A study for replacing methylene chloride for an alternative cleaning agent which can be utilized for cleaning aluminium parts of hard disk drives was carried out at Suwon factory of Samsung Electro-mechanics Co. Ltd. As a result, quite a good cleaning agent was selected through data collection of alternative cleaning agents, their analysis of environment effects and safty factors and testing of their cleaning power. As compared with methylene chloride, the selected cleaning agent has better cleaning power. It is also more environmental-friendly, less toxic and more economical. And the operating cost reduction due to adoption of this alternative cleaning agent in Samsung Electro-mechanics Co. Ltd. was more than ₩l46,000,000 annually without any capital instrument in addition to improvement of environmental and safty conditions in the plant.
A spray-type cleaning agent in utilizing dust-remover on PCB was chosen to study. In cleaning of electronic and semiconductor equipment, a substrate(IPC-A-36) was used to test the jet forces of the agent. And according to the jet forces time of the cleaning agent, the corresponding moving distances were compared with the spray times, and for the pollutants of iron powder and dust, the cleaning efficiency was tested with the IPC-A-36 by a weight method. The moving distance increased with the spray cleaning time longer. For a spray cleaning time of 3sec, the cleaning efficiency decreased with the amount of dust and the iron powder. It was also observed that the dust was remarkably removed, compared to the iron powder.
In this study, evaluation tests for cleaning performance of various cleaning agents and selection of optimal ultrasonic cleaning parameters were executed to develop an efficient cleaning process in remanufacturing of laser copy machine. Cleaning performance tests were executed with 8 cleaning agents (A~H) to remove the contaminants of oil-ink, toner particles, and shoe polish. Physical properties and foamability tests were also applied. For 3 types of contaminants, cleaning agent G showed superior cleaning performance compared to agent A which has being used at a remanufacturing of laser copy machine in Korea. With cleaning agents selected in pre-tests, ultrasonic cleaning tests were executed to remove real contaminants on the parts of used digital laser copy machine parts. Cleaning agent G at 28 kHz ultrasonic frequency showed faster cleaning performance compared to agent A and other frequencies. The productivity and economic efficiency in remanufacturing of laser copy machine are expected to increase by adapting agent G and 28 kHz frequency at ultrasonic cleaning process.
The cleaning in conservation treatment of cultural heritage is very important process. For the best conservation treatment of cultural heritage, except having a good detergency, the cleaning agent must be able to keep the heritage from the secondary deposition and re-soiling, damage and etc. In this paper, the dust (lichen, algae, dust, etc.) on the surface of stone made heritage was treated with some kinds of solvents and analyzed with FT-IR to develop a cleaning agent for stone made cultural heritage. And the cleaning ability to the dust and the corrosion ratio to the granite of the cleaning agent was investigated. Nonionic surfactants were good for treatment of stone-made cultural heritage. The reason is that nonionic surfactants are stable in acidic solution, and possess low reactivity with the compound of stone and low possibility to the second contamination, and build up the reactivities of acids and oxidants. A new cleaning agent composed with $H_2O_2/HF/NP-10$ shows a good cleaning ability for the conservation treatment of stone made cultural heritage.
The surface of silicon dummy wafers is contaminated with metallic impurities owing to the reaction with and adhesion of chemicals during the oxidation process. These metallic impurities negatively affect the device performance, reliability, and yield. To solve this problem, a wafer-cleaning process that removes metallic impurities is essential. RCA (Radio Corporation of America) cleaning is commonly used, but there are problems such as increased surface roughness and formation of metal hydroxides. Herein, we attempt to use a chelating agent (EDTA) to reduce the surface roughness, improve the stability of cleaning solutions, and prevent the re-adsorption of impurities. The bonding between the cleaning solution and metal powder is analyzed by referring to the Pourbaix diagram. The changes in the ionic conductivity, H2O2 decomposition behavior, and degree of dissolution are checked with a conductivity meter, and the changes in the absorbance and particle size before and after the reaction are confirmed by ultraviolet-visible spectroscopy (UV-vis) and dynamic light scattering (DLS) analyses. Thus, the addition of a chelating agent prevents the decomposition of H2O2 and improves the life of the silicon wafer cleaning solution, allowing it to react smoothly with metallic impurities.
Ultrafiltration is known to be one of the most commonly applied techniques in water treatment. Membrane fouling is the main limiting factor in terms of process efficiency and restricting it to the manageable degree is crucial. Natural organic matter is often found to be a major foulant in surface waters. Among many known fouling prevention techniques, the membrane chemical cleaning is widely employed. This study focuses on evaluating the cleaning efficiency of polymeric and ceramic membranes with the use of various chemicals. The influence of cleaning agent type and its concentration, membrane material and its MWCO, and cleaning process duration on the recovery of membrane flux was analyzed. Results have shown that, regardless of membrane type and MWCO, the most effective cleaning agent was NaOH.
Kim, Han-Seong;Cha, An-Jeong;Bae, Jae-Heum;Lee, Ha-Yeoul;Lee, Myung-Jin;Park, Byeong-Deog
Clean Technology
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v.10
no.2
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pp.61-72
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2004
In this study, aqueous/semi-aqueous cleaning agents which consist of organic solvent, surfactant, cosurfactant, and water were developed by changing formulation parameters such as organic solvent type and contents, surfactant type and contents, and cosurfactant/surfactant(A/S) ratio, etc.. And physical properties and flux removal of the formulated cleaning agents have been evaluated. Also, the performance of oil-water separation from the rinse water contaminated during the cleaning process was evaluated for its recycling. The formulated cleaning agents in this work expected to have good penetration because of their low viscosity and low surface tension values of 30.2~32.5 dyne/cm. The flux removal with the terpene type cleaning agent was higher than that with hydrocarbon type cleaning agent and two commercial products (CPA(commercial product A), CPB(commercial product B)). And the performance of oil-water separation by gravity settling from the rinse water contaminated with formulated cleaning agent and soils was shown to be very good. The cleaning agents developed in this work were applied to surface mounting technology(SMT) cleaning process for manufacturing electronic parts at L electronic company. As a result, the newly developed cleaning agents showed two times better cleaning speed for removal of solder cream than the conventional ond containing ethanol and IPA(isopropyl alcohol). In addition, malodor and VOC problems generated by the previous organic cleaning agents have been solved in the manufacturing field through introduction of the non-volatile and environmental-friendly cleaning agents to the field.
Park, Sang Jin;Son, Woo Hyun;Jeon, Chang Su;Mok, Hak Soo
Journal of the Korean Society of Industry Convergence
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v.23
no.3
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pp.381-392
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2020
The necessity and the importance of the remanufacturing are increasing day by day along with environmental problems. Many studies are being conducted on remanufacturing, but the research for cleaning is much lacking. This study aims to evaluate the effective cleaning method for remanufacturing of start motors, one of the automobile parts. The cleaning process consists of oil stain removal, drying and rust removal processes. In this study, the two processes were conducted except for the drying process which has little influence on cleaning. The methodology for cleaning agent selection, degreasing and rust removal process was presented. For each methodology, five analysis factors were calculated by two-way comparison according to the process, and the values were evaluated quantitatively by substituting them into the evaluation table. In the selection of cleaning agent, neutral system, ultrasonic cleaning in degreasing, and grinding in rust removal were selected as the best cleaning methods.
Kim, Hotae;Yoo, Hwang-Yooll;Jeon, Koung Min;Song, Doori;Kim, Jin-Bae
Applied Chemistry for Engineering
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v.29
no.2
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pp.229-236
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2018
A customized cleaning agent was investigated for improving the performance decreased by the pollution of collecting plates in an electric fume collector (EFC) which was developed and applied for the purification of effluent gas including oil mist from the textile industry. The pollutants on the surface of collecting plates were blackened by the condensation of oil mist for a long time and difficult to remove by general cleaning agents. The composition of an optimized cleaning agent consisted of alkali, alcohol, glycol and non-ionic surfactant sources was determined by considering the pollutant properties and effect on the damage of the basic metal of collecting plate and so on. The developed cleaning agent solution diluted by 9.1% was applied to the field test, and also the pollutants strongly adhered on collecting plate surfaces were successfully removed by a simple spraying method. The effluent gas purification efficiency of EFC increased significantly by cleaning of collecting plates.
This study aims to investigate the impacts of chemical cleaning on the performance of a reverse osmosis membrane. Chemicals used for simulating membrane cleaning include a surfactant (sodium dodecyl sulfate, SDS), a chelating agent (ethylenediaminetetraacetic acid, EDTA), and two proprietary cleaning formulations namely MC3 and MC11. The impact of sequential exposure to multiple membrane cleaning solutions was also examined. Water permeability and the rejection of boron and sodium were investigated under various water fluxes, temperatures and feedwater pH. Changes in the membrane performance were systematically explained based on the changes in the charge density, hydrophobicity and chemical structure of the membrane surface. The experimental results show that membrane cleaning can significantly alter the hydrophobicity and water permeability of the membrane; however, its impacts on the rejections of boron and sodium are marginal. Although the presence of surfactant or chelating agent may cause decreases in the rejection, solution pH is the key factor responsible for the loss of membrane separation and changes in the surface properties. The impact of solution pH on the water permeability can be reversed by applying a subsequent cleaning with the opposite pH condition. Nevertheless, the impacts of solution pH on boron and sodium rejections are irreversible in most cases.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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