$Cl_{2}O_{2}$ 가스에 의한 크롬 박막의 식각 특성 고찰
(The Etching Characteristics of Cr Films by Using $Cl_{2}O_{2}$ Gas Mixtures)
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- 한국전기전자재료학회논문지
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- 제14권8호
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- pp.634-639
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- 2001