Low-e glazing is classified as soft low-e glazing and hard low-e glazing. Hard low-e glazing can be temperable and its handling is comfortable because its coating film is a oxide film generated at high temperatures. But there is a fatal weakness that its insulation performance and shielding performance are lower compared to soft low-e glazing by low electrical conductivity of coating film. Soft low-e glazing is excellent because its coating film consists of Ag that is excellent electrical conductivity and it has strength that can supply various product consumers want. But soft low-e glazing has weaknesses that temperable and handling are difficult because Ag is oxidized easily. Therefore this study analyzes thermal performance of glazing by changing filling gas according to applying low-e glazing through simulation to judge performance before making sample. After this process, a comparative experimental study was done through TVS by making temperable low-e glazing.
본 연구에서는 표면처리된 Ga-doped ZnO (GZO)를 사용해서 태양열 차단 코팅제를 제조하였으며, 표면처리 화합물의 종류와 처리조건에 따른 입자의 분산성, 가시광선투과율, 자외선차단율, 적외선차단율, 단열특성 등에 대해서 고찰하였다. IPA나 아크릴 바인더를 사용했을 때에는 무기산화물 입자의 분산특성이 낮았으나, 무기산화물 입자를 우레탄(우레아)기와 아크릴기 그리고 실리카를 포함하는 하이브리드 화합물로 표면처리한 경우에는 입자의 분산성이 향상되어 침전되는 입자가 거의 발생되지 않았고 가시광선 투과율과 헤이즈(haze)가 크게 향상되었다. 그리고 실제 단열특성을 평가하기 위해서 단열평가 장치와 sunlamp를 사용하였으며, 평가결과 열차단 필름을 사용한 경우 PET 필름 자체만 사용했을 때와 비교해서 내부온도가 $4.8^{\circ}C$ 이상 낮은 것으로 확인되었다.
[ $30^{\circ}$ ] 선원을 내포한 Fletcher-Suit Colpostat주위의 물에서 선량 분포와 내부의 납차폐물에 의한 차폐 효과가 본 논문에 기술된다. 미리 포장된 필름을 이용하여 세슘선원을 내포한 콜포스타트 주위의 선량 분포를 측정하였다. 콜포스타트의 한 방향에 9매의 필름을 아크릴 틀을 이용하여 평행하게 고정시키고 세???讚㈉湲??? 이용하여 조사하였다. 콜포스타트의 내측과 외측은 동시에 조사하였으며, 전방은 따로 조사하였다. 콜포스타트의 종축이 포함된 내외 횡단면과 윗쪽 표면 밖 0.5cm 떨어 진 만면에서 선량분포를 얻었다. 차폐효율은 콜포스타트의 상부측이 하부측보다 켰으며, 상부측에서는 종축에서 내측으로 $30^{\circ}$정도의 선과 하부측에서는 $50^{\circ}$정도의 선에서 차폐효율이 각각 가장 큰 것으로 나타났다. 콜포스타트의 중심에서 반경 7cm범위내에서 차폐효율은 상부 $30^{\circ}$에서는 0.26-0.42, 하부 $50^{\circ}$에서는 0.23-0.35였으며 거리가 밀어짐에 따라 감소하였다. 콜포스타트 상부표면에서 0.5cm떨어진 만면에서 대략 3cm 반경의 원내에서는 차폐효과가 있었지만 그 밖에서는 거의 없었다.
3차원적인 타겟 모양을 축소 제작하여 액체 차폐물 속에 넣고 이를 방사선의 경로상에 장착하여 갠트리가 회전하더라도 제작된 타겟의 원래의 방향이 변하지 않도록 중력방향에 따라 회전하게 함으로써 액체 차페물(수은)의 두께차에 의해 방사선의 강도를 변화시킴은 물론 다엽콜리메터를 쓰지 않고도 갠트리 방향의 변화에 따른 방사선조사야의 모양이 자동적으로 이루어지도록 하는 방법을 개발하였다. 갠트리 0$^{\circ}$, 45$^{\circ}$, 90$^{\circ}$ 에서 5cm의 깊이에 필름을 두고 강도변화를 측정한 결과 갠트리가 회전함에 따라 실제 타겟의 3차원적 모양에 따른 강도 변화가 이루어지고 있음을 볼 수 있었다. 이는 외부에서 어떤 영향을 가하지 않고 갠트리 방향만 회전함에 따른 결과로 아크릴 삽입체의 방향이나 위치가 항상 일정하게 유지되고 있고, 그에 따라 방사선의 강도변화가 자동적으로 수행되고 있음을 보여주었다. 직경 25cm 아크릴 팬텀 내에 필름을 넣고 0$^{\circ}$ 에서부터 45$^{\circ}$ 간격으로 등선량으로 8문 조사를 한 결과 타겟의 isocenter에 선량을 100%로 할 경우 80% 영역이 타겟을 적절히 감싸고 있음을 볼 수 있었다. 차후 최적화된 선량게획 시스템을 이용할 경우 지금의 선량분포 보다 타겟모양에 더욱 정확한 분포를 얻을 수 있을 것으로 생각된다.
Many researchers are interested in the synthesis and characterization of carbon nitride and diamond-like carbon (DLq because they show excellent mechanical properties such as low friction and high wear resistance and excellent electrical properties such as controllable electical resistivity and good field electron emission. We have deposited amorphous carbon nitride (a-C:N) thin films and DLC thin films by shielded arc ion plating (SAIP) and evaluated the structural and tribological properties. The application of appropriate negative bias on substrates is effective to increase the film hardness and wear resistance. This paper reports on the deposition and tribological OLC films in relation to the substrate bias voltage (Vs). films are compared with those of the OLC films. A high purity sintered graphite target was mounted on a cathode as a carbon source. Nitrogen or argon was introduced into a deposition chamber through each mass flow controller. After the initiation of an arc plasma at 60 A and 1 Pa, the target surface was heated and evaporated by the plasma. Carbon atoms and clusters evaporated from the target were ionized partially and reacted with activated nitrogen species, and a carbon nitride film was deposited onto a Si (100) substrate when we used nitrogen as a reactant gas. The surface of the growing film also reacted with activated nitrogen species. Carbon macropartic1es (0.1 -100 maicro-m) evaporated from the target at the same time were not ionized and did not react fully with nitrogen species. These macroparticles interfered with the formation of the carbon nitride film. Therefore we set a shielding plate made of stainless steel between the target and the substrate to trap the macropartic1es. This shielding method is very effective to prepare smooth a-CN films. We, therefore, call this method "shielded arc ion plating (SAIP)". For the deposition of DLC films we used argon instead of nitrogen. Films of about 150 nm in thickness were deposited onto Si substrates. Their structures, chemical compositions and chemical bonding states were analyzed by using X-ray diffraction, Raman spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and infrared spectroscopy. Hardness of the films was measured with a nanointender interfaced with an atomic force microscope (AFM). A Berkovich-type diamond tip whose radius was less than 100 nm was used for the measurement. A force-displacement curve of each film was measured at a peak load force of 250 maicro-N. Load, hold and unload times for each indentation were 2.5, 0 and 2.5 s, respectively. Hardness of each film was determined from five force-displacement curves. Wear resistance of the films was analyzed as follows. First, each film surface was scanned with the diamond tip at a constant load force of 20 maicro-N. The tip scanning was repeated 30 times in a 1 urn-square region with 512 lines at a scanning rate of 2 um/ s. After this tip-scanning, the film surface was observed in the AFM mode at a constant force of 5 maicro-N with the same Berkovich-type tip. The hardness of a-CN films was less dependent on Vs. The hardness of the film deposited at Vs=O V in a nitrogen plasma was about 10 GPa and almost similar to that of Si. It slightly increased to 12 - 15 GPa when a bias voltage of -100 - -500 V was applied to the substrate with showing its maximum at Vs=-300 V. The film deposited at Vs=O V was least wear resistant which was consistent with its lowest hardness. The biased films became more wear resistant. Particularly the film deposited at Vs=-300 V showed remarkable wear resistance. Its wear depth was too shallow to be measured with AFM. On the other hand, the DLC film, deposited at Vs=-l00 V in an argon plasma, whose hardness was 35 GPa was obviously worn under the same wear test conditions. The a-C:N films show higher wear resistance than DLC films and are useful for wear resistant coatings on various mechanical and electronic parts.nic parts.
Leksell 감마나이프(B-형)가 1992년 3월 경희대학교 의과대학 병원에 설치되었다. 선택적 빔 Plugging방법을 이용하여 정상 민감 조직에 대한 저선량 분포를 현저히 줄일 수 있으며, 또한 치료 부위에 더 좋은 선량 분포를 얻을 수 있다. 저선량에 대한 여러가지 선량 분포의 변화에 대한 연구를 하였으며, 사용중인 KULA프로그램의 선량 분포 곡선을 평가하기 위해 필름을 이용한 방사선량 계측을 실시하였고, RFA-3자동 밀도 측정기를 이용하여 평가하였다. 1992년 3월부터 1993년 2월까지 1년동안 100명의 환자중 17명의 환자에 선택적 빔 차폐 방법이 적용되었다. 고선량 영역에서는 측정값과 프로그램에서 제공된 선량 분포가 잘 일치하였다. 뇌하수체 선종의 치료시 치료 부위가 클 경우에는 본 연구 방법의 적용이 매우 중요시 되었으며, 반면에 치료 영역이 작을 경우에는 적절한 헬맷의 선택이 중요함을 알 수 있었다. 치료 환자의 중요 민감 장기의 방사선 선량 평가에서는 뇌간에 3~12 Gy, 시신경 교차에 3~11.2 Gy이었다. 중추신경계 영역의 최적화된 치료를 위하여 다양한 Plugging형태를 임상에 적용하는 것이 방사선에 민감한 정상 조직을 보호하기 위해 매우 중요한 인자가 됨을 알았다.
의료용 선형가속기에서 발생되는 고 에너지 광자선은 콜리메이터에 의하여 누출되며 치료두부(head), 콜리메이터, 환자를 포함한 치료실내의 모든 벽과 구성 물질들에 의하여 많은 산란선이 발생된다. 방사선치료는 종양에 따라서 최소한 40 Gy에서 80 Gy까지 조사되기 때문에 주위건강조직 특히 생식가능한 사람에 대한 생식선의 피폭선량을 평가하여야하며 종양치료에 영향을 주지 않은 범위에서 가능한 방법을 동원하여 피폭선량을 줄여야한다. 방사선 안전관리등의 기술기준에 관한 규칙(과학기술부령 제17호) 제3절 의료분야의 특별기준, 제44조(진료환자의 방사선 피폭)에 의하면 진료를 위한 환자 피폭선량을 합리적으로 달성 가능한 최소의 수준으로 유지하기 위한 절차를 구비하여야 하며 과학기술부 장관은 이에 준하는 의료시설 및 장비취급의 기술기준을 정하고 고시하여야한다고 명시 되어있다. 고 에너지방사선은 악성종양환자들의 치료성과를 향상시키는 동시에 치료후 방사선에 의한 만성효과가 발생 될 수 있기 때문에 주선속의 다양한 산란선과 누출선의 선질변화와 선량을 측정하고 생식선과 같은 주요장기를 산란선으로부터 차폐할 수 있는 기구를 제작 사용함으로서 방사선 피폭선량을 최대한으로 감소시킬 수 있었다. 고 에너지 방사선은 의료용 선형가속기(CLINAC 2100C/D. 2100C. 600C)에서 발생시킨 4, 6, 10 MV x-ray와 코발트원격치료장치(ALCYON II)의 코발트선원에서 방출되는 1.25 MV의 감마선을 이용하였다. 선량측정은 폴리스틸렌과 인체팬텀(Rando)사용하였으며 측정기는 이온함, TLD 및 필름을 사용하였다. 고 에너지 방사선에 의한 산란선은 장치의 콜리메이터 뿐만 아니라 치료실 벽 인체내부등 모든 방향에서 방사됨으로 납 벽돌에 의한 차폐율측정은 많은 변수를 가졌으며 고환인 경우에는 3면이 모두 차폐되도록 항아리모양으로 제작하였다. 태아인 경우 태아가 위치하고 있는 골반위에 육교모양의 선반을 만들고 그 위에 납 벽돌을 장치하도록 고안하였다. Co-60 감마선, 4 MV x-선, 10 MV x-선에서 발생되는 누출선량과 산란선량에 의한 평균 피폭선량은 조사면 중심으로부터 10, 30, 60cm 거리에서 조사면내 최대선량에 대하여 각각 $10^{-2},\;10^{-3},\;10^{-4}$의 비율로 측정되었으며 거리에 따라 지수함수로 줄어들었다. 흉부에 국한된 종양을 10 MV x-ray, $12{\times}12 cm^2$ 조사면으로 치료하였을 때 자궁에 받는 피폭선량은 0.9 mGy/Gy이며 고환이 받는 피폭선량은 0.6 mGy/Gy 이었으며 체장과 신장은 각각 4.8 mGy/Gy 와 2.5 mGy/Gy이다 10 MV x-선, $14{\times}14cm^2$ 조사면 경계로부터 10 cm 밖에서 납벽돌의 반가층 두께는 약 9.0 mm 이였고 20cm 밖에서는 반가층 두께가 약 6.5 mm로 측정되었다. 복부에 위치한 악성종양을 60 Gy 조사하였을 경우 태아가 위치하고 있는 자궁의 피폭선량은 약 370 mGy이고 이곳을 10 mGy이하가 되도록 차폐하려면 약 6.2 cm두께의 납 벽돌을 자궁위에 장착하여야 하며 골반치료시 고환에 10 mGy이하가 되도록 차폐하려면 약 5 cm 두께의 납 항아리가 요구된다. 고 에너지 고 준위 방사선치료시 고환은 3면을 항아리모양으로 차폐할 수 있어 피폭선량을 상당히 줄일 수 있으며 자궁인 경우 체내에서 산란된 선량의 차폐는 불가능하였다.
Electromagnetic interference shielding and near-infrared cutoff filters for plasma display panel application were designed and fabricated by radio frequency magnetron sputtering. Three types of the filters were prepared: the basic structure of type A consisted of [$TiO_2$ Ti Ag $TiO_2$]; type B, of [$TiO_2$ ITO Ag $TiO_2$]; type C, of [$TiO_2$ ITO Ag ITO $TiO_2$]. Ti and ITO layers deposited on Ag layers were employed as barriers to prevent the oxidation and the diffusion of Ag film into the adjacent oxide layers. Optical, electrical, chemical, and structural properties were investigated, and the result shows that the filters with the ITO barrier layers provided an enhancement in transmittance in the visible owing to a lower absorption of ITO layers than Ti layers. Type C filter showed better optical and electrical performances and smoother surface roughness than Type B and C filters: the average sheet resistance was as low as 1.51 $\Omega\Box$ (where $\square$ stands for a square film), the peak transmittance in the visible was as high as 78.2 %, and the average surface roughness was 1.48 nm.
Structually organized mono- and multilayers were developed on gold for the catalytic and affinity biosensing using hyper-branched dendrimers. For the catalytic biosensing interface, a new approach to construct a multilayered enzyme film on the electrode surface was developed. The film was prepared by layer-by-layer depositions of dendrimers and periodate-oxidized glucose oxidase. The voltammograms obtained from the GOx/dendrimer multilayered electrodes revealed that bioelectrocatalytic response is directly correlated to the number of deposited bilayers. From the analysis of voltammetric and ellipsometric signals, the coverage of active enzyme per layer during the layering steps was estimated, demonstrating the spatially-ordered multilayer formation. As an extension of the study, dendrimers having various degrees of ferrocenyl modification were prepared and used. The resulting electrodes were electrochemically characterized, and the density of ferrocenyl groups, active enzyme coverage, and sensitivity were estimated. For the affinity-sensing surrface, a biosensor system based on avidin-biotin interaction was developed. As the building block of affinity monolayer, G4 dendrimer having partial ferrocenyl-tethered surface groups was prepared and used. And the biotinylated and electroactive dendritic monolayer was used for the affinity-sensing surface interacting with avidin. Electrochemical characterization of the resulting biosensor was conducted using free enzyme in electrolyte in terms of degree of surface coverage with avidin and subsequent surface shielding.
We report the status of the cold neutron triple-axis spectrometer (Cold TAS) and thermal neutron triple-axis spectrometer (Thermal TAS) installed at HANARO. Cold TAS, whose specifications are standard across the world, is in the final phase of commissioning. Proper instrument operation was confirmed through a feasibility study of phonon measurements and data analyses with resolution convolution. In contrast, Thermal TAS is in the initial phase of commissioning, and improvement of the monochromator drum is now in progress from the viewpoint of radiation shielding. In addition, we report recent activities in the development of neutron basic elements, that is, film-coated Si-wafer collimators, which are promising for use in triple-axis spectroscopy, particularly in Cold TAS.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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