Yoo, Eun Ah;Ko, Sun Young;Kim, Jong Won;Kim, Jeong Uk;Myung, Seung Woon
Journal of the Korean Chemical Society
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v.41
no.9
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pp.471-482
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1997
GC/MS was used to find an optimum experimental condition for the screening of organic acids in urine. Urinary organic acids were isolated through the liquid-liquid extraction method (LLE) to examine the influence of pH and the effect of including the back extraction and oximation processes respectively on the extraction. When pH was adjusted to 0.5 during the extraction without oximation process, relatively higher recovery rate and the smallest relative standard deviations (0.3-12.4%) were obtained. By removing the interference, the addition of back extraction made possible surer identification of organic acids with retention time of 15-16 minutes. Under this condition, we obtained the content distribution of urinary organic acids in healthy Korean children (n=16) by establishing the calibration curves for 51 standard organic acids.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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v.36D
no.9
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pp.21-30
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1999
Halo pocket implantation in MOSFETs, which is known to be an efficient method to provent the punchthrough and threshold voltage roll-off phenomena, decreases the drain current of MOSFET devices. Although the decrease of the drain current in halo structure MOSFET is usually explained in terms of the increase of the threshold voltage, more decrease in the drain current than is predicted by the increased threshold voltage has experimentally been observed. In this work, the effect of halo doping profile on the drain current degradation is investigated in terms of the field distribution along the channel. Effective mobility model of the halo MOSFETs due to pocket implantation is presented and the degradation of the mobility is shown to be effective in the further decrease of the drain current. Present model is shown to be in good agreement with experimental results.
The $La_{0.8}Ca_{0.2}CoO_3$ prepared by a citrate process was shown to have higher oxygen reduction current density and specific activity than $LaCoO_3$, $La_{0.6}Ca_{0.4}CoO_3$. In the cyclic voltammogram, an oxygen desorption peak of a $La_{0.8}Ca_{0.2}CoO_3$+carbon electrode was larger than that of a only carbon electrode. $La_{0.8}Ca_{0.2}CoO_3$ sintered at $900^{\circ}C$ for 5 hours was shown high oxygen reduction current density because of the particle size distribution and sintering effect.
Fluorine-doped tin oxide (FTO) nanoparticles have been successfully synthesized using ultrasonic spray pyrolysis. The morphologies, crystal structures, chemical bonding states, and electrochemical properties of the nanoparticles are investigated. The FTO nanoparticles show uniform morphology and size distribution in the range of 6-10 nm. The FTO nanoparticles exhibit excellent electrochemical performance with high discharge specific capacity and good cycling stability ($620mAhg^{-1}$ capacity retention up to 50 cycles), as well as excellent high-rate performance ($250mAhg^{-1}$ at $700mAg^{-1}$) compared to that of commercial $SnO_2$. The improved electrochemical performance can be explained by two main effects. First, the excellent cycling stability with high discharge capacity is attributed to the nano-sized FTO particles, which are related to the increased electrochemical active area between the electrode and electrolyte. Second, the superb high-rate performance and the excellent cycling stability are ascribed to the increased electrical conductivity, which results from the introduction of fluorine doping in $SnO_2$. This noble electrode structure can provide powerful potential anode materials for high-performance lithiumion batteries.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.17
no.2
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pp.372-377
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2013
This paper have presented the breakdown voltage for double gate(DG) MOSFET. The analytical solution of Poisson's equation and Fulop's breakdown condition have been used to analyze for breakdown voltage. The double gate(DG) MOSFET has the advantage to reduce the short channel effects as improving the current controllability of gate. But we need the study for the breakdown voltage of DGMOSFET since the decrease of the breakdown voltage is unavoidable. To approximate with experimental values, we have used the Gaussian function as charge distribution for Poisson's equation, and the change of breakdown voltage has been observed for device geometry. Since this potential model has been verified in the previous papers, we have used this model to analyze the breakdown voltage. As a result to observe the breakdown voltage, the smaller channel length and the higher doping concentration become, the smaller the breakdown voltage becomes. Also we have observed the change of the breakdown voltage for gate oxide thickness and channel thickness.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.19
no.6
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pp.1399-1404
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2015
This paper analyzed the phenomenon of drain induced barrier lowering(DIBL) for the ratio of channel length vs. thickness of asymmetric double gate(DG) MOSFET. DIBL, the important secondary effect, is occurred for short channel MOSFET in which drain voltage influences on potential barrier height of source, and significantly affects on transistor characteristics such as threshold voltage movement. The series potential distribution is derived from Poisson's equation to analyze DIBL, and threshold voltage is defined by top gate voltage of asymmetric DGMOSFET in case the off current is 10-7 A/m. Since asymmetric DGMOSFET has the advantage that channel length and channel thickness can significantly minimize, and short channel effects reduce, DIBL is investigated for the ratio of channel length vs. thickness in this study. As a results, DIBL is greatly influenced by the ratio of channel length vs. thickness. We also know DIBL is greatly changed for bottom gate voltage, top/bottom gate oxide thickness and channel doping concentration.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.20
no.4
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pp.799-804
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2016
To analyze the phenomenon of drain induced barrier lowering(DIBL) for top and bottom gate oxide thickness of asymmetric double gate MOSFET, the deviation of threshold voltage is investigated for drain voltage to have an effect on barrier height. The asymmetric double gate MOSFET has the characteristic to be able to fabricate differently top and bottom gate oxide thickness. DIBL is, therefore, analyzed for the change of top and bottom gate oxide thickness in this study, using the analytical potential distribution derived from Poisson equation. As a results, DIBL is greatly influenced by top and bottom gate oxide thickness. DIBL is linearly decreased in case top and bottom gate oxide thickness become smaller. The relation of channel length and DIBL is nonlinear. Top gate oxide thickness more influenced on DIBL than bottom gate oxide thickness in the case of high doping concentration in channel.
Kim, Yong-Sung;Shin, Soo-Ho;Han, Sung-Hee;Yang, Seung-Chul;Sung, Joon-Ho;Lee, Dong-Jun;Lee, Jin-Woo;Chung, Tae-Young
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.6
no.2
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pp.61-67
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2006
We fabricate local damascene FinFET cell array in sub-60nm feature sized DRAM. The local damascene structure can remove passing-gate-effects in FinFET cell array. p+ boron in-situ doped polysilicon is chosen for the gate material, and we obtain a uniform distribution of threshold voltages at around 0.7V. Sub-threshold swing of 75mV/d and extrapolated off-state leakage current of 0.03fA are obtained, which are much suppressed values against those of recessed channel array transistors. We also obtain a few times higher on-state current. Based on the improved on- and off-state current characteristics, we expect that the FinFET cell array could be a new mainstream structure in sub-60nm DRAM devices, satisfying high density, low power, and high-speed device requirements.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.25
no.4
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pp.298-303
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2012
$Y_{1-x}VO_4:Eu_x^{3+}$ red phosphors were synthesized with changing the mol ratios of $Eu^{3+}$ ions by using the solid-state reaction method. The crystalline structure of phosphors was found to be a tetragonal system with the maximum diffraction intensity at $25.02^{\circ}$. The grain particles showed the truncated hexagonal patterns with a very homogeneous size distribution at 0.05 mol of $Eu^{3+}$ ion. The excitation spectra of the phosphor ceramics were composed of a broad band centered at 303 nm and weak narrow multilines peaked in the range of 360-420 nm. The dominant emission spectrum was the strong red emission centered at 619 nm due to the $^5D_0{\rightarrow}^7F_2$ electric dipole transition. The experimental results suggest that the optimum doping mol ratio of $Eu^{3+}$ ions for preparing the red phosphors is 0.10 mol with the asymmetry ratio of 5.21.
Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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v.17
no.3
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pp.672-677
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2013
This paper have analyzed the change of breakdown voltage for channel dimension of double gate(DG) MOSFET. The breakdown voltage to have the small value among the short channel effects of DGMOSFET to be next-generation devices have to be precisely analyzed. The analytical solution of Poisson's equation have been used to analyze the breakdown voltage, and Gaussian function been used as carrier distribution to analyze closely for experimental results. The breakdown voltages have been analyzed for device parameters such as channel thickness and doping concentration, and projected range and standard projected deviation of Gaussian function. Since this potential model has been verified in the previous papers, we have used this model to analyze the breakdown voltage. As a result, we know the breakdown voltage is influenced on Gaussian function and device parameters for DGMOSFET.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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