• Transactions on Electrical and Electronic Materials
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• 제6권4호
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• pp.164-168
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• 2005

Effects of high-temperature slurry were investigated on the chemical mechanical polishing (CMP) performance of tetra-ethyl ortho-silicate (TEOS) film with silica and ceria slurries by the surface analysis of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The pH showed a slight tendency to decrease with increasing slurry temperature, which means that the hydroxyl $(OH^-)$ groups increased in slurry as the slurry temperature increased and then they diffused into the TEOS film. The surface of TEOS film became hydro-carbonated by the diffused hydroxyl groups. The hydro-carbonated surface of TEOS film could be removed more easily. Consequently, the removal rate of TEOS film improved dramatically with increasing slurry temperature.

• 한국건축시공학회:학술대회논문집
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• 한국건축시공학회 2013년도 추계 학술논문 발표대회
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• pp.200-201
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• 2013

This study is interested in manufacturing the concrete surface impregnants including tetra ethyl ortho silicate, alkali silicate for the repair of the exposed concrete and the color concrete requiring the advanced function in view of the concrete appearance. The surface layer change and porosity properties was tested for the review of application. The result of this study show that the effective silicate are tetra ethyl ortho silicate and alkali silicate t. The adhesion in tension is slightly increased but the reinforcement of concrete substrate is slight. So, the concrete impregnant of this study is more desirable for the improvement of durability rather than the reinforcement.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제13권2호
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• pp.131-136
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• 2000

We have investigated the slurry induced metallic contaminations of undoped and doped silicate oxides surface on CMP cleaning process. The metallic contaminations by CMP slurry were evaluated in four different oxide films, such as plasma enhanced tetra-ethyl-orthyo-silicate glass(PE-TEOS), O3 boro-phos-pho-silicate glass(O3-BPSG), PE-BPSG, and phospho-silicate glass(PSG). All films were polished with KOH-based slurry prior to entering the post-CMP cleaner. The Total X-Ray fluorescence(TXRF) measurements showed that all oxide surfaces are heavily contaminated by potassium and calcium during polishing which is due to a CMP slurry. The polished O3-BPSG films presented higher potassium and calcium contaminations compared to PE-TEOS because of a mobile ions gettering ability of phosphorus. For PSG oxides, the slurry induced mobile ion contamination increased with an increase of phosphorus contents. In addition, the polishing removal rate of PSG oxides had a linear relationship as a function of phosphorus contents.

• 한국건설순환자원학회논문집
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• 제1권3호
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• pp.233-239
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• 2013

콘크리트의 표면보호제은 표면으로부터 함침제를 함침시켜 표층부의 개질을 목적으로 사용하며 주로 Silane계 및 Silicate계 재료가 사용된다. 일반적으로 이용되는 Silicate는 Sodium과 Lithium silicate이며 탄산화한 부분의 알칼리 부여와 성능저하가 예상되는 콘크리트 부재의 구체 강화 등 성능회복을 목적으로 사용한다. 본 연구에서는 Self-Cleaning 실리케이트계 콘크리트 표면보호제로서 TEOS, $TiO_2$, Lithium silicate를 사용하여 노출 및 컬러 콘크리트 등의 고기능성이 요구되는 건축물에 적용이 가능한 Self-Cleaning 실리케이트계 콘크리트 표면보호제를 제조하였다. 또한 제조된 표면보호제의 건축물 적용을 위한 표면접촉각, 방오성능, 표면특성 및 조직관찰 등의 성능을 검토하였다. 실험결과 Self-Cleaning 실리케이트계 콘크리트 표면보호제를 적용한 시험체는 접촉각 $20^{\circ}$ 이하의 친수성을 보였고 기능성 부여가 가능하므로 표면보호제로서 사용이 가능하다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
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• pp.541-541
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• 2008

반도체 소자가 차세대 초미세 공정 기술 도입의 가속화를 통해 고속화 및 고집적화 되어 감에 따라 나노(Nano) 크기의 회로 선폭 미세화를 극복하고자 최적의 CMP (Chemical Mechanical Polishing) 공정이 요구되어지고 있다. 이처럼 CMP 공정이 반도체 제조 공정에 적용됨으로써 공정 마진 확보에 진일보 하였으나 CMP 장비의 공정 조건, 슬러리의 종류, 연마패드의 종류 등에 의해 CMP 성능이 결정된다. 특히 슬러리는 연마 공정의 성능에 중요한 영향을 미치는 요인이다. 고가의 슬러리가 차지하는 비중이 40% 이상을 넘고 있어 슬러리 원액의 소모량을 줄이기 위한 연구들이 현재 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 새로운 연마제의 특성을 알아보기 위해 탈이온수(De-ionized water; DIW) 에 $CeO_2$, 연마제를 첨가한 후 분산시간에 따른 연마 특성과 AFM, EDX, XRD, TEM분석을 통해 그 가능성을 알아보았다.

• 한국진공학회지
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• 제6권4호
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• pp.326-336
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• 1997

트랜지스터의 소오스/드레인 접합 특성에 가장 큰 영향을 미치는 인자는 이온 주입 시 발생한 실리콘 내에 발생한 결합이라는 사실에 착안하여, 기존 소오스/드레인 접합 형성 공정과 다른 새로운 방식을 도입하여 이온 주입에 의해 생긴 결함의 제어를 통해 고품질 초 저접합 $p^+$-n접합을 형성하였다. 기존의 $p^+$소오스/드레인 접합 형성 공정은 $^{49}BF_2^+$ 이온 주입 후 층간 절연막들인 TEOS(Tetra-Ethyl-Ortho-Silicate)막과 BPSG(Boro-Phospho-Silicate-Glass)막을 증착 후 BPSG막 평탄화를 위한 furnace annealing 공정으로 진행된다. 본 연구에서는 이러한 기존 공정과는 달리 층간 절연막 증착 전 저온 RTA첨가 방법, $^{49}BF_2^+$와 $^{11}B^+$ 을 혼합하여 이온 주입하는 방법, 그리고 이온 주입 후 잔류 산화막을 제거하고 MTO(Medium temperature CVD oxide)를 증착하는 방법을 제시하 였으며, 각각의 방법은 모두 이온 주입에 의한 실리콘 내 결합 농도를 줄여 기존의 방법보 다 더 우수한 양질의 초 저접합을 형성할 수 있었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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• pp.645-646
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• 2005

The increasing hydroxyl ($OH^-$) groups diffused into the TEOS and then weakened reactants such as H-C-O-Si bonds on the surface of TEOS film were actively generated with the increase of slurry temperature. These soft reactants on the surface of TEOS film could be removed easily by mechanical parts of CMP.

• 한국세라믹학회지
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• 제27권1호
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• pp.86-90
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• 1990

The shape and characteristics of polymers in hydrolzed and polymerized sol were affected by the types of catalysts. In our research, the contents of water and catalysts were constant and the types of catalyst were varied. In the case of acid catalysts, polymers in sol were linear and spinnable. The shapes of polymer were affected by the types of anions in acid catalysts. In the case of catalyst having anions, F, Cl, in the same period, the effects were similar. But in the case of base catalysts polymers were rigid rod like and not spinnable.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2000년도 영호남학술대회 논문집
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• pp.171-174
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• 2000

We have investigated the CMP slurry properties of silicate oxide thin films surface on CMP cleaning process. The metallic contaminations by CMP slurry were evaluated in four different oxide films, such as plasma enhanced tetra-ethyl-ortho-silicate glass(PE-TEOS), $O_3$ boro-phospho silicate giass( $O_3$-BPSG), PE-BPSG, and phospho-silicate glass(PSG). All films were polished with KOH-based slurry prior to entering the post-CMP cleaner. The Total X-Ray Fluorescence(TXRF) measurements showed that all oxide surfaces are heavily contaminated by potassium and calcium during polishing, which is due to a CMP slurry. The polished $O_3$-BPSG films presented higher potassium and calcium contaminations compared to PE-TEOS because of a mobile ions gettering ability of phosphorus. For PSG oxides, the slurry induced mobile ion contamination increased with an increase of phosphorus contents.

• 한국세라믹학회지
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• 제25권5호
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• pp.479-487
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• 1988

In this study we studied the function of Glycerol as a DCCA(Drying Control Chemical Additives) in the preparation of silica bulk glas through Sol-Gel method. We used TEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate) and maintained the mixing ratio of TEOS : H2O : EtOH : HCI as 1 : 4 : 4 : 0.0007(mol) and varied glycerol input quantity from 0.1vol% considering the ethnaol input quantity as 100vol%. We investigated the changes from Sol-Gel Synthetic solutions to the glass using DT-TG, FT-IR and other instruments. The results obtained from this experiment showed that the dried gels made from the synthetic solutions containing 0.1-1.0vol% of glycerol were easily heat-treated up to 85$0^{\circ}C$ so that transparant bulk silica glass was prepared.