By using X-ray double crystal diffraction technique the multilayer structure composed of glass membrane, platinum film and $\alpha Al_2O_3$ substrate has been studied. It is found the stress is produced in the film by thermal mismatch within multilayer materials. The measuring results of thin film platinum resistors show that the stress were induce resistance change of device and different stress status will produce add resistance in different direction. Selecting proper glass material can make opposite stress in Pt film and opposite add resistance due to thermal mismatch. The reliability of Pt resistor has been improved with method of this stress compensation.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.13
no.12
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pp.1058-1062
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2000
We investigated resistive superconducting fault current limites (SFCLs) fabricated using YBCO thin films on 2-inch diameter sapphire substrates. Nearly identical SFCL units were prepared and tested. The units were connected in series and parallel to increase the current and voltage ratings. A serial connection of the units showed significantly unbalanced power dissipation between the units. This imbalance was removed by introducing a shunt resistor to the firstly quenched unit. Parallel connection of the units increased the current rating. An SFCL module of 4 units in parallel, each of which has minimum quench current rating. An SFCL module of 4 units in parallel, each of which has minimum quench current 25 A$\_$peak/, was produced and successfully tested at a 220 V$\_$rms/circuit. From the resistance increase, we estimated that the film temperature increased to 200 K in 5 msec, and 300 K in 120 msec. Successive quenches revealed that this system is stable without degradation in the current limiting capability under such thermal shocks as quenches at 220 V$\_$rms/.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.31
no.1
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pp.50-54
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2018
In this study, a femtosecond laser pre-annealing technology based on indium zinc oxide (IZO) thin-film transistors (TFTs) was investigated. We demonstrated a stable pre-annealing process to analyze the change in the surface structures of thin-films, and we improved the electrical performance. Furthermore, static and dynamic electrical characteristics of IZO TFTs with n-channel inverters were observed. To investigate the static and dynamic responses of our solution-processed IZO TFTs, simple resistor-load-type inverters were fabricated by connecting a $1-M{\Omega}$ resistor. The femtosecond laser pre-annealing process based on IZO TFTs showed good performance: a field-effect mobility of $3.75cm_2/Vs$, an $I_{on}/I_{off}$ ratio of $1.8{\times}10^5$, a threshold voltage of 1.13 V, and a subthreshold swing of 1.21 V/dec. Our IZO-TFT-based N-MOS inverter performed well at operating voltage, and therefore, is a good candidate for advanced logic circuits and display backplane.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.93-93
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2013
In recent years, multifunctional ternary nitride thin films have received extenstive attention due to its versatility in many applications. In particular, noble metal based ternary nitride thin films showed a promising properties in the application of Multifunctional heating resistor films because its good electrical properties and excellent resistance against oxidation and corrosion. In this study, we prepared multifunctional noble metal based ternary nitride thin films by atomic layer deposition (ALD) and plasma-enhanced ALD (PEALD) method. ALD and PEALD techniques were used due to their inherent merits such as a precise composition control and large area uniformity, which is very attractive for preparing multicomponent thin films on large area substrate. Here, we will demonstrate the design concept of multifunctional noble metal based ternary thin films. And, the relationship between microstructural evolution and electrical resistivity in noble metal based ternary thin films will be systemically presented. The useful properties of noble metal based ternary thin films including anti-corrosion and anti-oxidation will be discussed in terms of hybrid functionality.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.06a
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pp.383-384
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2008
$SnO_2$ oxides are considerable interest for the development of transparent electrode, thin film resistor and gas sensors. Electrospinning is a class of nanofiber forming processes by which electrostatic forces are employed to control the production of nanofibers. In this study, antimony doped tin oxide thin films were prepared by electrospinning process. Effects of ATO doping concentration and applied voltage on electrical and light transmission properties were investigated.
Ki, Hyun-Chul;Kim, Sean-Hoon;Kim, Sang-Taek;Kim, Hyo-Jin;Kim, Hwe-Jong;Hong, Kyung-Jin;Min, Yong-Ki;Cho, Jae-Cheol;Gu, Hal-Bon
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2006.12a
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pp.103-106
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2006
Semiconductor laser diode has a reflective facet in a both-ends side fundamentally. Laser performance for improving, Anti-Reflection and High-reflection coating on the facet of semiconductor laser diode. To prevent internal feedback from both facets for realizing superluminescent diode and reducing the reflection-induced intensity noise of laser diode, it's key techniques are AR/HR coatings. In the study AR coating film were manufactured by Ion-Assisted Deposition(IAD) system. Then manufactured coating film measurement electrical properties(L-I-V, Se, Resistor) and Optical properties (wavelength FFP)
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.17
no.11
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pp.635-639
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2016
In the devices used in the microwave frequency band, the gain decreases as the frequency increases due to the parasitic component. To compensate for these characteristics, a linear gain equalizer with an opposite slope is needed in wideband systems, such as those used for electronic warfare. In this study, a linear gain equalizer that can be used in the 18 ~ 40GHz band is designed and fabricated. Circuit design and momentum design (optimizations) were carried out to reduce the errors between design and manufacturing. A thin film process is used to minimize the parasitic components within the implementation frequency band. A sheet resistance of 100 ohm/square was employed to minimize the wavelength variation due to the length of the thin film resistor. This linear gain equalizer is a structure that combines a quarter wavelength-resonator on a series microstrip line with a resistor. All three 1/4 wavelength short resonators were used. The fabricated linear gain equalizer has a loss of more than -5dB at 40GHz and a 6dB slope in the 18 ~ 40GHz band. By using the manufactured gain equalizer in a multi-stage connected device such as an electronic warfare receiver, the gain flatness degradation with increasing frequency can be reduced.
Ki, Hyun-Chul;Kim, Hyo-Jin;Kim, Hwe-Jong;Han, Hee-Jong;Gu, Hal-Bon
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.424-425
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2007
Anti-Reflection and High-reflection coating on the facet of semiconductor laser diode. To prevent internal feedback from both facets for realizing super luminescent diode and reducing the reflection-induced intensity noise of laser diode. Anti-Reflection coating Film was designed by Macleod Simulator. Coating Materials were decided $Ti_3O_5$ and $SiO_2$. Thickness of Coating layer $Ti_3O_5/SiO_2$ were 105[nm], 165[nm]. In the study Anti-Reflection coating Film was design for Laser diode and deposited by Ion-Assisted Deposition system. Then manufactured thin film measured electrical properties(L-I-V, Se, Resistor) and Optical properties(wavelength FFP). Slop-efficiency and FFP characteristic is 0.302[W/A], $22.3^{\circ}$(Horizontal), $24.4^{\circ}$(Vertical).
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.7
no.1
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pp.7-11
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2006
The changes of the electrical conductivity in chalcogenide amorphous semiconductors, $Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$, have been studied. A phase change random access memory (PRAM) device without an access transistor is successfully fabricated with the $Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$-phase-change resistor, which has much higher electrical resistivity than $Ge_{2}Sb_{2}Te_{5}$ and its electric resistivity can be varied by the factor of $10^5$ times, relating with the degree of crystallization. 100 nm thick $Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$ thin film was formed by vacuum deposition at $1.5{\times}10^{-5}$ Torr. The static mode switching (DC test) is tested for the $100\;{\mu}m-sized$$Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$ PRAM device. In the first sweep, the amorphous $Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$ thin film showed a high resistance state at low voltage region. However, when it reached to the threshold voltage, $V_{th}$, the electrical resistance of device was drastically reduced through the formation of an electrically conducting path. The pulsed mode switching of the $20{\mu}m-sized$$Ge_{1}Se_{1}Te_{2}$ PRAM device showed that the reset of device was done with a 80 ns-8.6 V pulse and the set of device was done with a 200 ns-4.3 V pulse.
Park, Kyoung-Woo;Hur, Sung-Gi;Nguyen, Duy Cuong;Ahn, Jun-Ku;Yoon, Soon-Gil
Korean Journal of Metals and Materials
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v.47
no.9
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pp.591-596
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2009
$TiN_xO_y/TiN_x$ multi-layer thin films with a high resistance(${\sim}k{\Omega}$) were deposited on $SiO_2/Si$ substrates at room temperature by sputtering. The $TiN_x$ thin films show island and smooth surface morphology in samples prepared by ${\alpha}$ and RF magnetron sputtering, respectively. $TiN_xO_y/TiN_x$ multi-layer in has been developed to control temperature coefficient of resistance(TCR) by the incorporation of $TiN_x$ layer(positive TCR) inserted into $TiN_xO_y$ layers(negative TCR). Electrical and structural properties of sputtered $TiN_xO_y/TiN_x$ multi-layer films were investigated as a function of annealing temperature. In order to achieve a stable high resistivity, multi-layer films were annealed at various temperatures in oxygen ambient. Samples annealed at $700^{\circ}C$ for 1 min exhibited good TCR value of approximately $-54 ppm/^{\circ}C$ and a stable high resistivity around $20k{\Omega}/sq$. with good reversibility.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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