The yellowing is always occurred phenomena in epoxy restoration material of antic-ceramics. For re-restoration of remains with epoxy restoration material, the epoxy elimination step is the first one in all course of restoration In this paper, the chemically elimination treatments methods of epoxy in various antic-ceramics were discussed. We fabricated the epoxy elimination material for antic-ceramics restoration which were made up Dichloromethane and Dichlormethane based Dimethylformamide solution. Dichloromethane and Dichloromethane + Dimethylformamide mixture were applied to epoxy in various antic-ceramic sample. Particularly, Dichloromethane + Dimethylformamide solution had the best result in variation of color change, gloss, vending strength, weight, exfoliation time test after deposition in this solution. Dichloromrthane had the volume increase characteristics for epoxy material and Dimethylformamide had the mollification ones. So, Dichloromathane increased exfoliation in approximal surface of the epoxy material and antic ceramic, and Dimethylformamide decreased the surface hardness of epoxy. In this result, epoxy material even inside of ceramic that have very weak inside bonding is adaptable and stable eliminated. And in order to show the perfect elimination of this material, we successfully dissolve the epoxy restoration material in one antic pottery that is in one university museum's possession using this mixture. So, there is guarantee in the eternity and stabilization of restoration for antic-ceramics.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.19
no.2
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pp.683-688
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2018
In this study, we analyzed the heat generation state of a flat heating element by using image processing technology in conjunction with carbon fiber. The flat heating element is manufactured by chopping the carbon fiber to a small size and bonding it again using a dispersing agent. The solution of carbon fiber, bound together using the dispersant, is then filtered onto the nonwoven fabric. The last step is to obtain flat carbon fibers in the form of nonwoven fabrics for the purpose of drying the filtered carbon fibers. In the flat heating element, electricity may be applied to the carbon fiber on the surface produced in this manner. In this study, the flat heating element was analyzed by four methods. The analysis of the heat generation characteristics and heating rate of the flat heating element confirmed that the fabricated sheet heating element corresponds to a normal army. The analysis of the insulation coating and flat heating element module, which can be used for actual product manufacturing, involves two dimensional image analysis using image processing technology. The thermal image analysis of the flat heating element is a programming technique that not only analyzes the heat generation state in both two and three dimensions, but also displays the upper and lower 15 to 20% ranges of temperature corresponding to the heat generation in the image. In the final analysis, it is possible to easily find the erroneous part in the manufacturing process by directly showing the state of the fabricated flat heating element on the screen. By combining this image analysis method of the flat heating element with the existing method, we were able to more accurately analyze the heat generation state.
The purpose of this research is to develop thin film materials and fabrication process for efficient $TiO_2$/CdTe solar cells. In this work photocatalyst titanium dioxide was prepared by sol-gel procedure according to reaction condition, the mole ratio of $H_2O$/TTIP, pH of solution and aging condition of powder. The prepared titanium dioxide was thermally treated from 300 to $750^{\circ}C$. Maximum intensity of anatase phase of titanium dioxide was achieved by calcination at $600^{\circ}C$ for 2 hr. And it was mixture of anatase and rutile phase when temperature of calcination was $750^{\circ}C$. It has been known that the properties of synthesized titanium dioxide according to aging time and calcination temperature was converted to anatase phase crystal on increasing of aging time. Also the current density has been increased with aging time and temperature, the efficiency has been increased with because of reason on above results. The formation of chemical bonding on oxygen and cadmium telluride under oxygen circumstances had been observed, and oxygen of thin film surface on cadmium telluride had been decreased with the treatment of chromate and hydrazine. As results had been shown that the energy conversion efficiency of cadmium telluride use by rapidly treatmented heat at the condition of $550^{\circ}C$ under air circumstance got 12.0%, 6.0% values according to $0.07cm^2$, $1.0cm^2$ surface area, respectively.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.22
no.1
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pp.69-74
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2015
With difficulties during the cleaning of reflow flux residues due to the decrease of the part size and interconnection pitch in the advanced electronic devices, the need for the no-clean solder paste is increasing. In this study, an epoxy curable solder paste was made with SAC305 solder powder and the curable flux of which the main ingredient is epoxy resin and its reflow solderability, flux residue corrosivity and solder joint mechanical properties was investigated with comparison to the commercial rosin type solder paste. The fillet shape of the cured product around the reflowed solder joint revealed that the curing reaction occurred following the fluxing reaction and solder joint formation. The copper plate solderability test result also revealed that the wettability of the epoxy curable solder paste was comparable to those of the commercial rosin type solder pastes. In the highly accelerated temperature and humidity test, the cured product residue of the curable solder paste showed no corrosion of copper plate. From FT-IR analysis, it was considered to be resulted from the formation of tight bond through epoxy curing reaction. Ball shear, ball pull and die shear tests revealed that the adhesive bonding was formed with the solder surface and the increase of die shear strength of about 15~40% was achieved. It was considered that the epoxy curable solder paste could contribute to the improvement of the package reliability as well as the removal of the flux residue cleaning process.
Chung, Yong-Jin;Hyun, Kyuhwan;Han, Sang Won;Min, Ji Hong;Chun, Seung-Kyu;Koh, Won-Gun;Kwon, Yongchai
Journal of Hydrogen and New Energy
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v.26
no.2
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pp.179-183
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2015
In this study, we propose a catalyst structure including enzyme and metal nano rod for glucose sensing. In the catalyst structure, glucose oxidase (GOx) and gold nano rod (GNR) are alternatingly immobilized on the surface of carbon nanotube (CNT), while poly(ethyleneimine) (PEI) is inserted in between the GOx and GNR to fortify their bonding and give them opposite polarization ($[GOx/GNR]_nPEI/CNT$). To investigate the impact of $[GOx/GNR]_nPEI/CNT$ on glucose sensing, some electrochemical measurements are carried out. Initially, their optimal layer is determined by using cyclic voltammogram and as a result of that, it is proved that $[GOx/GNR/PEI]_2/CNT$ is the best layer. Its glucose sensitivity is $13.315{\mu}AmM^{-1}cm^{-2}$. When it comes to the redox reaction mechanism of flavin adenine dinucleotide (FAD) within $[GOx/GNR/PEI]_2/CNT$, (i) oxygen plays a mediator role in moving electrons and protons generated by glucose oxidation reaction to those for the reduction reaction of FAD and (ii) glucose does not affect the redox reaction of FAD. It is also recognized that the $[GOx/GNR/PEI]_3/CNT$ is limited to the surface reaction and the reaction is quasi-reversible.
Kim, Dong-Pyo;Woo, Jong-Chang;Um, Doo-Seng;Yang, Xue;Kim, Chang-Il
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.11a
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pp.363-363
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2008
The development of dry etching process for sapphire wafer with plasma has been key issues for the opto-electric devices. The challenges are increasing control and obtaining low plasma induced-damage because an unwanted scattering of radiation is caused by the spatial disorder of pattern and variation of surface roughness. The plasma-induced damages during plasma etching process can be classified as impurity contamination of residual etch products or bonding disruption in lattice due to charged particle bombardment. Therefor, fine pattern technology with low damaged etching process and high etch rate are urgently needed. Until now, there are a lot of reports on the etching of sapphire wafer with using $Cl_2$/Ar, $BCl_3$/Ar, HBr/Ar and so on [1]. However, the etch behavior of sapphire wafer have investigated with variation of only one parameter while other parameters are fixed. In this study, we investigated the effect of pressure and other parameters on the etch rate and the selectivity. We selected $BCl_3$ as an etch ant because $BCl_3$ plasmas are widely used in etching process of oxide materials. In plasma, the $BCl_3$ molecule can be dissociated into B radical, $B^+$ ion, Cl radical and $Cl^+$ ion. However, the $BCl_3$ molecule can be dissociated into B radical or $B^+$ ion easier than Cl radical or $Cl^+$ ion. First, we evaluated the etch behaviors of sapphire wafer in $BCl_3$/additive gases (Ar, $N_2,Cl_2$) gases. The behavior of etch rate of sapphire substrate was monitored as a function of additive gas ratio to $BCl_3$ based plasma, total flow rate, r.f. power, d.c. bias under different pressures of 5 mTorr, 10 mTorr, 20 mTorr and 30 mTorr. The etch rates of sapphire wafer, $SiO_2$ and PR were measured with using alpha step surface profiler. In order to understand the changes of radicals, volume density of Cl, B radical and BCl molecule were investigated with optical emission spectroscopy (OES). The chemical states of $Al_2O_3$ thin films were studied with energy dispersive X-ray (EDX) and depth profile anlysis of auger electron spectroscopy (AES). The enhancement of sapphire substrate can be explained by the reactive ion etching mechanism with the competition of the formation of volatile $AlCl_3$, $Al_2Cl_6$ or $BOCl_3$ and the sputter effect by energetic ions.
Journal of the korean academy of Pediatric Dentistry
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v.44
no.3
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pp.341-349
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2017
Blood decontamination is an important factor in success of the orthodontic bracket. The purpose of this study is to evaluate the shear bond strength affected by blood decontamination. The shear bond strength was measured on blood decontamination before and after primer photopolymerization. And the adhesive remnants type and surface patterns was evaluated under scanning electron microscopy. A total of 50 human premolars were prepared. Group I was attached using conventional resin-acid etching method as control group. Group II and III were blood contaminated before curing primer and groups IV and V were blood contaminated after curing primer. Group II and IV were treated only with cotton pellet and Groups III and V were treated with cotton pellet after water washing. The mean shear bond strengths were in the order of groups I, V, III, II, and IV. In scanning electron micrographs group III and V showed more uniform surface than group II and IV. The ARI was significantly different between the control group and the experimental groups (p <0.05).
A graphene film, two-dimensional carbon sheet, is a promising material for future electronic devices and so on. In graphene applications, the effect of substrate on the atomic/electronic structures of graphene is significant, so we studied an interaction between graphene film and substrate. To study the effect, we investigated the graphene films grown on Ni substrate with two crystal face of (111) and (100) by Raman spectroscopy, comparing with graphene films transferred on $SiO_2/Si$ substrate. In our study, the doping effect caused by charge transfer from Ni or $SiO_2/Si$ substrate to graphene was not observed. The bonding force between graphene and Ni substrate is stronger than that between graphene and $SiO_2/Si$. The graphene films grown on Ni substrate showed compressive strain and the growth of graphene films is incommensurate with Ni (100) lattice. The position of 2D band of graphene synthesized on Ni (111) and (100) substrate was different, and this result will be studied in the near future.
Concentration of antibiotics including a tetracycline group (TCs) of tetracycline (TC), chlortetracycline (CTC), and oxytetracycline (OTC), a sulfonamide group (SAs) of sulfamethoxazole (SMX), sulfathiazole (STZ), and sulfamethazine (SMT), an ionophore group (IPs) of lasalocid (LSL), monensin (MNS), and salinomycin (SLM), and a macrolide group (MLs) of tylosin (TYL) was determined from samples collected from the agricultural soil, stream water, and sediment. For the agricultural soil samples, the concentration of TCs had the highest value among all tested antibiotic's groups due to its high accumulation rate on the surface soils. The lower concentrations of SAs in the agricultural soils may be resulted from its lower usage and lower distribution coefficient (Kd) compared to TCs. The concentration of TCs in stream water was significantly increased through June to September. It would be likely due to soil loss during an intensive rainfall event and a reduction of water level after the monsoon season. A significant amount of TCs in the sediment was also detected due to its accumulation from runoff, which occurred by complexation of divalent cations, ion exchange, and hydrogen bonding among humic acid molecules. To ensure environmental or human safety, continuous monitoring of antibiotics residues in surrounding ecosystems and systematic approach to the occurrence mechanism of antibiotic resistant bacteria are required.
Kim, H.J.;Moon, W.J.;Kim, Y.M.;Bae, K.S.;Yoon, J.S.;Lee, Y.M.;Gook, J.S.;Kim, Y.S.
Journal of Surface Science and Engineering
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v.42
no.1
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pp.8-12
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2009
Electronic structures and chemical bonding of Li-intercalated $LiTiS_2$ and $LiTiO_2$ were investigated by using discrete variational $X{\alpha}$ method as a first-principles molecular-orbital method. ${\alpha}-NaFeO_2$ structure is the equilibrium structure for $LiCoO_2$, which is widely used as a commercial cathode material for lithium secondary battery. The study especially focused on the charge state of Li ions and the magnitude of covalency around Li ions. The average voltage of lithium intercalation was calculated using pseudopotential method and the average intercalation voltage of $LiTiO_2$ was higher than that of $LiTiS_2$. It can be explained by the differences in Mulliken charge of lithium and the bond overlap population between the intercalated Li ions and anions in $LiTiO_2$ as well as $LiTiS_2$. The Mulliken charge, which means the ionicity of Li atom, was approximately 0.12 in $LiTiS_2$ and the bond overlap population (BOP) indicating the covalency between Ti and S was about 0.339. One the other hands, the Mulliken charge of lithium was about 0.79, which means that Li is fully ionized. The BOP, the covalency between Ti and O, was 0.181 in $LiTiO_2$. Because of high ionicity of Li and the weak covalency between Ti and the nearest anion, $LiTiO_2$ has a higher intercalation voltage than that of $LiTiS_2$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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