SnO$_2$ is one of the most suitable gas sensor materials. The microstructure and surface morphology of films must be controlled because the electrical and optical properties of SnO$_2$ films depend on these characteristics. The effects of chemical mechanical polishing(CMP) on the variation of morphology of SnO$_2$ films prepared by RF sputtering system were investigated. The commercially developed ceria-based oxide slurry, silica-based oxide slurry, and alumina-based tungsten slurry were used as CMP slurry. Non-uniformities of all slurries met stability standards of less than 5 %. Silica slurry had the highest removal rate among three different slurries, sufficient thin film topographies and suitable root mean square(RMS) values.
Gwang-Eun Choi;Min-Joon Kim;Ra-Yeong Park;Yoon Kim;Dong-Wook Park
센서학회지
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제33권5호
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pp.338-343
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2024
The measurement of pH is of significant importance in chemistry, life sciences, and environmental monitoring. Unlike conventional pH sensors that utilize glass electrodes, thin-film transistor (TFT)-based pH sensors offer distinct advantages, including enhanced response speed and additional circuit functions. In this study, we developed a pH sensor that incorporates biocompatible parylene-C as both the substrate and sensing layer, thereby enhancing flexibility, transparency, and biological compatibility. We conducted tests to measure the voltage-current characteristics of the pH solutions and assessed their performance in terms of drift and hysteresis. Using InGaZnO (IGZO) as the channel material, our pH sensor demonstrated an average sensitivity of approximately 82 mV/pH, albeit with certain drift limitations. The initial pH measurements exhibited good reversibility over time. IGZO- and parylene-C-based TFT pH sensors are well suited for various applications, including wearable health monitoring, owing to their flexibility and biocompatibility.
In this work, Ga-doped ZnO (GZO) thin films for gas sensor application were deposited on low temperature co-fired ceramics (LTCC) substrates, by RF magnetron sputtering method. The LTCC substrate is one of promising materials for this application since it has many advantages (e.g., low cost production, high manufacturing yields and easy realizing 3D structure etc.). The LTCC substrates with thickness of $400\;{\mu}m$ were fabricated by laminating 12 green tapes which consist of alumina and glass particle in an organic binder. The structural properties of the fabricated GZO thin film with thickness of 50 nm is analyzed by X-ray diffraction method (XRD) and field emission scanning electron microscope (FESEM). The film shows good adhesion to the substrate. The GZO gas sensors are tested by gas measurement system and show fast response and recovery characteristics to $NO_x$ gas that is 27.2 and 27.9 sec, recpectively.
Pyoelectric infrared detectors based on La-modified PbTiO3 (PLT) thin films have been fabricated by RF magnetron sputtering and micromachining technology. The detectors form Pb$_{1-x}$ La$_{x}$Ti$_{1-x}$ O$_{3}$ (x=0.05) thin film ferroelectric capacitors epitaxially grown by RF magnetron sputtering on Pt/MgO (100) substrate. The sputtered PLT thin film exhibits highly c-axis oriented crystal struture that no poling trealization for sensing applications is required. This is an essential factor to increase the yield for realization of an infrared image sensor. Micromachining technology is used to lower the thermal mass of the detector by giving maximum sensor efficiency. Polyimide is coated on top of the sensing elements to support the fragile structure and the backside of the MgO substrate is selectively eteched to reduce the heat loss. The sensing element exhibited a very high detectivity D* of 8.5*10$^{8}$ cm..root.Hz/W at room temperature and it is about 100 times higher than the case of micromachining technology is not used. a sensing system that detects the position as well as the existence of a human body is realized using the array sensor.sor.
Li+-ion conducting ($Li_{3}PO_{4}$) thin films with thickness of $0.3{\mu}m$, $0.65{\mu}$, $1.2{\mu}$ were deposited on $Al_{2}O_{3}$ substrate at room temperature by thermal evaporation. They were sintered at $700^{\circ}C$ and $800^{\circ}C$ for 2 hours, respectively. Reference electrode and sensing electrode were printed on Au-electrode by silk printing method. The EMF and the ${\Delta}EMF$/dec were increased with increasing the electrolyte thickness and sintering temperature. The sample sintered at $800^{\circ}C$ was shown a good response and recovery characteristics more than those sintered at $700^{\circ}C$. The Nernst's slop of 75 mV per decade was obtained at operating temperature of $500^{\circ}C$.
In this study, we used the sputtering method with single target to obtain the thick and uniform PZT($PbZrTiO_3$) films for micromached IR sensor application. Then, we investigated the etching characteristics and conditions which is necessary process to fabricate the IR sensor. We tested the C-axis orientation and P-E loop of the deposited PZT films with the XRD and RT66A, respectively. Also we investigated the surface of the films by the AFM and SEM analysis.
In this study, highly sensitive hydrogen micro gas sensors of the multi-layer and micro-heater type were designed and fabricated using the micro electro mechanical system (MEMS) process and palladium catalytic metal. The dimensions of the fabricated hydrogen gas sensor were about $5mm{\times}4mm$ and the sensing layer of palladium metal was deposited in the middle of the device. The sensing palladium films were modified to be nano-honeycomb and nano-hemisphere structures using an anodic aluminum oxide (AAO) template and nano-sized polystyrene beads, respectively. The sensitivities (Rs), which are the ratio of the relative resistance were significantly improved and reached levels of 0.783% and 1.045 % with 2,000 ppm H2 at $70^{\circ}C$ for nano-honeycomb and nano-hemisphere structured Pd films, respectively, on the other hand, the sensitivity was 0.638% for the plain Pd thin film. The improvement of sensitivities for the nano-honeycomb and nano-hemisphere structured Pd films with respect to the plain Pd-thin film was thought to be due to the nanoporous surface topographies of AAO and nano-sized polystyrene beads.
In this work, Ga doped ZnO (GZO) films were prepared by radio frequency (RF) magnetron sputtering without intentional substrate heating on glass substrate and then the effect of the intense electron irradiation on structural and electrical properties and the NOx gas sensitivity were investigated. Although as deposited GZO films showed a diffraction peak for ZnO (002) in the XRD pattern, GZO films that electron irradiated at electron energy of 900 eV showed the higher intense diffraction peaks than that of the as deposited GZO films. The electrical property of the films are also influenced with electron's energy. As deposited GZO films showed the three times higher resistivity than that of the films irradiated at 900 eV In addition, the sensitivity for NOx gas is also increased with electron irradiation energy and the film sensor showed the proportionally increased gas sensitivity with NOx concentration. This approach is promising in gaining improvement in the performance of thin film gas sensors used for the detection of hazard gas phase.
Roh, Im-Jun;Kwon, Beomjin;Moon, Hi Gyu;Kim, Jin-Sang;Kang, Chong-Yun
센서학회지
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제23권4호
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pp.224-228
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2014
The electrocaloric effect of 9/65/35 PLZT thin film fabricated by the sol-gel method, which has not been studied yet, was investigated for its structural, electrical properties as well as temperature change property. The relaxor ferroelectric property of 9/65/35 PLZT thin film was confirmed by examining its dielectric and electrical properties. The relaxor property can cause a more pronounced electrocaloric effect (ECE) in a wider temperature range than normal ferroelectric film. To avoid errors caused by using an indirect measurement method, the leakage current generated by increasing temperatures was minimized by using the optimal maximum electric field ($350kVcm^{-1}$) in the thin film. The largest temperature change ${\delta}T$ (0.23 K) and the electrocaloric strength ${\xi}$ (0.68 mkcm/kV), calculated by equations were obtained. The maximum field change ${\delta}E$ ($191kVcm^{-1}$) was in the vicinity of the curie temperature ($200^{\circ}C$).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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