CO conversion than $MoS_2$ prepared at 1 atm. Faster deactivation was occurred over $MoS_2$ prepared at 1 atm, which indicated that preparation pressure of $MoS_2$ catalyst was the dominant factor to improve the yield of direct methanation.
The composition and semiconducting properties of the passive films formed on Ni- (15, 30)Cr-5Mo alloys in pH 8.5 buffer solution were examined. The depth concentration profile of passive films formed on Ni-(15, 30)Cr-5Mo in pH 8.5 buffer solution showed that Mo enhances the enrichment of Cr. The Mott-Schottky plot for the passive film on Ni-(15, 30)Cr- 5Mo closely resembled that for the film on Cr, whereas those for the less Cr-enriched film on Mo-free alloys showed similar behavior to that for the film on Ni. The acceptor density was reduced by increasing Cr content in Ni-(15, 30)Cr-(0, 5)Mo alloys, but addition of Mo considerably increased the acceptor density.
The reduction of Mo-thiocyanate (V) complex on dropping mercury electrode has been studied at ionic strength 0.6 with pH less than 2.3. D-C polarogram obtained from acidic solutions are reversible, diffusion controlled current. The electrode reaction of Mo-thiocyanate(V) may be represented as follows. $MoO(SCN)_3\;+\;2H^+\;+\;2e\;{\to}\;Mo(SCN)_2{^+}\;+\;H_2O\;+\;SCN^-$From this reaction, the half wave potential assumed to be $E_{1/2}\;=\;E_0'\;-\;0.059\;pH\;-\;0.03\;log{\;frac{[Mo(SCN)_2{^+}][SCN^-]}{[MoO(SCN)_3]}}$Considering the dissociation of this complex, however, it was estimated that the electrode reaction may be written by. $MoO^{+3}\;+\;3SCN^-\;+\;2H^+\;+\;2e\;{\to}\;Mo(SCN)_2{^+}\;+\;SCN^-\;+\;H_2O$.
Ahn, Chi Hyeong;Choi, Won June;Park, Chun Woong;Lee, Seung Yeong;Kim, Young Do
Korean Journal of Materials Research
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제28권3호
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pp.166-173
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2018
Molybdenum (Mo) is one of the representative refractory metals for its high melting point, superior thermal conductivity, low density and low thermal expansion coefficient. However, due to its high melting point, it is necessary for Mo products to be fabricated at a high sintering temperature of over $1800-2000^{\circ}C$. Because this process is expensive and inefficient, studies to improve sintering property of Mo have been researched actively. In this study, we fabricated Mo nanopowders to lower the sintering temperature of Mo and tried to consolidate the Mo nanopowders through ultra high pressure compaction. We first fabricated Mo nanopowders by a mechano-chemical process to increase the specific surface area of the Mo powders. This process includes a high-energy ball milling step and a reduction step in a hydrogen atmosphere. We compacted the Mo nanopowders with ultra high pressure by magnetic pulsed compaction (MPC) before pressureless sintering. Through this process, we were able to improve the green density of the Mo compacts by more than 20 % and fabricate a high density Mo sintered body with more than a 95 % sintered density at relatively low temperature.
Activated charcoal supported nickel molybdenum carbide (carburized Ni-Mo/AC) catalysts were prepared by wet-impregnation followed by temperature-programmed carburization using 20% $CH_4/H_2$ gas. The effects of pH and initial Ni/Mo mole ratio during wet-impregnation step on the characteristics of the carburized Ni-Mo/AC catalysts were investigated using ICP, XRD, XPS, BET and $CO_2$-TPD techniques, and correlated with the catalytic activity of the carburized Ni-Mo/AC in methane dry reforming reaction. Comparison of the results of methane dry reforming reaction kinetics with the results of characterization of the carburized Ni-Mo/AC catalyst showed that the catalytic activity in methane dry reforming reaction was higher at higher initial Ni/Mo mole ratio or at lower pH(3~natural value). This phenomenon was related to the crystal size of metallic Ni in the carburized Ni-Mo/AC catalyst.
Poly (vinyl chloride) was blended with blended with vinyl chloride-acrylonitrile copolymers (MO-01 : M$\sub$w/=199049, AN=22.79%, MO-02 : M$\sub$w/=238523, AN=47.03%, MO-03 : M$\sub$w/=289496, AN=52.49%, MO-04 : M$\sub$w/=341837, AN=58.68% by mixing dimethylformamide (DMF) solution of each polymer and their morphology, viscosity, viscoelastic and mechanical properties were studied. Blends of PVC and MO-01 showed a homogeneous morphology. On the contrary, the other copolymer blends showed a large phase separation with spherical domains. Miscibility of blends of PVC and MO-01 was shown to be better than that of blends of other copolymers from morphological and viscoelastic studies. Even though blends of PVC and MO-01 were observed to be the considerable compatibility at a composition of PVC/MO-01=90/10, the mechanical properties of blend films were not improved too much in most blend cases.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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제30권7호
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pp.417-422
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2017
A high-performing photoelectric device was realized for the $MoS_2$-embedded Si device. $MoS_2$-coating was performed by an available large-scale sputtering method. The $MoS_2$-layer coating on the p-Si spontaneously provides the rectifying current flow with a significant rectifying ratio of 617. Moreover, the highly optical transmittance of the $MoS_2$-layer provides over 80% transmittance for broad wavelengths. The $MoS_2$-embedded Si photodetector shows the sensitive photo-response for middle and long-wavelength photons due to the functional $MoS_2$-layer, which resolves the conventional limit of Si for long wavelength detection. The functional design of $MoS_2$-layer would provide a promising route for enhanced photoelectric devices, including photovoltaic cells and photodetectors.
Kim, In-Sung;Chon, Seung-Whan;Kim, Ky-Sub;Jeon, Il-Cheol
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제24권11호
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pp.1613-1617
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2003
In the phosphoric acid based etchant, the dissolution rates of Mo films were measured by microgravimetry and the corrosion potentials of Mo and Al were estimated by Tafel plot method with various concentrations of nitric acid. Dissolution rate of Mo increased with the nitric acid concentration and reached a limiting value at high concentration of nitric acid in ambient condition. Corrosion potentials of Mo and Al shifted to positive direction and the difference between potentials of both metals was about 1,100 mV and 1,200 mV with 1% and above 4% of $HNO_3$, respectively. For a Mo/Al bilayers, the dissolution rate inversion is the main reason for good taper angle in shower etching process. Taper angles are observed by scanning electron microscope (SEM) after wet etching process for Mo/Al layered films with different concentrations of $HNO_3$. In the etch side profile, it was found that Al corroded faster than Mo below 4% of $HNO_3$ in dip etching process, however, Mo corroded faster above 4%. Trend for variation of taper angle of etched side of Mo/Al layered film can be explained by considering the effect corrosion rates of both metals with various concentrations of $HNO_3$.
Cr-Mo-Si-C-N coatings were deposited on steel and Si wafer by a hybrid system of AIP and sputtering techniques using Cr, Mo and Si target in $Ar/N_2/CH_4$ gaseous mixture. Instrumental analyses of XRD and XPS revealed that the Cr-Mo-Si-C-N coatings must be a composite consisting of fine(Cr, Mo and Si)(C and N) crystallites and amorphous $Si_3N_4$ and SiC. The hardness value of Cr-Mo-Si-C-N coatings significantly increased from 41 GPa of Cr-Mo-C-N coatings to about 53 GPa with Si content of 9.3 at.% due to the refinement of (Cr, Mo and Si)(C and N) crystallites and the composite microstructure characteristics. A systematic investigation of the microstructures and mechanical properties of Cr-Mo-Si-C-N coatings prepared with various Si contents is reported in this paper.
In this study, the microstructure, mechanical properties and high temperature oxidation characteristics of HiSiMo and HiSiMoM ductile iron for exhaust manifold were investigated. The HiSiMoM ductile iron was developed by optimization of alloying element addition and casting design. The exhaust manifold prototype was fabricated using the HiSiMoM iron and this resulted in the weight saving of 0.73kg. The microstructures of the HiSiMo and HiSiMoM irons were similar each other and graphite nodularity was 89% and 93% respectively. Tensile strengths of them were 663.5 and 674.4 MPa and Brinell hardness were 235.3 and 243.9 respectively. Both irons showed parabolic weight gain behavior in high temperature oxidation atmosphere. Oxidation layer was divided into external and internal layers. The weight gain of the HiSiMoM iron was lower than that of the HiSiMo iron after isothermal oxidation test at $900^{\circ}C$. This should be rationalized by higher Si enrichment at the interface of the matrix and internal layer of the HiSiMoM iron.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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