한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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pp.776-779
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2006
The alignment of liquid crystal (LC) is one of the key issues of liquid crystal display (LCD) technologies. In this study, we aligned polyimide (as the LC alignment layer) by ALT plasma beam and to realize the stability and characteristics of this technology. The characteristics such as anchoring energy, pre-tilt angle, voltage holding ratio(VHR) and residual direct current(Rdc) were discussed. Besides, we applied it to the in plane switch (IPS) mode 23" WXGA real panel, the performance parameters and electrical properties were measured and compared with those of rubbing alignment. From the result, we demonstrated a successful LC alignment treatment process in real panel by ALT plasma beam.
Since the introduction of non-thermal atmospheric pressure plasma in the field of the dentistry, numerous applications have been investigated. Especially with its advantages over existing vacuum plasma in terms of portability, low cost, and non-thermal damage, it can be directly applied in the oral cavity, giving number of potentials for dental application. First, possible application of non-thermal atmospheric pressure plasma in the field of dentistry is relation to dental caries and periodontal diseases. Teeth and alveolar bones are one of the strongest bony structures in our body, but it cannot be regenerated when they are damaged by dental caries or periodontal disease. Hence many studies to prevent such diseases have been carried out, though no perfect solution has been found yet. With recent studies of modifying surfaces through non-thermal atmospheric pressure application that can prevent attachment of bacteria, or studies on bactericidal effects of non-thermal atmospheric pressure plasma can be applied here to prevent oral pathogen and 'biofilm' attachment to the surface of teeth or directly eliminate the dental caries/periodontal disease causing germs. Secondly, non-thermal atmospheric pressure application will be useful on the surface of dental implant. It is well known that the success of dental implant surgery depends on the process known as 'osseointegration' that result from osteoblast attachment, proliferation and differentiation. As the application of non-thermal atmospheric pressure plasma on the surface of dental implant just before its introduction by the chair-side of dental surgery. Despite its long history, the generation of non-thermal atmospheric pressure plasma has been greatly increased with its application in dentistry.
This paper presents an atmospheric microplasma-jet device for bio~medical application. The microplasma-jet device consists of four components; a thin Ni anode, porous alumina insulator, a stainless steel cathode and an aluminum case. The anode has 8 holes, and hole diameter and depth are $200 {\mu}m$ and $60 {\mu}m$, respectively. The discharge test was performed in atmospheric pressure using nitrogen gas and AC voltage at the optimum gas flow rate of 4 Vmin. The plasma-jet is ejected stably for the input voltage ranging from 5.5 to $9.5 kV_{p-p}$. The plasma becomes dense as the input voltage increases, which was verified by the hydrophilicity change of PMMA surface treated by the plasma. The temperature increasement of the aluminum film exposed to plasma-jet illustrates that the micro plasma-jet device is feasible for bio-medical application.
Kim, Ju-Sung;Min, Boo-Ki;Kang, Seong-Oun;Choi, Eun-Ha
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2015년도 제49회 하계 정기학술대회 초록집
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pp.153-153
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2015
Application of the plasma is already highlighted as a new technology in the last few years. In these days, there are lots of attempt in various application with plasma in that it is known as an effective treatment to animal, plants, material and so on. Plasma in liquid, one of new plasma applications, has advantages in ability to treat bio-cell or solutions. For example, electro-surgery, water purification, radical generation and so on. Especially, plasma discharge in solutions is very useful technique and difficult to generate due to electrolysis, vaporization and something else. In this study, we have performed plasma discharge and checked sustainability of plasma in solution(saline 0.9%). And we have measured basic characteristics of plasma in liquid. Such as electrical energy and plasma density are calculated from discharging current and voltage. Also, its thermal energy is measured with IR camera.
A brief review on the thermal plasma synthesis of nano-sized powders is presented according to the application materials, such as, metals, ceramics, glasses, carbonaceous materials and other functional composites, such as, supported metal catalyst and core-shell structured nano materials. As widely adopted plasma sources available for thermal plasma synthesis of nanosized powders, three kinds of plasma torches, such as transferred and non-transferred DC and RF plasma torches, are introduced with the main features of each torch system. In the basis of the described torch features and the properties of suggested materials, application results including synthesis mechanism are reviewed in this paper.
The use of plasma has increased in bio-application field in recent years. Particularly, water treated by arc discharge or atmospheric pressure plasma has been actively utilized in bio-industry. In this study, we have developed a plasma activated water generating system. For this system, two kinds of plasma sources; dielectric barrier discharge (DBD) plasma and arc discharge plasma have been used. The discharge energy was calculated using the breakdown voltage and current, and the emission spectrum was measured to investigate the generated reactive species. We also analyzed the amount of reactive oxygen and nitrogen species in water using the chemical methods and nitric oxide sensor. Finally, the influence of plasma generated reactive species on the germination and growth of spinach (Spinacia oleracea) was investigated. Spinach is a green leafy vegetable that contains a large amount of various physiologically active organic compounds. However, it is characterized with a low seed germination rate.
한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권2호
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pp.1220-1224
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2007
The effects of plasma damages to the organic thin film transistor (OTFT) during the fabrication process are investigated; metal deposition process on the organic gate insulator by plasma sputtering mainly generates the process induced damages of bottom contact structured OTFTs. For this study, various deposition methods (thermal evaporation, plasma sputtering, and neutral beam based sputtering) and metals (gold and Indium-Tin Oxide) have been tested for their damage effects onto the Poly 4-vinylphenol(PVP) layer surface as an organic gate insulator. The surface damages are estimated by measuring surface energies and grain shapes of organic semiconductor on the gate insulator. Unlike thermal evaporation and neutral beam based sputtering, conventional plasma sputtering process induces serious damages onto the organic surface as increasing surface energy, decreasing grain sizes, and degrading TFT performance.
This study was undertaken to achieve a high bleaching efficacy with plasma, through longer application and reparative bleaching processes, by different shade evaluation methods. Extracted human teeth were divided into 6 groups (n=10). All teeth were treated in pairs. Low concentration of 15% carbamide peroxide (CP) was applied, with and without plasma, for 10, 20, and 30-min tooth bleaching, respectively. The bleaching procedure was repeated once daily for four days. The teeth were maintained in a moist environment provided by artificial saliva. The Vitapan Classical shade guide and Commission Internationale de L'Eclairage (CIELAB) color system were collectively used to measure the bleaching efficacy. Color evaluation was statistically analyzed using Student t-test and one-way analysis of variance (ANOVA) complemented by Tukey's test. Combining the plasma with 15% CP showed significantly greater color changes compared to bleaching without plasma (p<0.05). A high bleaching efficacy with plasma is proportional to the repetitive application and the treatment time. A 30-min application with plasma provided the best bleaching. Repetitive bleaching showed lower probability of color relapse of the bleached tooth. The color change by shade guide correlated with the changes in CIELAB color system. A value of 1 color change units (CCU) conversion factor for overall color change (${\Delta}E$) values comparisons was 3.724 values. The two measuring methods provide a more accurate correspondence of color change. The repetitive and longer application for tooth bleaching, combined with plasma, has a strong bleaching effect and produces whiter teeth.
Kim, M.C.;S.H. Cho;J.H. Boo;Lee, S.B.;J.G. Han;B.Y. Hong;S.H. Yang
한국표면공학회:학술대회논문집
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한국표면공학회 2001년도 춘계학술발표회 초록집
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pp.72-72
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2001
Plasma polymerized thin films have been deposited on Si(lOO) substrates at $25-400^{\circ}C$ using thiophene ($C_4H_4S$) precursor by plasma assisted chemical vapor deposition (PACVD) method for low-dielectric device application. In order to compare physical properties of the as-grown thin films, the effects of the plasma power, gas flow ratio and deposition temperature on the dielectric constant and thermal stability were mainly studied. XRD and TED studies revealed that the as-grown thin films have highly oriented amorphous polymer structure. XPS data showed that the polymerized thin films that grown under different RF power and deposition temperature as well as different gas ratio of $Ar:H_2$ have different stoichiometric ratio of C and S compared with that of monomer, indicating a formation of mixture polymers. Moreover, we also realized that oxygen free and thermally stable polymer thin films could be grown at even $400^{\circ}C$. The results of SEM, AFM and TEM showed that the polymer films with smooth surface and sharp interface could be grown under various deposition conditions. From the electrical property measurements such as I-V and C-V characteristics, the minimum dielectric constant and the best leakage current were obtained to be about 3.22 and $10-11{\;}A/\textrm{cm}^2$, respectively.
Toxic waste disposal: Many people think that when toxic waste is dumped into the ocean or into the air, it disappears. This belief is incorrect. Rather than disappearing, it accumulates over time and slowly destroys the environment. Ultimately, it leads to the destruction of human race. Plasma is environmentally friendly: Plasma is environmentally friendly because it is created and disappears. When plasma is formed on the earth, you need certain conditions such as accelerating electrons by an electrical discharge or a particle accelerator. When this is gone, plasma completely disappears, leaving no impact on the environment. Plasmas produce radicals: Even if plasma density is low at atmospheric pressure, many radicals (excited states of molecules) are created. These radicals are chemically very aggressive. So instead of using harmful chemicals, plasma can be utilized for less of an impact on the environment. Plasma can reach very high temperatures: Plasma is also useful because when you control the density, you can easily reach high temperatures up to $5000{\sim}6000^{\circ}C$ at atmosphere pressure. Because of this heat and the chemical aggressiveness of the plasma, there are many green applications for plasma technology. Pulsed power technology: Pulsed electric field for extraction, drying and killing bacteria. Treatment of biological tissue by pulsed electric fields: Extraction of substances from cells: Sterilisation, Medical applications, Growth stimulation, Food preparation. Each application has its specialities, especially with respect to pulse shape and electric field strength.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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