본 연구 축전 결합형 고주파 플라즈마(CCP) 식각장비에 펄스 직류(Pulse DC) 전원을 인가하여 오실로스코프(oscilloscope)를 분석하여 전기적 특성을 평가하는 것이다. 펄스 직류전원 플라즈마 시스템에서는 다양한 변수를 이해하여야 한다. 본 실험에서 사용한 공정 변수는 Pulsed DC Voltage 300~500 V, Pulsed DC reverse time $0.5{\sim}2.0{\mu}s$, Pulsed DC Frequency 100~250 kHz 이었다. 실험 결과를 정리하면 1) Pulsed DC Voltage 가 증가할수록 Input voltage의 최대값은 336~520 V, 최소값은 -544~-920 V로 변하여 피크 투 피크 (peak to peak)값은 880~1460 V로 증가였다. Input current 또한 최대값은 1.88~2.88 A, 최소값은 -0.84~-1.28 A로 변하여 피크 투피크 값은 2.88~4.24 A로 증가하였다. 이는 척에 인가되는 전류와 파워의 증가를 의미한다. 2) Pulsed DC reverse time이 증가하면 Input voltage와 Input current값이 증가했다 (Input voltage의 피크 투 피크 값은 1200~1440 V, Input current의 피크 투 피크 값은 3.56~4.56 A). 3) Pulsed DC frequency가 증가하면 주기가 짧아져 Input voltage와 Input current값이 증가 한다 (Input voltage의 피크 투 피크 값은 900~1320 V, Input current의 피크 투 피크 값은 2.36~3.64 A). 결론적으로 펄스 직류 플라즈마의 다양한 전기적 변수들은 반응기 내부에 인가되는 Input voltage와 Input current의 값에 큰 영향을 준다는 것을 알 수 있었다.
평판 디스플레이 분야에 투명 비정질 산화물 반도체는 박막 트렌지스터(Thin film transistor; TFT)소자의 채널층으로 사용할 수 있다. 투명 비정질 산화물 반도체 IGZO (In-Ga-Zn-O)는 다른 비정질 재료에 비해 높은 전하 이동도를 가지기 때문에 우수한 성능의 TFT소자를 제작할 수 있다. 본 연구에서는 RF magnetron sputtering법으로 corning 1737 유리기판 위에 RF 파워의 변화에 따라 증착한 IGZO박막의 광학적 전기적 특성 변화를 연구하였다. 박막 증착 조건은 초기 압력 $2.0{\times}10^{-6}Torr$, 증착 압력 $2.0{\times}10^{-2}Torr$, 반응가스 Ar 25 sccm, 증착 온도는 실온으로 고정하였으며, 공정변수로 RF 파워를 25 w, 50 w, 75 w, 100 w로 변화시키며, IGZO 타겟은 $In_2O_3$, $Ga_2O_3$, ZnO 분말을 각각 1 : 1 : 2mol% 조성비로 혼합하여 소결한 타겟을 사용하였다. 표면분석(AFM)결과 RF 파워가 증가함에 따라 거칠기가 증가하였으며, XRD 분석결과 Bragg's 법칙을 만족하는 피크가 나타나지 않는 비정질 구조임을 확인할 수 있었다. 가시광 영역에서 (450~700 nm) 25 w일 때 85% 이상을 확인하였고, RF 파워가 증가할수록 밴드갭이 감소하는 것을 확인하였다. RF 파워가 100 w인 경우 carrier 밀도는 $7.7{\times}10^{19}cm^{-3}$, Mobility $8.42cm^2V-s$, Resistivity $9.45{\times}10^{-3}{\Omega}-cm$로 투명 전도막의 특성을 보였다.
IGZO 투명 전도 박막은 TFT-LCD에 사용되는 투명 전도성 산화물 박막으로서 다양한 광전자 소자의 투명 전극으로 널리 사용되고 있다. 본 연구에서는 RF magnetron sputtering법으로 corning 1737 유리기판 위에 RF 파워의 변화에 따라 증착한 IGZO박막의 광학적 전기적 특성 변화를 연구하였다. 박막 증착 조건은 초기 압력 $2.0{\times}10^{-6}$ Torr, 증착 압력 $2.0{\times}10^{-2}$ Torr, 반응가스 Ar 50 sccm, 증착 온도는 실온으로 고정하였으며, 공정변수로 RF 파워를 25 w, 50 w, 75 w, 100 w로 변화시키며, IGZO 타겟은 $In_2O_3$, $Ga_2O_3$, ZnO 분말을 각각 1 : 1 : 2 mol% 조성비로 혼합하여 소결한 타겟을 사용하였다. 표면분석(AFM)결과 RF 파워가 증가함에 따라 거칠기가 증가하였으며, XRD 분석결과 Bragg's 법칙을 만족하는 피크가 나타나지 않는 비정질 구조임을 확인할 수 있었다. 가시광 영역에서 (450 nm~700 nm) 25 w일 때 85% 이상을 확인하였고, RF 파워가 증가할수록 밴드갭이 감소하는 것을 확인하였다. RF 파워가 100 w인 경우 carrier 밀도는 $7.0{\times}10^{19}\;cm^{-3}$, Mobility 13.4 $cm^2$/V-s, Resistivity $6.0{\times}10^{-3}\;{\Omega}-cm$로 투명전도막의 특성을 보였다.
본 연구에서는 RF 마그네트론 스퍼터링법으로 RF파워의 변화에 따라 증착한 a-IGZO 박막의 n-형 반도체 활용 특성과 관련된 구조적, 광학적, 전기적 특성 변화를 연구하였다. 기판은 corning 1737 유리 기판을 사용하였고, 유기 클리닝 후 즉시 챔버 내부에 장착되었다. IGZO 타겟은 $In_2O_3$, $Ga_2O_3$, ZnO 분말을 각각 1:1:2mol% 조성비로 혼합하여 소결한 타겟을 사용하였다. 박막 증착 조건으로 초기 압력 $2.0{\times}10^{-6}\;Torr$, 증착압력 $2.0{\times}10^{-2}\;Torr$, 반응가스 Ar 50sccm, 증착온도는 실온으로 고정하였으며, 공정변수로 RF 파워를 25W, 50W, 75W, 100W로 변화시키며 시편을 제작하였다. AFM 분석결과 RF 파워가 증가함에 따라 거칠기가 증가하였으며, XRD 분석결과 Bragg's 법칙을 만족하는 피크가 나타나지 않는 비정질 구조임을 확인할 수 있었다. Hall측정 결과 100W에서 $10cm^2/V^{-1}s^{-1}$이상의 우수한 이동도 특성을 보였으며, 가시광선 투과 특성은 RF 파워가 50W일때 85% 이상으로 양호하였다. XPS 분석결과 RF 파워가 증가할수록 밴드갭이 감소하는 현상은 박막내 산소 이탈 증가현상에 의한 산소 공공의 밀도가 높아지는 것과 연관성이 있음을 확인하였다.
본 연구에서는 랑그뮤어 푸로브법을 이용요하여 고주파 유도결합 플라즈마에서 전자온도와 전자밀도를 측정하였다. 실험의 공통조건은 압력 10∼40[mTorr], 입력파워는 100∼600[W]이고, 공간분포는 측정에서의 아스펙트비(R/L)는 2로하였다. 전자온도와 전자밀도의 의존성을 측정한 결과 입력파워에서는 전자온도는 약간 증가하는 경향을 보이고 있지만 전자말도는 입력파워가 100∼250[W]까지는 증가율이 완만하고 450[W]에서 포화하는 것을 알수 있었다. 압력에 대한 의존성은 압력이 낮을수록 높은 값을 나타내고 전자밀도에서는 압력이 증가함에 따라 증가하는 것을 알 수 있었다. 전자온도의 반경방향의 공간분포는 석영창 부근에서 기판쪽으로 갈수록 감소되는 경향이 있다. 전자밀도에서는 플라즈마 중심부에서 석영창 쪽으로 약간 이동한 위치에서 피크의 값을 가지고, 석영창과 기판쪽에서는 그 값이 감소함을 볼 수 있었다. 전자온도의 축방향의 공간분포는 석영창 부근에서 기판쪽으로 감소되는 경향이 있다. 또, 전자밀도는 플라즈마 중심부에서 석영창 쪽으로 약간 이동한 위치에서 피크의 값을 가지고, 석영창과 기판쪽에서는 그 값이 감소함을 볼 수 있었다. 이상의 결과들은 유도방전플라즈마의 메카니즘의 체계적인 이해에 기여할 수 있을 것이다.
In this paper, we propose a new algorithm for task scheduling consisting of subtask partitioning and subtask priority scheduling steps in order to keep the peak power under the system specification. The subtask partitioning stepis performed to minimize the idle operation time for processors by dividing a task into multiple subtasks using the least square method developed with power consumption pattern of tasks. In the subtask priority scheduling step, a priority is assigned to a subtask based on the power requirement and the power variation of subtask so that the peak power violation can be minimized and the task can be completed within the execution time deadline.
본 연구는 8주간의 누리다 볼 운동이 중년 남성들의 등속성 근기능, 척추 정렬 및 동적 균형 능력에 미치는 영향을 규명하는데 있다. 본 연구의 대상자는 중년 남성(n=16)을 공 운동 그룹(BE, n=8)과 비교 그룹(CON, n=8)으로 구분하였으며 BE 그룹은 하루 30분, 주 3회, 총 8주간 누리다 볼 운동을 실시하여 등속성 슬관절 및 체간의 근 기능, 척추 정렬 및 동적 균형 능력을 측정하였다. 측정된 모든 변인들은 평균과 표준편차를 산출하고, Shapiro-Wilk test를 이용하여 정규성 검증을 확인하였다. 이후 집단 간의 차이를 확인하기 위해서 독립(Independant) t-test 방법과 대응(Paired) t-test 방법을 이용하여 분석하였다. 본 연구의 결과, 등속성 슬관절 및 체간 근 기능은 CON 그룹과 비교하여 BE 그룹에서 좌측과 우측의 슬관절 신전근의 피크파워(%BW, 60°/sec, p<.001, respectively), 좌측과 우측 슬관절 신전근의 평균파워(%BW, 60°/sec, p<.05, p<.001, respectively), 우측 슬관절 굴골근의 피크파워(%BW, 180/sec, p<.05) 및 우측 슬관절 신전근의 평균파워(%BW, 180°/sec, p<.05)가 유의하게 증가하는 것으로 나타났다. 등속성 체간의 근 기능 변화량은 CON 그룹과 비교하여 BE 그룹에서 신전근의 피크토크(%BW, 180/sec, p<.05)가 유의하게 증가하는 것으로 나타났다. 또한, 누리다 볼 운동은 몸통 앞뒤 기울기를 감소시켜 척추 정렬을 일부 개선한 것으로 나타났다(p<0.05). 마지막으로 CON 집단과 비교하여 BE 집단에서 동적 균형 능력은 6 단계의 전체균형지수(p<0.01), 전후균형지수(p<0.05) 및 1단계의 전체균형지수(p<0.05)를 유의하게 감소시켰다. 따라서 연구를 종합해 보면 누리다 볼 운동은 중년 남성들에게 있어 등속성 근 기능, 척추 정렬 및 동적 균형 능력과 같은 건강 관련 체력을 향상 시킬 수 있는 효과적인 운동 기구라고 사료되며, 향후 운동의 형태(강도, 빈도 등)를 다양하게 적용한 후속 연구가 필요할 것이다.
Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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제37권1호
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pp.72-77
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2013
RF 마그네트론 스퍼터링법의 스퍼터링 조건에 따른 TFT 구동회로를 위한 ZnO 박막의 구조적 특성에 관해 연구하였다. ZnO 박막은 RF 파워 및 증착압력을 변화시킴으로서 성장시켰다. 구조적 특성은 X-선 회절 분석기(XRD)와 원자력간 현미경(AFM)에 의해 분석되었다. ZnO 박막은 100W의 RF 파워에서 충분한 결정도를 가졌다. 그러나 RF 파워가 증가함에 따라 ZnO 박막의 표면 거칠기가 증가하였고 증착압력이 5mTorr에서 15mTorr로 증가함에 따라 ZnO(002) 피크의 반치폭(FWHM)이 증가하였다.
본 연구는 골프 드라이버의 임팩트 위치에 따른 소리의 특성을 평가하고자 하였다. 일정한 임팩트 소리를 발생시키기 위하여 골프공 자유낙하 장치를 고안하여 사용하였다. 임팩트 소리의 시간에 따른 진폭과 주파수영역에서 파워의 피크값 분포가 드라이버 헤드면의 임팩트 위치에 따라 다르게 나타났으나 재현성이 부족하여 비교할 수 없었다. 드라이버의 임팩트 부위에 따른 소리를 구분하기 위하여 대안적인 방법으로 파워스펙트럼 누적합(cumsum)을 사용하였다. 파워스펙트럼 누적합의 20%, 40%, 60%, 80%에 해당하는 주파수를 비교한 결과 드라이버 면의 중앙(center)에서 발생하는 임팩트 소리의 40% 누적합주파수가 바깥쪽(toe)과 안쪽(heel)에서 발생하는 임팩트 소리에 비하여 유의하게 낮은 것을 관찰하였다. 이러한 결과는 드라이버 헤드면의 중앙이 바깥쪽 또는 안쪽에 비하여 임팩트 소리의 저주파수 성분 파워가 상대적으로 높다는 것을 시사하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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