• 제목/요약/키워드: 초간

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인산 부식액의 수세가 교정용 접착레진의 전단결합강도에 미치는 영향 (THE EFFECT OF WASHING PHOSPHORIC ACID ETCHANT ON SHEAR BOND STRENGTH OF AN ORTHODONTIC ADHESIVE)

  • 김희균;이기수;박영국
    • 대한치과교정학회지
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    • 제26권5호
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    • pp.497-507
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    • 1996
  • 산부식된 법랑질표면의 오염은 브라켓의 레진 접착력에 영향을 미친다고 보고되어 왔다. 이 연구의 목적은 인산액이 법랑질과 반응하여 수용성염 및 불수용성염을 형성하는 경우와 부식표면이 타액오염된 경우에, 이의 수세시간이 브라켓의 레진접착 전단결합강도에 미치는 영향을 관찰하기 위하여 시행되었다. 치과 교정치료를 목적으로 발거된 총 234개의 상하악 소구치를 대상으로 $37\%$ 인산액으로 60초간 부식한 군, $20\%$ 인산액으로 50초간 부식 한 군, $37\%$ 인산액으로 60초간 부식 하고 타액오염시킨 군으로 나누고, 인산부식군은 각각 0초, 5초, 10초, 20초간 수세하고, 타액오염 군은 0초, 20초,30초 수세하거나, 재부식후 5초, 10초, 20초간 수세한후 레진접착제로 브라켓을 접착하였다. 5각군의 법랑질표면을 주사전자현미경과으로 검경하고, 전단결합강도를 측정하여 비교검토한 결과 다음의 결과를 얻었다. 1) 산부식후 수세를 하지않으면 레진접착제의 전단결합강도가 현저히 감소 하였다. 2) $37\%$ 인산부식액으로 부식시키고 5초, 10초, 및 20초간 수세한후의 접착레진 전단결합강도 사이에는 차이가 없었다. 3) $20\%$ 인산액으로 부식시키고 5초, 10초, 및 20초간 수세한 후의 전단결합강도사이에는 차이가 없었으나, 5초간 수세후의 전단결합강도는 측정치의 변이가 매우컸다. 4) 부식후 타액으로 오염된 법랑질 표면은 5초, 20초간 및 30초간 수세후 및 재부식 한 후의 브라켓접착레진의 전단결합강도사이에 차이가 없었으나, 5초간 수세만한 군의 전단결합강도는 변이가 매우컸다. 이상의 결과에 의하면 수용성 염이 생성되는 농도의 인산액으로 부식하고 5초간 수세후 불수용성 염이 생성되는 농도의 인산액으로 10초간 수세후에, 그리고 타액오염된 부식표면을 재부식없이 20초간 수세후에 브라켓을 접착하면 임상적으로 유용한 부라켓 접착레진의 전단 결합강도를 얻을수 있을 것으로 추정된다.

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박막 표면의 플라즈마 damage에 대한 식각 물성 연구

  • 이재훈;김수인;김홍기;이창우
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.303.2-303.2
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    • 2016
  • 현재 플라즈마를 이용한 기술은 반도체, 태양광 발전, 디스플레이 등 산업의 전반적인 분야에서 특히 반도체 공정을 이용한 산업에서는 핵심적인 기술이다. 반도체 공정 중에서 박막 증착과 식각 분야에서 플라즈마를 사용한 기술은 매우 높은 가치를 지니고 있다. 중요한 플라즈마 연구로는 이론적 접근을 통한 플라즈마 소스 개발과, 기 개발된 플라즈마 소스를 적용하여 반도체 공정에 적용함으로써 최적의 조건을 찾아내며, 그에 대한 메커니즘을 연구하는 분야로 크게 분리할 수 있다. 따라서 이러한 플라즈마 기술이 발달함에 따라 nano-scale의 연구 또한 상당히 중요한 부분으로 자리 잡고 있다. 본 실험에서는 RF magnetron sputter를 사용하고 질소 유량을 0.5 sccm으로 고정하여 AlN 박막을 증착하였다. 이후 상압 플라즈마를 이용하여 식각을 진행하였다. AlN 박막 전체 표면에 대하여 3초 및 6초간 식각을 진행하였다. 이후 Nano-Indenter를 사용하여 $100{\sim}7000{\mu}N$까지 힘을 증가시키며 측정하였다. 3초간 식각을 진행한 시료의 경우 압입 깊이 대비 Hardness 그래프에서 약 40 ~ 100 nm 까지 약 2.5 GPa 정도의 차이가 발생하였고 6초간 식각을 진행한 시료의 경우 압입 깊이 대비 Hardness의 그래프에서 약 40 ~ 130 nm 까지 약 1 GPa 정도의 차이가 발생함을 확인하였다. 이후 WET-SPM 장비를 사용하여 AFM 모드를 이용하여 박막 표면이 거칠기를 확인하였다. 플라즈마 식각공정을 거치지 않은 시료의 경우 박막의 거칠기는 7.77 nm로 측정되었고 3초간 플라즈마 식각공정을 거친 시료의 경우 6.53 nm, 6초간 플라즈마 식각공정을 거친 시료의 경우 8.45 nm로 나타남을 확인할 수 있었다. 이와 같은 결과들로부터 플라즈마 식각공정은 박막의 표면에도 영향을 미치지만 박막 내부 일정 부분까지 영향을 받는 것을 확인하였다.

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중합 광원과 중합 시간이 복합레진의 표면 경도에 미치는 영향 (INFLUENCE OF LIGHT SOURCE AND CURING TIME ON SURFACE HARDNESS OF RESIN COMPOSITES)

  • 배상만;이광희;김대업;안호영
    • 대한소아치과학회지
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    • 제28권2호
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    • pp.199-206
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    • 2001
  • 플라즈마 아크 광원을 사용하는 광중합기를 저출력 할로겐 광원을 사용하는 전통적인 광중합기와 비교 평가하기 위하여, 세 종류의 복합레진을 두께가 2, 3, 4, 5mm인 몰드에 충전하고 레진 상면을 할로겐광으로 40초간, 플라즈마광으로 3, 6, 9초간 조사한 후 레진 상면과 하면의 표면미세경도를 각각 측정하였다. 레진시편 상면의 표면경도와 하면의 표면경도 간의 차이는, 두께 2mm 시편에 할로겐광을 40초간 조사하였거나 플라즈마광을 9초간 조사한 경우들을 제외하고, 모두 유의하였다(P<0.05). 레진시편 상면의 표면경도는 전체 실험군들에서 서로 유의한 차이가 없었다. 레진시편 하면의 표면경도는 전체적으로 보아 할로겐광을 40초간 조사한 군들에서 가장 높았고 플라즈마광의 조사시간이 감소함에 따라 감소하였으며 레진시편의 두께가 증가함에 따라 감소하였다. 이상의 결과는 복합레진의 중합깊이 측면에서 볼 때 3, 6, 9초간 조사하는 고출력 플라즈마광의 중합능력이 40초간 조사하는 저출력 할로겐광의 중합능력에 미치지 못함을 시사한다.

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고강도 할로겐광으로 중합한 복합레진 수복재의 경도 (HARDNESS OF COMPOSITE RESIN CURED BY HIGH INTENSITY HALOGEN LIGHT)

  • 박종석;이광희;김대업;김성형;안호영
    • 대한소아치과학회지
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    • 제28권3호
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    • pp.471-479
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    • 2001
  • 복합레진의 광중합시간 단축과 관련하여 최근에 개발된 고강도 할로겐광 중합기를 기존의 중강도 할로겐광 중합기와 비교 평가하기 위하여, 세 종류의 광중합용 복합레진을 두께가 2, 3, 4, 5mm인 스테인레스 스틸 몰드에 충전하고, 레진 상면을 중강도 할로겐광은 (1) $400mW/cm^2$으로 40초간 고강도 할로겐광은 (2) 10초동안 $100mW/cm^2$부터 $1000mW/cm^2$까지 출력량이 증가하면서 중합하고 다음 10초동안 $1000mW/cm^2$로 중합하는 ramp 모드로 20초간, (3) $1000mW/cm^2$의 boost 모드로 10초간, (4) $850mW/cm^2$의 표준 모드로 20초간 조사하고, 상면과 하면의 표면경도를 미세경도측정기로 측정한 후 실험군간의 차이를 분석하였다. 레진 상면의 경도는 중합광의 강도와 중합시간 및 레진 두께에 따른 차이가 없었다(유의수준 0.05, 이하 동일). 레진 하면의 경도는, 두께 2mm의 중강도군(1)을 제외하고, 상면의 경도보다 낮았다. 레진 하면의 경도는 두께 2mm에서 중강도군(1)이 ramp군(2) 및 boost군(3)보다 높았고 중강도군(1)과 표준군(4) 간 및 ramp군(2)과 boost 군(3) 간에 차이가 없었으며, 두께 3mm에서 중강도군(1)이 가장 높았고 표준군(4)이 boost군(3)보다 높았다. 따라서, 복합레진의 중합 깊이 측면에서 볼 때, $1000mW/cm^2$의 고강도 할로겐광을 10초간 조사한 것은 $400mW/cm^2$의 중강도 할로겐 광을 40초간 조사한 것에 미치지 못하였으며, 레진 두께 2mm이내인 경우에는 $850mW/cm^2$의 고강도 할로겐광을 20초간 조사함으로써 $400mW/cm^2$의 중강도 할로겐광을 40초간 조사한 것과 대등한 중합을 일으킬 수 있었다.

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광조사 방식이 복합레진의 중합과 누출에 미치는 영향 (THE EFFECT OF IRRADIATION MODES ON POLYMERIZATION AND MICROLEAKAGE OF COMPOSITE RESIN)

  • 박종진;박정원;박성호;박주명;권태경;김성교
    • Restorative Dentistry and Endodontics
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    • 제27권2호
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    • pp.158-174
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    • 2002
  • Filtek$^{TM}$ Z-250(3M Dental Products, St. Paul., MN. USA) 광중합형 복합레진을 대상으로 다양한 광조사 방식이 중합수축, 중합도 및 미세누출에 미치는 영향을 알아보고자 하였다. VIP$^{TM}$(Bisco Dental Products, Schaumburg, IL, USA)를 이용하여 200, 400 및 600mW/$\textrm{cm}^2$의 일정한 광도로 중합시킨 세 군(V2, V4 및 V6군)과 200mW/$\textrm{cm}^2$의 광도로 3초간 중합시키고 5분간 방치 한 후 다시 600mW/$\textrm{cm}^2$의 광도로 중합시키는 pulse-delay 방식을 이용한 군(VPD군) 그리고 Optilux 501$^{TM}$(Demetron/Kerr, Danbury, CT, USA)을 이용하여 C-mode와 R-mode로 중합시킨 두 군(OC군, OR군) 등 모두 6개의 군으로 나누어 실험하였으며, 복합레진의 중합과 누출을 다음의 네 가지 방법으로 측정하였다. 첫째, V2, V4, V6, OC군은 60초간, OR군은 20초간 그리고 VPD군은 두번째 광조사를 60초간 시행하면서 시간에 따른 선형 중합수축을 Linometer(R&B, Daejeon, Korea)로 측정하였다. 둘째, V2, V4, V6, OC군은 각각 5, 10, 20, 40, 60초간 그리고 OR군과 VPD군은 정해진 조건에 따라 중합시킨 2mm 두께 시편의 바닥면에서 시료를 채취한 후 KBr method로 시편을 제작하고, FTIR spectrometer(IFS 120 HR, Broker, Karlsruhe, Germany)로 미반응 잔류단량체의 양을 계측하여 중합도를 측정하였다. 셋째, 두번째 실험과 같은 조건으로 중합시킨 2mm 두께 시편의 광조사면과 바닥면에서 중합 10분 후 미세경도 측정기(FM7, Future-Tech Co., Tokyo, Japan)로 500g의 하중을 10초간 가하여 Knoop Hardness Number(KHN) 값을 측정하였다. 끝으로, 90개의 발거치 치경부에 제5급 와동을 형성하고 V2군은 60초간, V4군은 40초간, V6군은 30초간 그리고 OC, OR, VPD군은 정해진 조건에 따라 중합시킨 후, methylene blue 용액에 침적시키고 종절단하여 법랑질과 상아질 변연의 미세누출 정도를 측정하였다. 중합수축. 중합도 및 미세경도 측정치는 one-way ANO-VA와 Duncan's multiple range test를, 변연누출 정도는 chi-square test를 이용, 통계처리하여 다음의 결과를 얻었다. . 중합수축의 정도는 VIP$^{TM}$(Bisco) 사용군에서 전체 조사광도가 높을수록 큰 경향을 보여 600mW/$\textrm{cm}^2$군에서 가장 크게 나타났고, 그 다음으로 Pulse-delay군, 400mW/$\textrm{cm}^2$군, 200 mW/$\textrm{cm}^2$군 순이었고, Optilux 501$^{TM}$(Demetron/Kerr) 사용군에서는 Continuous 방식이 Ramp 방식 보다 크게 나타났다. . 중합도와 미세경도 값은 공히, 전체 조사광도가 높을수록 높게 나타났으며 , 최종 중합도는 44.77~54.98%의 범위를, 미세경도 값은 34.10~56.30의 범위를 보였다. . 미세누출은 전반적으로 상아질 변연이 법랑질 변연에 비해 많았고, VIP$^{TM}$(Bisco) 사용 군에서는 광도가 높을수록 상아질 변연에서 미세누출이 증가하는 양상을 보였으며, 법랑질 변연에서는 Optilux 501$^{TM}$(Demetron/Kerr)의 Continuous 방식이, 상아질 변연에서는 Ramp 방식이 가장 적은 미세누출을 보였다.

채소 및 주방기구에 대한 강산성전해수의 살균효과 (Bactericidal Activity of Strongly Acidic Electrolyzed Water on Various Vegetables and Kitchen Apparatus)

  • 김윤정;최규덕;신일식
    • 한국식품영양과학회지
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    • 제39권5호
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    • pp.776-781
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    • 2010
  • 격막식으로 생산한 강산성전해수(SEW)의 유효염소농도는 $35{\pm}1.2\;ppm$, pH는 $2.3{\pm}0.2$, ORP는 $1,140{\pm}20.4\;mV$이었으며, AEW의 유효염소농도는 $0.1{\pm}0.01\;ppm$, pH는 $11.6{\pm}1.1$, ORP는 $-900{\pm}18.2\;mV$이었다. 6종의 병원성세균(초기균수 $1.0{\times}10^7\;CFU/mL$)에 대한 SEW의 살균효과를 조사한 결과, 대조구로 사용한 유효염소농도 35 ppm의 차아염소산 나트륨 용액의 경우, 60초간 처리하여도 2~4 log 정도의 균밖에 감소하지 않았으나 SEW는 60초간 처리로 포자를 형성하는 B. cereus를 제외한 나머지 5종의 병원성세균을 모두 살균하였으며, B. cereus의 경우 완전하게 살균하지는 못하였지만 약 4 log CFU/g 이상이 감소하여, 같은 유효염소농도라도 SEW가 차아염소산나트륨 용액보다 살균력이 뛰어나다는 것을 알 수 있었다. 채소의 경우, AEW로 세척 후 SEW 처리하였을 때가 SEW 단독처리보다 살균효과가 더 좋았다. 한편 콩나물, 무순의 경우 AEW로 30초간 세척 후 SEW로 30초간 처리하여도 균수는 각각 $2.50{\pm}0.13$, $2.19{\pm}0.13$만 감소하였고 4 log CFU/g 이상의 균이 잔존하고 있었다. 식기와 컵은 차아염소산나트륨 용액(유효염소농도 35 ppm) 30초간 처리로는 1.19~1.28 log CFU/$100\;cm^2$ 정도만 감소하였지만, SEW 30초간 처리로 균이 검출되지 않았다. 고무장갑의 경우 유일하게 대장균군이 검출되었으며 SEW 30초간 처리로 고무장갑 표면의 일반세균과 대장균군은 대조군인 수도수에 비하여 약 2 log CFU/$100\;cm^2$ 이상 감소하였으나 완전한 살균은 되지 않았다.

마우스의 혈청단백질에 미치는 양성가속도와 전격의 영향에 관하여(1) (Effect of Positive Radial Acceleration and Electroshock on the Serum Protein of Mice(I))

  • 남상열
    • 한국동물학회지
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    • 제6권1호
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    • pp.9-14
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    • 1963
  • S.M.계인 마우스♂♀를 정상군과 4개의 실험군 즉 양성가속도(5G-50초간과 11G-50초간 매일 각각 폭로) 및 전격(5volt-2초간과 10 volt 2 초간 매일 각각 전격)군으로 나누어 최소한 22일간 순화시킨 후 여지 전지영동법에 의해서 Albumin/Globulin 바와 단백질분할을 측정하고 또한 혈청 전단백질, 혈색소량, Hematocrit 비, 적혈구포약성 및 간, 신장의 중량을 측정하였다. A/G 와 전단백질은 양성가속도의 G-force 증가와 전격적 증가의 각군이 정확군보다 유의하게 현저히 낮은 치를 나타내고 있다. 간장중량, 혈색소량 및 Hematocrit 비는 또한 정상군보다 양성가속도, 전격적 각 조건하에서 낮은 치를 나타내고 있다. 그러나 신장중량은 현저히 증가된 치를 나타낸다. 양성가속도와 전격적조건군의 간장의 조직학적 소견은 혈관적 변화가 나타나고 그리고 양성가속도에서는 또한 액포가 출현하였다. 적혈구 포약성은 거의 변화가 없었다. 이상의 결과로 미루어보아 상기 두 효과로 인해서 주로 간장기능 즉 단백질대사에 이상을 초래하는 것으로 생각된다.

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다결정 실리콘 위에서의 titanium silicide 형성과 그 특성 (A study on silicidation and properties of titanium film on polysilicon by rapid thermal annealing)

  • 김영수;한원열;박영걸
    • E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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    • 제4권4호
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    • pp.304-311
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    • 1991
  • 본 연구에서는 p형(100) 실리콘 기판 위에 LPCVD법으로 산화막과 다결정 실리콘을 증착하고 그 위에 Magnetron Sputtering법으로 티타늄을 500.angs.을 증착한 후, 열처리 온도 500-900.deg.C 사이에서 열처리 시간을 변화시키면서 N$_{2}$ 분위기 속에서 급속 열처리하여 티타늄 실리사이드를 형성하고 그 특성을 조사하였다. 500-600.deg.C 온도 범위에서 10초간 열처리한 시료에서는 실리사이드상은 나타나지 않고, 산소등의 불순물이 티타늄 박막 내로 확산되어 600.deg.C에서 면 저항이 최대값을 보였으며 열처리 온도는 675-750.deg.C로 높이자 TiSi상이 나타나면서 면저항이 감소되고 결정립의 크기가 크게 증가하였다. 또한 열처리온도 800.deg.C에서 나타나기 시작한 TiSi$_{2}$상은 열처리 온도 850.deg.C까지 TiSi상과 공존하면서 면저항과 reflectance는 계속 감소했다. 900.deg.C에서 10초간 열처리한 시료에서는 orthorhombic구조의 완전한 실리사이드 상만 나타났다. 최종적인 티타늄 실리사이드 박막의 두께는 1200.angs.이며 비저항은 18.mu..OMEGA.cm였다.

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