• 제목/요약/키워드: Dot Pattern

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Measurement of fabric hand feeling by scanning fiber whisker with PSD

  • Cao, Li;Ohyama, Shinji;Kobayashi, Akira
    • 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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    • 제어로봇시스템학회 1997년도 한국자동제어학술회의논문집; 한국전력공사 서울연수원; 17-18 Oct. 1997
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    • pp.1306-1309
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    • 1997
  • Fabric hand feeling is an important property used in apparel industry. This paper shows a sensing method to output a fiber whisker's stick slip vibration by scanning it on the fabric. Then the vibration waveforms are transformed to the Symmetrized Dot Pattern images. Experimental results show that SDP images of fiber whisker's stik slip is potentially useful to the detection of fabric hand feeling values.

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휴대폰용 도광판의 도트패턴 가공방법에 따른 금형 및 성형품의 표면특성연구 : 레이저가공, 부식, LiGA-reflow방법 (A Study on the surface characteristics of mold and injection molded part depending on mold fabrication methods of dot pattern of LGP of cellular phone : Laser Ablation, Chemical Etching, LiGA-Reflow method)

  • 도영수;김종선;고영배;김종덕;윤경환;황철진
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2007년도 하계학술발표회 논문집
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    • pp.361-362
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    • 2007
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Aluminum Thin Film Capacitor Using Micro Pore Patterning and Electroless Ni-P plating

  • 이창형;;김태유;서수정
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2011년도 춘계학술대회 및 Fine pattern PCB 표면 처리 기술 워크샵
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    • pp.113-113
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    • 2011
  • 알루미늄 박막 커패시터 제작을 위해 선택적인 알루미늄 etching과 anodizing을 이용한 유전체($Al_2O_3$) 형성, 전극층 형성을 위한 무전해 Ni-P 도금을 진행하였다. $5{\mu}m$ patterns/$10{\mu}m$ space를 가지는 dot patterns을 알루미늄 기판에 patterning하고, 이를 각각의 전류밀도 조건에서 etching한 후, barrier type anodizing을 진행하였다. 유전체에 전극층은 무전해 Ni-P 도금을 통해 형성하였으며, 이렇게 제작된 알루미늄 박막 커패시터 특성을 평가하였다.

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중국 민국시대(1912년-1949년)에 나타난 치파오 문양에 관한 연구 - 경파이 치파오와 해파이 치파오의 문양 비교를 중심으로 - (The Research Regarding Cheong-Sam Pattern of Fabric Design in the Period of the Republic of China(1912-1949) - Comparison Between Jing Pai and Hai Pai -)

  • 서아정;오희경;김숙진
    • 한국의상디자인학회지
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    • 제15권3호
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    • pp.69-83
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    • 2013
  • Clothes show not just the different social status of people, but the ideology and value of former society through pattern, colour, materials, shapes, etc. The purpose of this article is to fill the academic blank of this part by researching the pattern of fabric design in Jing Pai(Beiing style) and Hai Pai(Shanghai style) cheong-sam during the period of the Republic of China. The contrastive analysis of regional pattern between Jing Pai and Hai Pai cheong-sam expect to provide the theoretical basis for the former fashion designers and scholars. There are three approaches in the article: Data collection method, comparison method and Combining theory with practice method as film. Regarding components of pattern, both Jing Pai and Hai Pai cheong-sam have mostly single or composite pattern like plants. Further the most of Jing Pai cheong-sam pattern is traditional flower pattern. But Haipai cheong-sam patterns have some western flower pattern. Beside that, it have some geometry pattern. Regarding arrangement of the pattern, both cheong-sams have scattered dot style, the border style, and pictures style. But continuous type of Jing Pai cheong-sam is less while Hai Pai cheong-sam is the most. Comparing Jing Pai cheong-sam color of patterns in "Moment in Peking" is unadorned and types are simple as chinese traditional clothes; However, "In the Mood for Love" introduces us various material colors, new types of patterns and extraneous characteristic geometry patterns of Hai Pai cheong-sam. Generally speaking, the main characteristic of Jing Pai cheong-sam is traditional and conservatism. It keeps Chinese traditional pattern and culture to the most extent. However, Hai Pai cheong-sam are confluent and open with absorbed external culture and techniques which are endowed new artistic color.

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수량민감도와 시각작업기억 및 시각적 주의 간 개인차 연구 (A Study of Individual Differences across Numerosity Sensitivity, Visual Working Memory and Visual Attention)

  • 김기연;조수현;현주석
    • 감성과학
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    • 제18권2호
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    • pp.3-18
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    • 2015
  • 인간의 수량지각은 선천적인 능력으로 생각되지만 그 민감도에 있어서는 개인차가 존재할 가능성이 크다. 본 연구는 시각작업기억과 시각탐색 효율성 그리고 수량민감도 능력 간의 상관 여부를 조사하였다. 이를 위해 변화탐지 수행 능력에 기초해 개인의 작업기억 저장용량을 정량화시킨 K-값, 시각탐색 효율성의 지표인 탐색함수의 기울기 그리고 두 점 배열내의 점 개수 간 수량 차이에 대한 민감도를 각각 측정하였다. 이들에 대한 상관 관계분석 결과 시각작업기억 고용량 개인의 경우 점 배열 간 위치 정보가 보전되었을 때 수량 차이에 상대적으로 저용량 개인에 비해 민감했던 반면, 시각탐색 고효율 개인의 경우 점 배열 간 위치 정보가 보전되지 않았을 때 수량 차이에 상대적으로 민감했다. 이러한 결과는 작업기억 고용량 개인들의 경우 점배열을 소수의 점 패턴 형태로 군집화하는 책략을 사용했을 가능성과 함께, 고효율 시각탐색이 가능한 개인들은 배열 내의 개별 점들에 대해 초점 주의를 상대적으로 신속하게 이용하는 책략을 사용했을 가능성을 시사한다. 종합해 볼 때, 개인들의 수량 민감도는 개인의 작업기억 용량 및 초점주의 이동의 효율성에 의존할 가능성이 있는 것으로 판단된다.

Profiling of Gene Expression in Human Keratinocyte Cell Line Exposed to Quantum Dot Nanoparticles

  • Kim, In-Kyoung;Lee, Seung-Ho;Kim, Yu-Ri;Seo, Sang-Hui;Jeong, Sang-Hoon;Son, Sang-Wook;Kim, Meyoung-Kon
    • Molecular & Cellular Toxicology
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    • 제5권1호
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    • pp.51-57
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    • 2009
  • Quantum Dot (QD) nanoparticles are used in various industrial applications, such as diagnostic, drug delivery, and imaging agents of biomedicine. Although QDs are extensively used in many medical science, several studies have been demonstrated the potential toxicity of nanoparticles. The first objective of this study was to investigate the nanotoxicity of QDs in the HaCaT human keratinocyte cell line by focusing on gene expression pattern. In order to evaluate the effect of QDs on gene expression profile in HaCaT cells, we analyzed the differential genes which related to oxidative stress and antioxidant defense mechanisms by using human cDNA microarray and PCR array. A human cDNA microarray was clone set, which was sorted for a list of genes correlated with cell mechanisms. We tried to confirm results of cDNA microarray by using PCR array, which is pathway-focused gene expression profiling technology using Real-Time PCR. Although we could not find the exactly same genes in both methods, we have screened the effects of QDs on global gene expression profiles in human skin cells. In addition, our results show that QD treatment somehow regulates cellular pathways of oxidative stress and antioxidant defense mechanisms. Therefore, we suggest that this study can enlarge our knowledge of the transcriptional profile and identify new candidate biomarker genes to evaluate the toxicity of nanotoxicology.

강건 QCA 설계 지침을 이용한 고속 가산기 설계 (Design of a Fast Adder Using Robust QCA Design Guide)

  • 이은철;김교선
    • 대한전자공학회논문지SD
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    • 제43권4호
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    • pp.56-65
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    • 2006
  • Quantum-dot Cellular Automata (QCA)는 분자 혹은 원자 수준의 작은 크기의 소자이며 극도로 낮은 소모 전력 특성을 가지기 때문에 디지털 논리 구현에 있어 차세대 기술로 많은 주목을 받고 있다. 현재까지 다양한 QCA 설계가 발표되었지만 대부분 시뮬레이션에 의해 동작하지 않음이 확인되었으며 설계를 위한 일반적인 규범이나 지침도 제시되지 알았다. 동작하는 기본적인 구조를 간단히 확장하는 경우에도 시뮬레이션이 실패하였으며 대규모 회로 설계에는 엄청난 시간 소요가 예상되었다. 본 논문에서는 게이트 입력 경로의 불균형 및 배선구조의 숨은 잡음 경로등 기본적인 QCA 구조에서 나타난 치명적인 취약성에 대해 설명하고 이를 해결하기 위한 강건한 QCA 설계를 위해 규범 및 지침을 제시한다. 또한, 이 강건 설계 기법에 따라 설계되고 시뮬레이션에 의해 그 동작이 검증된 고속 가산기를 제시한다.

블록 공중합체 박막을 이용한 텅스텐 나노점의 형성 (Fabrication of Tungsten Nano Dot by Using Block Copolymer Thin Film)

  • 강길범;김성일;김영환;박민철;김용태;이창우
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제13권3호
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    • pp.13-17
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    • 2006
  • 밀도가 높고 주기적인 배열의 기공과 나노패턴이 된 텅스텐 나노점이 실리콘 산화물/실리콘 기판위에 형성이 되었다. 기공의 지름은 25 nm이고 깊이는 40 nm 이었으며 기공과 기공 사이의 거리는 60 nm이었다. nm 크기의 패턴을 형성시키기 위해서 자기조립물질을 사용했으며 폴리스티렌(PS) 바탕에 벌집형태로 평행하게 배열된 실린더 모양의 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA)의 구조를 형성했다. 폴리메틸메타아크릴레이트를 아세트산으로 제거하여 폴리스티렌만 남아있는 건식 식각용 마스크를 만들었다. 실리콘 산화막은 불소 기반의 화학반응성 식각법을 이용하여 식각했다. nm크기의 트렌치 안에 선택적으로 증착된 텅스텐 나노점을 만들기 위해서 저압화학기상증착(LPCVD)방법을 이용하였다. 텅스텐 나노점과 실리콘 트렌치의 지름은 26 nm 와 30 nm였다.

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패턴 주변의 소성변형현상을 제거한 고품위 불연속패턴 가공기술 개발 (Development of machining technology for non-continuous pattern removing plastic deformation around pattern)

  • 전은채;제태진;장성환
    • 한국기계가공학회지
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    • 제9권6호
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    • pp.1-6
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    • 2010
  • Patterned optical components are widely used for optical products such as LCD and lighting. Since CCFL was used as a light source in the products, prism films having linear continuous optical patterns were widely used. However, LED which is a dot light source is popular recently, therefore, the optical products need new optical components having non-continuous optical patterns. Indentation machining method is a powerful method for machining of non-continuous pattern. When a copper mold and a brass mold were machined by this method, severe plastic deformation called pile-up was observed around the patterns. Since pile-up has negative relationship to ductility, this deformation can be eliminated by annealing treatment which makes the materials ductile. No plastic deformation occurred when machined after annealing at $600{^{\circ}C}$ and $575{^{\circ}C}$ for copper and brass, respectively. Finally, non-continuous optical patterns with high quality were machined on a copper mold and a brass mold successively.