비정질알루미나와 기공형성제에 물을 혼합하여 원통형으로 성형하고 수화한 다음, 건조 및 소성하여 직경 5mm, 평균 길이 약 10mm의 $\gamma-$알루미나 펠릿을 제조하였다. 이를 $Fe(NO_{3})_{3}{\cdot}9H_{2}O$용액과 $CH_{3}COOH$ 혼합용액에 침척시켜 $200^{\circ}C$ 온도로 3시간 수열처리한 후, 건조하고 소성하여 촉매를 제조하였다. 이와 같이 수열법에 의해 제조된 $Fe_{2}O_{3}/\gamma-Al_{2}O_{3}$ 세라믹촉매를 환경촉매로 적용하기 위해, 아닐린과 같은 난분해성물질을 촉매를 사용하지 않는 오존단독공정과 촉매를 사용하는 촉매오존(catalytic ozonation)공정으로 구분하여 $OH^{\cdot}$ 라디칼 전환반응 개시제로서의 기능과 그 분해특성을 비교하였다.
$Ti_xSi_{1-x}O_y$ (TSO) thin films are fabricated using plasma-enhanced atomic layer deposition. The Ti content in the TSO films is controlled by adjusting the sub-cycle ratio of $TiO_2$ and $SiO_2$. The refractive indices of $SiO_2$ and $TiO_2$ are 1.4 and 2.4, respectively. Hence, tailoring of the refractivity indices from 1.4 to 2.4 is feasible. The controllability of the refractive index and film thickness enables application of an antireflection coating layer to TSO films for use as a thin film solar cell. The TSO coating layer on an Si wafer dramatically reduces reflectivity compared to a bare Si wafer. In the measurement of the current-voltage characteristics, a nonlinear coefficient of 13.6 is obtained in the TSO films.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제15권6호
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pp.348-352
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2014
In light of the sure protection function, the most important factors of a varistor are the clamping voltage ratio and degradation characteristics. The degradation characteristics of Pr/Co/Cr/Er co-doped zinc oxide varistors were investigated by impulse currents (0.4~2.1 kA) stress for the specified content of $Er_2O_3$ (0.5 and 2.0 mol%). The varistor doped with 2.0 mol% $Er_2O_3$ exhibited the best clamp characteristics, with the clamp voltage ratio (K) in the range of K = 1.63~1.88 at the impulse currents of 5-50 A. However, the varistor doped with 0.5 mol% exhibited excellent electrical stability, with variation rates for the breakdown field, for the nonlinear coefficient, and for the leakage current density of -6.9%, -12.6%, and -14.3%, respectively, after application of an impulse current of 2.1 kA. In contrast, the varistor doped with 2.0 mol% was destroyed after application of an impulse current of 1.2 kA.
[ $HfO_2$ ] thin films were deposited at $300^{\circ}C$ on p-type Si (100) substrates using $HfO_2(HfO_xN_y)$ as the precursor by plasma-enhanced chemical vapor deposition and were annealed at $300^{\circ}C$ in nitrogen plasma ambient. Compared with $HfO_2$, nitrogen plasma annealed $HfO_2$ show good chemical stability, higher crystallization temperature, lower leakage current and thermal stability. Leakage current density of nitrogen plasma annealed $HfO_2$ is approximately one order of magnitude lower than that of $HfO_2$ for the same EOT. The improvement in electrical characteristics of nitrogen plasma annealed $HfO_2$ can be explained by the better thermal stability due to nitrogen incorporation.
RF-magnetron sputtering 방법으로 형성한 $BaTa_2O_6$의 공정변수에 따른 전기, 광학적 특성변화를 관찰하여 $BaTa_2O_6$ 박막의 TFELD(thin film electroluminescent display) 절연막으로서 응용 가능성을 연구하였다. $BaTa_2O_6$ 박막의 유전특성은 증착시의 $O_2$ 함량과 sputtering 압력의 변화에는 큰 영향을 받지 않으나 기판온도에는 영향을 받는 것으로 확인되었다. 이들 공정변수를 가변하여 실험한 결과, $BaTa_2O_6$ 박막 형성의 최적조건으로 플라즈마 압력을 6 mtorr, sputtering gas 내의 $O_2$ 혼합비율은 40%, 기판온도는 $100^{\circ}C$로 결정하였다. 이상의 조건에서 제조된 $BaTa_2O_6$ 박막은 10.2 ${\mu}C/cm^2$의 매우 우수한 성능지수를 보였다. 이상의 $BaTa_2O_6$ 박막을 하부절연층으로, 절연파괴강도가 높은 $SiO_xN_y$를 상부 절연층으로 사용하여 제조된 EL 소자는 1 kHz, 삼각파 구동시 발광 임계전압은 약 32 volts, 최대휘도는 54 $cd/m^2$으로 측정되었다.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제7권2호
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pp.58-61
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2006
Carefully designed ZnO nanowire-film hybrid nanostructure, composed of a bottom ZnO film, ZnO nanowire arrays, and a top ZnO film, was consecutively fabricated by adjusting the supersaturation conditions using a metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) to utilize the vertically aligned ZnO nanowires as the oxygen sensors. The decrease of current flow through ZnO nanowire arrays increasing oxygen pressure showed the high potential for the application of the ZnO hybrid nanostructure to the oxygen sensors. In addition, it was confirmed that the oxygen sensing characteristics of this hybrid nanostructure were attributed to the defects near the surface of the nanowires.
한국초전도학회 1999년도 High Temperature Superconductivity Vol.IX
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pp.271-274
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1999
We are investigating epitaxially grown YBa$_2Cu_3O_x$(123) on MgO single crystal by partial melting process for high power application. After fabricating of BaCuO$_2$(011), Y$_2BaCuO_5$(211) powder, we made YBa$_2Cu_3O_x$(123) Paste with just mixing of (211), (011) and CuO(001) powders. Screen printing method was used to coat YBa$_2Cu_3O_x$(123) paste on MgO single crystal. To reduce the reaction in low temperature, rapid heating was conducted at partial melting temperature. The film was analysed with the difference of cooling-rate, thickness, reaction temperature by XRD, SEM, in-plane alignment, out-of-plane alignment, temperature-resistivity characteristics.
Journal of Korean Society for Atmospheric Environment
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제19권E3호
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pp.121-127
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2003
The characteristics of heterogeneous photocatalytic decomposition were investigated at low concentration level of $O_3$on TiO$_2$for various operating parameters such as: loaded catalyst weight (0∼4 mg/$\textrm{cm}^2$), initial concentration of $O_3$(0.06∼10.0 ppm), gas flow rate (1.0 ∼ 2.5ι/min), and relative humidity (0∼80%). This study was conducted using a flow-type reactor at room temperature. Three kinds of pure TiO$_2$(P25, ST -01, and E- 23) were employed as photocatalyts. It was found that $O_3$removal ratio was identical, regardless of the loaded TiO$_2$weight in the range from 0.5 to 4.0 mg/$\textrm{cm}^2$. It was also found that higher initial ozone concentration results in greater oxidation rate of ozone and experimental data show kinetically a good agreement with Langmur-Hinshelwood kinetic model. We also observed that the removal ratio of $O_3$increases linearly with the increasing flow rate and also with the increasing relative humidity for each catalyst.
Zirconium dioxide(ZrO2) thin films have been deposited by chemical vapor deposition technique involving the application of gas mixture of ZrCl4, and H2O into silicon wafers. The relationships between the deposition rate and various reaction parameters such as the deposition time, the gas flow rate, the deposition temperature, and the composition of reactant gases were studied. The film was identified as nearly stoichiometric monoclinic ZrO2. The apparent activation energy is about 19Kcal/mole at surface chemical reaction controlled region. The deposition rate is mainly influenced by the H2O-forming reacting between CO2 and H2.
Silage wm(cv, Gwanganok) was cultivated during 1991-1994 on paddy land as a rotational cropping system of rice, to evaluate the effect of cattle manure application on the soil characteristics, yield performance and quality of com plant. The treatments used in this study were non-fertilizer, NPK standard in chemical fertilizer(N:$P_2O_5$ : $K_2O$= 200 : 150 : 150 kg/ha), cattle manure 20.40, 60 and 80 ton/ha Application of cattle manure improved soil pH, organic matter, available phosphate and exchangeable cations in the soils. During the experiment, soil pH was improved from 4.7 in the chemical fertilizer application(control) to 5.4-5.6 in the application of cattle manure, and available $P_2O_5$ wntent was increased from 72.2 ppm(contro1) to 340.2 ppm(cattle manure 80 ton/ha). Application of cattle manure increased plant growth, plant height and stalk diameter, and silage yields. Dry matter yields were produced 15.88 ton(chemical fertilizer), 20.11 ton(cattle manure 40 ton) and 21.22 ton/ha(cattle manure 80 ton/ha). However, no signicant yield differences were observed between cattle manure 40, 60 and 80 tonlha Productions of total digestible nutrients(TDN) and net energy for lactation(NEL) were also increased under cattle manure application. From the abobe results, the proper application amount of cattle manure was 40 tonha in this experiment.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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