PECVD를 이용한 Si$_3$ N$_4$ 박막의 공정변수에 따른 특성분석과 응용
(Analyses of Si$_3$ N$_4$ thin film as parameters of the processes using PECVD for MMIC applications)
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- 대한전자공학회:학술대회논문집
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- 대한전자공학회 1999년도 하계종합학술대회 논문집
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- pp.926-929
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- 1999