JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제15권2호
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pp.249-254
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2015
Solution-derived amorphous indium-gallium-zinc oxide (a-IGZO) thin-film-transistor (TFTs) were developed using a microwave irradiation treatment at low process temperature below $300^{\circ}C$. Compared to conventional furnace-annealing, the a-IGZO TFTs annealed by microwave irradiation exhibited better electrical characteristics in terms of field effect mobility, SS, and on/off current ratio, although the annealing temperature of microwave irradiation is much lower than that of furnace annealing. The microwave irradiated TFTs showed a smaller $V_{th}$ shift under the positive gate bias stress (PGBS) and negative gate bias stress (NGBS) tests owing to a lower ratio of oxygen vacancies, surface absorbed oxygen molecules, and reduced interface trapping in a-IGZO. Therefore, microwave irradiation is very promising to low-temperature process.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제14권1호
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pp.117-123
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2014
The fabrication and characterization of a Si/ZnO thin film heterojunction ultraviolet photodiode has been presented in this paper. ZnO thin film of ~100 nm thick was deposited on <100> Silicon (Si) wafer by atomic layer deposition (ALD) technique. The Photoluminescence spectroscopy confirms that as-deposited ZnO thin film has excellent visible-blind UV response with almost no defects in the visible region. The room temperature current-voltage characteristics of the n-ZnO thin film/p-Si photodiodes are measured under an UV illumination of $650{\mu}W$ at 365 nm in the applied voltage range of ${\pm}2V$. The current-voltage characteristics demonstrate an excellent UV photoresponse of the device in its reverse bias operation with a contrast ratio of ~ 1115 and responsivity of ~0.075 A/W at 2 V reverse bias voltage.
기판/Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta 스핀밸브에서 Ta 성막 후에 자유층 NiFe 스퍼터 증착시 가해진 기판 바이어스 전압에 의해 야기된 Ta/NiFe 계면에서의 원자섞임이 자기저항에 미치는 영향에 대해 조사하였다. 최대 자기 저항비 (MR ratio)를 나타내는 자유층의 적정두께는 바이어스 전압이 증가함에 따라 증가하였다. 이러한 현상의 원인은 바이러스 전압이 증가함에 따라 Ta과 NiFe의 원자섞임으로 계면에 있는 NiFe층 일부가 약한 강자성 또는 상자성화되어 스핀 비의존 산란을 하는 원자섞임층의 두께가 증가하였기 때문이다. 원자섞임층의 존재는 전기저항 변화와 자화량 변화로부터 증명하였다. 또 본 실험에서 비록 NiFe 증착시 기판 바이어스 전압이 변화더라도 최대 자기저항비를 갖는 최적 "유효" 자유층 두께는 기판 바이어스 전압에 무관하게 일정하였다.관하게 일정하였다.
One of the major reasons for not integrating a VCO on one-chip in a PLL (phase locked loop) system is the large chip-to-chip variation of the VCO (voltage controlled oscillator) center frequency. In this thesis, a simple bias technique is proposed to compensate the process fluctuation. The proposed bias technique is applied to the VCO and it reduces the deviation of the VCO center frequency from 35% to 8 %. With the suggested bias technique, a 400 MHz frequency synthesizer is designed for general purpose. It utilizes a programmable divider for various division ratio. The design methodology provides the possibility of the one-chip solution for a PLL system.
RF-PECVD 방법을 이용하여 DLC(diamond-like carbon)박막을 메탄-수소 가스 혼합비 및 바이어스 전압에 따라 실리콘 웨이퍼 위에 증착하였다. DLC 박막의 결합구조적 특성 및 기계적 성질은 FT-IR, Raman, 그리고 nano-indenter를 이용하여 평가하였다. 혼합가스내 메탄의 유량과 바이어스 전압이 증가함에 따라 증착속도가 증가하였다. 박막내 탄소의 $sp^3/sp^2$ 결합비와 경도는 반응가스내 수소의 유량 및 바이어스 전압이 증가함에 따라 증가하였다.
Seigel Daniel G.;Podgor Marvin J.;Remaley Nancy A.
대한예방의학회:학술대회논문집
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대한예방의학회 1994년도 교수 연수회(역학)
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pp.129-136
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1994
A model was developed for a simple clinical trial in which graders had defined probabilities of misclassifying pathologic material to disease present or absent. The authors compared Kappa between graders, and efficiency and bias in the clinical trial in the presence of misclassification. Though related to bias and efficiency, Kappa did not predict these two statistics well. These results pertain generally to evaluation of systems for encoding medical information, and the relevance of Kappa in determining whether such systems are ready for use in comparative studies. The authors conclude that, by itself, Kappa is not informative Enough to evaluate the appropriateness of a grading scheme for comparative studies. Additional, and perhaps difficult, questions must be addressed for such evaluation.
Ternary B-C-N coatings were deposited on Si(100) wafer substrate from $B_4C$ target by RF magnetron sputtering technique in $Ar+N_2+CH_4$ gas mixture. In this work, the effect of reactant gas ratio, $CH_4/(N_2+CH_4)$ on the composition, kinds and amounts of bonding states comprising B-C-N coatings were investigated using two different bias power sources of continuous and unipolar DCs. In addition, the tribological properties of coatings were studied with the composition and bonding state of coating. It was found that the substrate bias power had an effect on chemical composition, and all of the obtained coatings were nearly amorphous. Main bonding states of coatings were revealed from FTIR analyses to be h-BN, C-C, C-N, and B-C. The amount of C-C bonging mainly increased with increase of the reactant gas ratio. From our studies, both C-C and h-BN bonding states improved the tribological properties but B-C one was found to be harmful on those. The best coating from tribological points of view was found to be $BC_{1.9}N_{2.3}$ composition.
The effect of grain size on the time-dependent piezoelectrice degradation of a poled PZT of MPB composition Pb0.988Sr0.012 (Zr0.52Ti0.48)O3 with 2.4 mol% of Nb2O5 was studied, and the degradation mechanism was discussed. Changes in the internal bias field and the internal stress both responsible for the time-dependent degradation of poled PZT were examined by the polarization reveral technique, XRD and Vickers indentation, respectively. The piezoelectric degradation increased with increasing time and grain size, and the internal bias field due to space charge diffusion decreased with increasing grain size of poled PZT. The internal bias field, however, was almost insensitive to the degradation time regardless of the grain size. On the other hand, both the x-ray diffraction peak intensity ratio of (002) to (200) and the fracture behavior including the crack propagation support that the ferroelectric domain rearrangement of larger grain size showed rapid relaxation of the internal stress compared with smaller one, which is thought the origin of the larger piezoelectric degradation in the former. In conclusion, the contribution of space charge diffusion on the piezoelectric degradation of PZT is strongly dependent on both the grain size and the composition. Thus, the relaxation of internal stress due to the ferroelectric domain rearrangement as well as the amount and time-dependence of the internal bias field due to space charge diffusion should be considered simultaneously in the degradation mechanism of PZT.
Journal of electromagnetic engineering and science
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제9권2호
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pp.78-84
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2009
This paper represents the effects of drain bias on the linearity and efficiency of an analog pre-distortion power amplifier(PA) for wideband code division multiple access(WCDMA) repeater applications. For verification, an analog predistorter(APD) with three-branch nonlinear paths for memory-effect compensation is implemented and a class-AB PA is fabricated using a 30-W Si LOMaS. From the measured results, at an average output power of 33 dBm(lO-dB back-off power), the PA with APD shows the adjacent channel leakage ratio(ACLR, ${\pm}$5 MHz offset) of below -45.1 dBc, with a drain efficiency of 24 % at the drain bias voltage($V_{DD}$) of 18 V. This compared an ACLR of -36.7 dEc and drain efficiency of 14.1 % at the $V_{DD}$ of 28 V for a PA without APD.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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