A programmable A/D converter for an embedded fiber-optic combustion pressure sensor has been designed with 8 N and P channel MOSFETs, respectively. A local field enhancement for reducing programming voltage during writing as well as erasing an EEPROM device is introduced. In order to observe linear programmability of the EEPROM device during programming mode, a cell is developed with a $1.2\;{\mu}m$ double poly CMOS fabrication process in MOSIS. It is observed that the high resolution, of say 10mVolt, is valid in the range 1.25volts to 2volts. The experimental result is used for simulating the programmable 8 bit A/D converter with Hspice. The A/D converter is demonstrated to consume low power, $37\;{\mu}W$ by utilizing a programming operation. In addition, the converter is attained at the conversion frequency of 333 MHz.
The Journal of Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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v.24
no.2
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pp.128-135
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2013
This letter presents the MISHFET with si-doped AlGaN/GaN heterostructure for power amplifier. The device grown on 6H-SiC(0001) substrate with a gate length of 180 nm has been fabricated. The fabricated device exhibited maximum drain current density of 837 mA/mm and peak transconductance of 177 mS/mm. A unity current gain cutoff frequency was 45.6 GHz and maximum frequency of oscillation was 46.5 GHz. The reported output power density was 1.54 W/mm and A PAE(Power Added Efficiency) was 40.24 % at 9.3 GHz.
Recently, piezoelectric transformer is applied to wide fields. Multi layer piezoelectric transformer has the advantage of high step up ratio, electromechanical coupling coefficient(Kp) and mechanical quality factor(Qm), but is indicated of peeling-phenomenon of electrode, rising sintering temperature made price of costly electrode. So in this study, it discuss on method for fabrication of rosen type piezoelectric transformers. For the fabrication as rosen type piezoelectric transformers, synthesized the powder using 0.01Pb$(ni_{1/3}Nb_{2/3})O_3$ - 0.08Pb$(Mn_{1/3}Nb_{2/3})O_3$ - 0.91Pb$(Zr_{0506}Ti_{0496})O_3$ (abbreviated as PNN-PMN-PZT) ceramics. The density, microstructure, dielectric and piezoelectric properties as a function of sintering temperature were investigated. The results indicated that the optimized properties of ceramics were obtained at sintering temperature of 1200$^{\circ}C$, showed the value of $d_{33}$=273pC/N, $K_p$=0.60 $Q_m$=1585, ${\varepsilon}_r$=1454, density=7.917$g/cm^3$ and $tan{\delta}$=0.0064.
Journal of Korean Academy of Oral and Maxillofacial Radiology
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v.25
no.2
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pp.297-308
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1995
This study was designed to measure the absorbed dose to organs of special interest from full mouth with intraoral film(l4 films) and to compare the five periapical techniques. Thermoluminescent crystals(TLD-100 chip) were located in brain, orbit, bone marrow of mandibular ramus, bone marrow of mandibular body, bone marrow of 4th cervical spine, parotid gland, submandibular gland and thyroid gland. X -ray machine was operated at 70kVp and round collimating film holding device(XCP) and rectangular collimating film holding device(Precision Instrument) were used. The distance from the X-ray focus to the open end of the collimator was 8 inch, 12 inch and 16 inch. The results were as follows : 1. The absorbed dose was the highest in bone marrow of mandibular body(5.656mGy) and the lowest in brain (0.050mGy). 2. Generally, the lowest absorbed dose was measured from 16 inch cylinder, rectangular collimating film holding device with paralleling technique. But, in bone marrow of mandibular body and the floor of mouth, the highest absorbed dose was measured from 12 inch cylinder, rectangular collimating film holding device with paralleling techniques. 3. Comparing of five intraoral radiographic techniques, it was appeared statistically significant reduction of the absorbed doses measured with rectangular collimating film holding device compared to XCP film holding device (P<0.05). 4. No statistically significant reduction in the absorbed dose was found as cylinder length was changed(P>0.05).
Proceedings of the International Microelectronics And Packaging Society Conference
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2001.11a
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pp.129-133
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2001
In this paper, hermetic sealing was studied fur wafer level packaging of the MEMS devices. With the flip-chip bonding method, this B-stage epoxy sealing will be profit to MEMS device sealing and further more RF-MEMS device sealing. B-stage epoxy can be cured 2-step and hermetic sealing can be obtained. After defining $500{\mu}{\textrm}{m}$-width seal-lines on the glass cap substrate by screen printing, it was pre-baked at $90^{\circ}C$ for about 30 minutes. It was then aligned and bonded with device substrate followed by post-baked at $175^{\circ}C$ for about 30 minutes. By using this 2-step baking characteristic, the width and the height of the seal-line were maintained during the sealing process. The height of the seal-line was controlled within $\pm0.6${\mu}{\textrm}{m}$ and the strength was measured to about 20MPa by pull test. The leak rate of the epoxy was about $10^7$ cc/sec from the leak test.
An, Ho-Sang;Cho, Yong-Joo;Choi, Young-Hyu;Lee, Deug-Woo
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.29
no.2
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pp.139-146
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2012
A multi-tasking machine tool for large scale marine engine crankshafts has been developed together with design technologies for its special devices. Since work pieces, that is, crankshafts to be machined are big and heavy; weight of over 100 tons, length of 10 m long, and diameter of over 3.5 m, several special purpose core devices are necessarily developed such as PTD (Pin Turning Device) for machining eccentric pin parts, face place and steady rest for chucking and resting heavy work pieces. PTD is a unique special purpose device of open-and-close ring typed structure equipped with revolving ring spindle for machining eccentric pins apart from journal. In order to achieve high rigidity of the machine tool, structural design optimization using TMSA (Taguch Method based Sequential Algorithm) has been completed with FEM structural analysis, and a hydrostatic bearing system for the PTD has been developed with theoretical hydrostatic analysis.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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1999.07a
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pp.99-99
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1999
투명전도막인 Ito(Indium Tin Oxide)는 flat panel display 와 solar cell 같은 optoelectronic 이나 microelectronic device에서 널리 이용되어 지고 있다. 현재 상용화되고 있는 거의 대부분의 ITO 박막은 sputtering법에 의해 제조되고 있으나 공정상의 이유로 15$0^{\circ}C$이상의 기판온도가 요구되어진다. 그런, 실제 display device 제조공정에서는 비정질 실리콘 박막이나 유기막 위에 ITO박막을 제작할 필요성이 증대되어 지고 있고, 또한 다른 전자소자에 있어서도 상온 ITO 박막 형성 공정에 대한 필요성이 증대되고 있다. 이러한 이유로 본 실험에서는 IBAE(Ion Beam Assisted Evsporation)을 이용하여 저온 ITO박막을 유기막 위에 증착하는 공정에 대한 연구를 수행하였다. 이렇게 증착된 ITO 박막의 결정성은 비정질이었다. 또한, 모든 display device 제작에는 식각공정이 필수인데 기존에 사용되고 있는 wet etching 법은 등방성 식각특성 때문에 미세 pattern 형성에 부적합?, 따라서 비등방성 식각에 용이한 plasma etching법을 사용하여 저온 증착된 ITO 박막의 식각특성을 알아보았다. 실험에 사용된 식각장비는 자장 강화된 유도결합형 플라즈마 식각장비(MEICP)를 사용하였으며, 13.56MHz의 RF power를 사용하였다. 식각조건으로 source power는 600W~1000W, 기판 bias boltage는 -100V~-250V를 가하였으며, Ar, CH4, O2, H2, BCl3의 식각 gases, 5mTorr~30mTorr의 working pressure 변화 그리고 기판 온도에 따른 식각특성을 관찰하였다. ITO 가 증착된 기판으로는 유기물 중 투명전도성 박막에 기판으로서 사용가능성이 클 것으로 기대되어지는 PET(polyethylene-terephtalate), PC(polycarbonate), 아크릴을 사용하여 기판 변화가 식각특성에 미치는 영향에 대해서 각각 관찰하였다. 식각속도의 측정은 stylus profiler를 이용하여 측정하였으며 식각후에 표면상태는 scanning electron spectroscopy(SEM)을 이용하여 관찰하였다.
Iridium-(III)-bis[(4,6-di-fluorophenyl)-pyridinate-N,$C^2$' ]picolinate-based blue phosphorescent organic light-emitting diodes with different electron transport materials were fabricated. Each electron transport material had different electron mobilities and triplet energies. The device with 1,3,5-tri(m-pyrid-3-yl-phenyl)benzene had the highest external quantum efficiency (20.1%) and luminous current efficiency (33.1 cd/A) due to its high electron mobility and triplet energy. The operational stability of each device was also compared with that of the others. The device with 2,2',2"(1,3,5-benzenetriyl)tris-(1-phenyl-1H-benzimidazole) was found to have a longer lifetime than the other devices.
Journal of electromagnetic engineering and science
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v.3
no.1
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pp.29-34
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2003
In this paper, we fabricated an 1.8 ㎓ differential VCO using a commercial 0.5 ${\mu}{\textrm}{m}$ SiGe BiCMOS process technology, The fabricated VCO consumes 16 ㎃ at 3 V supply voltage and has a 1.2 $\times$ 1.6 $mm^2$TEX>chip area. A phase noise measured at 100 KHz offset carrier is -110 ㏈c/Hz and a tuning range is 1795 MHz~1910 MHz when two varactor diodes are biased from 0 V to 3 V.
A blazed $GxL^{TM}$ device is described as having high optical efficiency (> 70% for RGB lasers), and high contrast ratio (> 10,000:1), and that is highly reliable when used in a large-area laser projection system. It has a robust design and precise stress control technology to maintain a uniform shape (bow and tilt) of more than 6,000 ribbons, a $0.25-{\mu}m$ CMOS compatible fabrication processing and planarization techniques to reduce fluctuation of the ribbons, and a reliable Al-Cu reflective film that provided protection against a high-power laser. No degradation in characteristics of the GxL device is observed after operating a 5,000- lumen projector for 2,000 hours and conducting 2,000 temperature cycling tests at $-20^{\circ}C$ and $+80^{\circ}C$. At the 2005 World Exposition in Aichi, Japan the world's largest laser projection screen with a size of 2005 inches (10 m ${\times}$ 50 m) and 6 million pixels (1,080 ${\times}$ 5,760) was demonstrated.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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