• 광학세계
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• 통권138호
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• pp.26-28
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• 2012

(주)모노클(대표 이강수 www.monocle.co.kr)은 LCD, PDP, OLED 제조공정에서 필요로 하는 광학 Stage의 국산화와 가공기술개발에 앞장서 왔다. 현재 정밀 Quartz 및 Ceramic가공 기술을 바탕으로 Lens, Prism, Mirror & Filter Stage Glass, Micro & Macro Optical Parts, Optical Systems 등을 주력으로 생산해 오고 있다. 작은 중소기업이지만 (주)모노클이 세계시장에서 경쟁할 수 있는 제품을 생산하며 큰 역량을 발휘할 수 있었던 원동력은 꾸준히 연구개발에 투자하여 기술집약적 토대를 만들었기 때문이다.

• 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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• 한국소음진동공학회 2002년도 추계학술대회논문초록집
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• pp.376.2-376
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• 2002

In this study, the shape of suspension load beam for NFR(Near Field Recording) was proposed, which was designed using Topology optimization based on Homogenization method. Lens and Micro-mirror are attached to the end of the suspension load beam for collection and control the light, which increasing the system mass. Increment of the system mass cause to decrease the tracking stiffness mode frequency. (omitted)

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1998년도 하계학술대회 논문집 G
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• pp.2547-2549
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• 1998

Automatic yield-test equipment for micro mirror array using image processing was developed. This computerized test equipment can classify the error states of the micromirrors. The test results are displayed on the monitor as a map which shows the error states and position. It is possible to measure yield and reliability with this test equipment for micromirror array using image processing.

• 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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• 한국소음진동공학회 2006년도 춘계학술대회논문집
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• pp.656-659
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• 2006

MD (DLP, LCoS) Projection TV is appropriate for large screen display with high definition at a relatively low price and thus, has been popular in the digital TV market. In order to realize high resolutions in the DLP projection TV, we successfully developed the Pixel Enhancement Actuator. Furthermore, it is also required that the contrast ratio of projected video signals onto a large screen should be improved. Therefore, we propose a contrast enhancer which adjusts the amount of projected lights by a dynamic aperture and a attached position sensor.

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제20권3호
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• pp.18-21
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• 2021

This paper analyzes the distortion correction of the in the micro DMD(digital micro mirror device) projector system using 0.25 or less optical throwing distance ratio. The distortion of projected image occurs depending on the performance of the optical lens, the installation location of the projection system, and the tilt of the screen. This study analyzed the physical tilt values influencing of the distortion of projected image, removed the tilt distortion of throwing distance ratio optical lens, and adjusted the distortion image by the simulation of calibration displacements. The results of this study demonstrated within 5% TV distortion reference. Moreover, the correction method reduced the pin-distortion correction of projection system.

• 한국광학회지
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• 제20권1호
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• pp.23-28
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• 2009

본 논문에서는 대면적 리소그래피를 위하여 홀로그램 영상을 연결하여 기록 물질에 저장하고 이를 마스크로 이용하는 노광 방법을 제안하고 구현하였으며, 홀로그램 영상을 재생하는 과정에서 발생되는 영상 연결 부분에서의 간섭 무늬를 제거하였다. 연결하고자 하는 영상은 DMD(digital micro-mirror device)로 표시하였으며, DMD 영상은 축소 광학계를 통하여 기록 물질에 저장되었다. 기록 물질은 전동 스테이지로 이동되도록 하여, DMD로 표시되는 영상이 기록 물질에 연속적으로 저장되도록 하였다. 이러한 방법으로 저장되는 연결된 영상은 재생광에 의하여 노광에 사용되는데, 재생광의 간섭성에 의하여 연결부분에 간섭무늬가 발생된다. 간섭무늬는 노이즈로 작용하는데, 다중 노광에 의한 홀로그램 영상의 기록과 재생을 이용하여 이를 제거하였다. 본 논문에서는 DMD와 전동 스테이지를 이용하여 영상을 연결하여 기록하고, 다중 노광에 의한 영상 기록 방법을 이용하여, 간섭 무늬가 제거된 연결된 영상을 구현하고 이를 리소그래피에 적용하였다.

• 전자공학회논문지
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• 제53권9호
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• pp.129-134
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• 2016

본 논문은 허상 디스플레이의 광원으로 적용되는 고휘도 레이저의 접합온도에 따른 파장 변이(an optical quenching) 제어와 광 출력 효율 증대를 위한 제어 방법에 대해 연구하였다. 차량용 헤드업 디스플레이(Head-up Display)와 같은 허상 디스플레이(Virtual Display)는 외부 조도 환경의 영향을 받는 디스플레이 특성으로 인하여 디스플레이 휘도와 광효율 측면의 기술요소에 대한 해결 방법이 요구된다. 태양광의 영향으로 인하여 헤드업 디스플레이는 고휘도 광원에 대한 필요가 증대되고 있으며, 이러한 문제점을 해결하기 위하여 고휘도 청색 레이저 광원이 검토되고 있다. 그러나 낮은 레이저 접합 온도 특성의 단점을 갖고 있어 수명 감소와 광효율 감소라는 문제점을 지니고 있으며 특히 청색 파장 변이를 일으키는 원인이 된다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 고주파 펄스폭 변조 방식의 전류인가 방법과 황색 형광 물질을 사용한 칼라 휠 방식의 DMD(digital micro mirror device) 초소형 패널을 적용하였다. 적응형 펄스폭 변조 방식의 주파수와 듀티비 분석과 최적화를 통하여 청색 레이저의 파장 변이를 방지하고 37%의 광효율을 증대 효과를 얻었다.

• 제어로봇시스템학회논문지
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• 제19권11호
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• pp.979-983
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• 2013

The three-dimensional measurement method of confocal systems is a spot scanning method which has a high resolution and good illumination efficiency. However, conventional confocal systems had a weak point in that it has to perform XY axis scanning to achieve FOV (Field of View) vision through spot scanning. There are some methods to improve this problem involving the use of a galvano mirror [1], pin-hole array, etc. Therefore, in this paper we propose a method to improve a parallel mode confocal system using a micro-lens and pin-hole array in a dual microscope configuration. We made an area scan possible by using a combination MLA (Micro Lens Array) and pin-hole array, and used an objective lens to improve the light transmittance and signal-to-noise ratio. Additionally, we made it possible to change the objective lens so that it is possible to select a lens considering the reflection characteristic of the measuring object and proper magnification. We did an experiment using 5X, 2.3X objective lens, and did a calibration of height using a VLSI calibration target.

• 대한화장품학회지
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• 제31권3호
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• pp.253-257
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• 2005

피부노화의 정도를 판정하기 위해 사용되는 주름측정법들은 객관성과 재현성의 확보가 중요한 요소이다. 최근의 경향은 주름의 형태나 깊이에 주는 영향을 최소화하기 위해 주름 측정시 피부에 직접 기계나 도구를 접촉하지 않고 측정하는 비접촉식 측정방법으로 빠르게 전환되고 있는 상황이다. 저자들은 주름측정 기술의 변천 과정을 간단히 살펴보고, 비접촉식 fringe projection 방식의 미세주름 측정기기인 PRIMOS를 중심으로 측정원리, 특징들을 접촉식 측정방법인 모사판을 이용한 방법과 비교하였다.

• 한국정밀공학회지
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• 제20권5호
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• pp.218-224
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• 2003

This paper describes a novel MEMS integration technique on a CMOS chip. MEMS integration on CMOS circuit has many advantages in view of manufacturing cost and reliability. The surface topography of a CMOS chip from a commercial foundry has 0.9 ${\mu}{\textrm}{m}$ bumps due to the conformal coating on aluminum interconnect patterns, which are used for addressing each MEMS element individually. Therefore, it is necessary to achieve a flat mirror-like CMOS chip fer the microelectromechanical system (MEMS) such as micro mirror array. Such CMOS chip needs an additional thickness of the dielectric passivation layer to ease the subsequent planarization process. To overcome a temperature limit from the aluminum thermal degradation, this study uses RF sputtering of silicon nitride at low temperature and then polishes the CMOS chip together with the surrounding dummy pieces to define a polishing plane. Planarization reduces 0.9 ${\mu}{\textrm}{m}$ of the bumps to less than 25 nm.