• 제목/요약/키워드: Pt$TiO_{2}$

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Seed Layer를 통한 PZT 박막의 결정립 크기 조절 (Control of Grain Size of PZT Thin Film through Seed Layers)

  • 김태호;김지영;이인섭
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2000년도 영호남학술대회 논문집
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    • pp.273-278
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    • 2000
  • In order to study effects of interface layers between PZT films and electrodes for MFM(Metal-Ferroelectric-Metal) structure capacitors, we have fabricated the capacitors with the Pt/PZT/interface-layer/Pt/$TiO_2/SiO_2/Si$ structure. $PT(PbTiO_3)$ interface layers were formed by sol-gel deposition and PbO, $ZrO_2$ and $TiO_2$ thin layers were deposited by reactive sputtering. $TiO_2$ interface layers result in the finest grains of PZT films compared to $PbO_2$ and $ZrO_2$ layers. On the other hand, PT interface layers result in improved morphology of PZT films and do not significantly change ferroelectric properties. It is also observed that seed layers at the middle and top of PZT films do not give significant effects on grain size but the PT seed layer at the interface between the bottom electrode and the PZT films results in the small grain size.

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비휘발성 메모리용 대체 강유전체 박막 (Ferroelectric Thin Film as a substitute for Non-volatile Memory)

  • 김창영;장승우;우동찬;남효덕;이희영
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 1999년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.509-512
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    • 1999
  • Ferroelectric Sr$_2$(Nb, Ta)$_2$O$_{7}$(SNTO), La$_2$Ti$_2$O$_{7}$(LTO) thin films were prepared by sol-gel processes. SNTO, LTO thin films were spin-coated on Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si(100). Pt/Ti/SiO$_2$/Si(100). PT/ZrO$_2$/SiO$_2$/Si(100) substrates. After multiple coating, dried thin films were heat-treated for decomposition of residual organics and crystallization. Dielectric and other relevant electrical properties were measured and the results showed a little possibility in ferroelectric gate random access memory devices.ces.

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Pt/Ti/Si 기판위에 형성시킨 PZT박막의 특성 (Characterizations of Sputtered PZT Films on Pt/Ti/Si Substrates.)

  • 황유상;백수현;백상훈;박치선;마재평;최진석;정재경;김영남;조현춘
    • 한국재료학회지
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    • 제4권2호
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    • pp.143-151
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    • 1994
  • $(PbZr_{52},Ti_{48})O_{3}$인 composite ceramic target을 사용하여 R. F. 마그네트론 스퍼터링 방법으로 기판온도 $300^{\circ}C$에서 Pt/Ti/Si 기판위에 PZT 박막을 증착하였다. 페롭스 카이트 PZT박막을 얻기 위하여 PbO분위기에서 로열처리를 행하였다. 하부전극으로 Pt를 사용하였으며 Pt(205$\AA$)/Ti(500 $\AA$)/Si 및 Pt(1000$\AA$)/Ti(500$\AA$)/Si기판을 준비하여 Pt두께화 Ti층이 산소의sink로 작용함으로서 이를 가속화하였다. Ti층의 상부는 산소의 확산으로 인하여 TiOx층으로 변태하였고 하부는 in diffused Pt와 함께 실리사이드층을 형성하였다. TiOx 층의 형성은PZT층의 방향성에 영향을 주었다. 유전상수 (10kHz), 누설전류, 파괴전압, 잔류분극 및 항전계는 각각 571, 32,65$\mu A /\textrm{cm}^2$, 0.40MV/cm, 3.3$\mu C /\textrm{cm}^2$, 0.15MV/cm이었다.

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Catalytic Activity of Au/$TiO_2$ and Pt/$TiO_2$ Nanocatalysts Prepared with Arc Plasma Deposition under CO Oxidation

  • Jung, Chan Ho;Kim, Sang Hoon;Sahu, Nruparaj;Park, Dahee;Yun, Jung Yeul;Ha, Heonphil;Park, Jeong Young
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.288-288
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    • 2013
  • We report the catalytic activity of Au/$TiO_2$ and Pt/$TiO_2$ nanocatalysts under CO oxidation fabricated by arc plasma deposition (APD), which is a facile dry process with no organic materials involved. Using APD, the catalyst nanoparticles were well dispersed on $TiO_2$ powder with an average particle size (2~4 nm) well below that of nanoparticles prepared by the sol-gel method (10 nm). We found that the average particle size of the dispersed gold nanoparticles can be controlled by changing the plasma discharge voltage of APD. Accordingly, the amount of loaded gold on the $TiO_2$ powder increased with increasing discharge voltage, but the specific surface area of the Au/$TiO_2$ samples decreased. As for catalytic reactivity, Au/$TiO_2$ showed a higher catalytic activity than Pt/$TiO_2$ in CO oxidation. The catalytic activity of the Au/$TiO_2$ samples showed size dependence where higher catalytic activity occurred on smaller gold nanoparticles. The study suggests that APD is a simple way to fabricate catalytically active nanocatalysts.

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펄스레이저를 이용한 $MgTiO_3$ 박막의 성장 및 특성

  • 강신충;임왕규;이재찬
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2000년도 제18회 학술발표회 논문개요집
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    • pp.68-68
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    • 2000
  • 펄스레이저 증착법(이하 PLD)을 이용하여 마이크로파 유전체 소자 및 절연 산화막으로의 응용을 위한 MgTiO3 박막을 다양한 기판상에서 증착하였다. 사파이어 기판에 (a,c-plane Al2O3) 성장된 MgTiO3 박막은 에피텍셜 성장(epitaxial growth)이 되었으며, SiO2/Si 및 Pt/Ti/Si 기판위세 성장된 MgTiO3 박막의 경우 003방향으로 배향(oriented) 되었다. MgTiO3 박막은 450~75$0^{\circ}C$까지 기판온도를 변화시키면서 증착시켰으며, 증착시 산소분압은 50~200 mTorr로 변화시켰다. PLD 증착시 타켓에 조사된 레이저 에너지 밀도는 약 2J/cm2였으며, MgTiO3 박막 증착후 200Torr O2 분위기에서 상온까지 1$0^{\circ}C$/min 의 속도로 냉각시켰다. 사파이어 c-plane 상에서 일머나잇(ilminite) MgTiO3 구조가 55$0^{\circ}C$ 에피텍셜 성장하는 것을 관찰할 수 있었으며, 사파이어 a-plane 상에서는 MgTiO3 구조가 $650^{\circ}C$ 이상부터 110방향으로 배향되며 성장하였다. $600^{\circ}C$ 이상에서 c-축으로 배향된 구조를 갖고 있었다. 증착된 MgTiO3 박막의 조성분석(stoichio metric analysis)을 위해 RBS 분석을 수행하여, 증착에 이용된 타켓과 동일한 조성을 갖는 MgTiO3 박막이 성장된 것을 확인할 수 있었다. 사파이어 기판상에 증착된 MgTiO3 박막은 가시영역에서 투명하였으며, 약 270nm 파장을 갖는 영역에서 급격한 흡수단을 보였다. 이때의 MgTiO3 박막은 AFM 분석을 통해 약 0.87mn rms roughness 값을 갖는 매우 평탄한 표면구조를 갖고 있는 것을 확인하였다. MIM(Pt/MgTiO3/Pt) 구조의 캐패시터를 형성시켜 MgTiO3 박막의 유전특성(dielectric properties)을 관찰하였다. PLD로 성장된 MgTiO3 박막의 유전율(relative dielectric constant)은 약 22였으며, 1MHz에서 약 1.5%의 유전손실(dielectirc loss) 값을 보였다. 또한 이때 MgTiO3 박막은 낮은 유전분산값을 보였다.

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$\textrm{SrTiO}^3$ 와 과잉 MgO가 첨가된 $\textrm{Pb(Mg_{1/3}Nb_{2/3})O}_3$ - $\textrm{PbTiO}^3$ 계 세라믹스의 유전 및 변위 특성 (Dielectric and Strain Properties of PMN-PT Ceramics Doped with $\textrm{SrTiO}^3$ and excess MgO)

  • 이상훈
    • 전자공학회논문지T
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    • 제36T권3호
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    • pp.7-12
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    • 1999
  • 본 논문은 (1-x-y)PMN-yPT-xST세라믹스의 유전 및 변위특성을 ST의 양에 따라 조사하였다. ST의 성분은 1∼ 6㏖%이내로 변화시켰고 과잉 MgO에 따른 조성변화에 따라 결과를 조사하였다. ST의 성분의 증가에 따라 유전상수는 5㏖%인 조성에서 최대값을 나타내었다. 큐리온도는 ST의 성분이 증가함에 따라 선형적으로 감소하였다. 항전계와 잔류분극은 l㏖%인 조성에서 최대값을 나타내었다. 과잉 MgO의 효과에 따라 유전상수는 0.8PMN-0.12PT-0.04ST조성에서 MgO를 3㏖%까지 과잉 첨가함에 따라 증가하였으나 변위특성은 감소함을 나타내었다.

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Pt/TiO2 촉매의 물리화학적 특성이 NH3-SCO 반응활성에 미치는 영향 (The Selective Catalytic Oxidation of Ammonia: Effect of Physicochemical Properties on Pt/TiO2)

  • 신중훈;김동호;홍성창
    • 공업화학
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    • 제28권3호
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    • pp.279-285
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    • 2017
  • 본 연구에서는 $200{\sim}350^{\circ}C$의 범위에서 $NH_3$를 제어하기 위한 선택적 촉매 산화법(SCO)의 연구를 수행하였다. 제조된 촉매들의 물리화학적 특성을 확인하기 위하여 XRD, XPS 분석을 수행하였다. 열처리 조건에 따른 촉매의 반응활성은 수소로 환원시킨 촉매가 소성한 촉매보다 우수한 활성을 나타냈으며, XPS 분석을 통하여 환원촉매의 산화가 비율은 주로 $Pt^{2+}$$Pt^0$가 존재하는 것을 확인할 수 있었다. 또한 환원온도에 따른 $Pt/TiO_2$ 촉매의 반응활성을 비교해본 결과 $700^{\circ}C$에서 환원한 촉매가 가장 우수한 $NH_3$ 전환율을 나타냈으나, $N_2$로의 전환율은 $600^{\circ}C$에서 환원한 촉매가 가장 우수한 것을 확인하였다.

PT, PZ와 PZT나노튜브의 졸-겔 형판합성과 특성 (Sol-Gel Template Synthesis and Characterization of PT, PZ and PZT Nanotubes)

  • 장기석
    • 대한화학회지
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    • 제46권3호
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    • pp.242-251
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    • 2002
  • 졸-겔 형판 합성법을 이용하여 페로브스카이트 구조를 갖는 나노튜브를 합성하고 그 특성을 조사하였다. PbTiO3(PT), PbZrO3(PZ)와 PbZrO3-PbTiO3(PZT)고용체 나노튜부는 반응물, Ti(OPri)4, Zr(OBu)3와 Pb(OAc)2-3H2O 들의 킬레이트 졸-겔 합성법에 의해서 합성하였다. 산화 알루미늄 형판은 200nm의 직경을 갖는 훠트만 아노디스크가 사용되었다. 6.0M-NaOH 용액에서 형판을 제거한 다음, 주사현미경 분석에 의해서 50m 길이와 200nm 외곽 직경의 생성물 나노튜브를 확인할 수 있었다. 투과현미경 분석과 전자회절 분석에 의하여 나노튜브가 다결정임을 확인하였다. DSC 분석에 의하여 PT 나노튜브의 상전이 온도는 특이하게도 234.4$^{\circ}C$ 임이 확인되었으며, 이때의 입자크기는 X-선 분석의 하나인 Scherrer 식에 의해서 15.4nm 임이 계산되었다.

(1-x)Pb(Yb1/2Nb1/2)O3-xPbTiO3 (0.40 ≤ x ≤ 0.60) 고용계에서의 PbTiO3 치환에 따른 상전이 영역의 상전이 거동과 유전특성 (Phase Transition Behavior and Dielectric Properties of Morphotropic Phase Boundary in (1-x)Pb(Yb1/2Nb1/2)O3-xPbTiO3 (0.40 ≤ x ≤ 0.60) Solid Solutions)

  • 김정현
    • 한국세라믹학회지
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    • 제49권3호
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    • pp.253-259
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    • 2012
  • In this study, crystal structural changes and dielectric properties of $(1-x)Pb(Yb_{1/2}Nb_{1/2})O_3-xPbTiO_3$ ((1-x)PYN-xPT) solid solutions were measured and analyzed with respect to the $PbTiO_3$ (PT) contents ($0.40{\leq}x{\leq}0.60$). From X-ray diffraction (XRD) measurements, (1-x)PYN-xPT solid solutions showed changes of the crystal structure from pseudocubic ($0.40{\leq}x{\leq}0.44$) to tetragonal ($0.52{\leq}x{\leq}0.60$) on increasing PT contents and exhibited the coexistence of pseudocubic and tetragonal phase near the morphotropic phase boundary (MPB) composition ($0.46{\leq}x{\leq}0.50$). The dielectric constant showed a maximum value at x = 0.46 and the maximum values in (1-x)PYN-xPT decreased with higher PT contents. The phase transition temperatures of (1-x)PYN-xPT solid solutions increased over the whole composition ranges tested ($0.40{\leq}x{\leq}0.60$).