• Proceedings of the Korean Society of Disaster Information Conference
• /
• 2022.10a
• /
• pp.385-386
• /
• 2022

본 연구는 방폭지역에서 정전기를 측정하는 설비 (EST:Electrostatic Transmitter), 측정 된 정전기를 저감시키는 설비(EES:Electrostatic Elimination System), 방폭지역에서 인체 정전기를 제거시키는 설비(방폭 디지털 제전봉)를 통한 비방폭구역에서 사용되는 정전기 측정장비와의 비교를 통하여 극히 제한적인 Basic Design(온도/압력/속 도/유량)으로 인한 설계나 장치 등 변경 등을 반영하여 방폭지역에대한 근본적인 문제점을 도출 제거할수 있는 방안을 마련했으며 기존 사용되었던 비방폭지역의 정전기 제거 시스템을 보완한 방폭지역의 정전기 화재폭발 예방 기술을 적용하였다.

• Cement Symposium
• /
• no.28
• /
• pp.146-150
• /
• 2001

• 전자공학회논문지 IE
• /
• v.46 no.3
• /
• pp.26-32
• /
• 2009

The reason of the contamination in the VLSI industry is the electric charge of the wafer itself. We develop the corona discharged system of clearing static electricity with a fan. This system has automatic cleaner of discharging electrode, check the state of jot control a suitable mount of discharged ion, and monitor all state using Zigbee communication module.

• Proceedings of the IEEK Conference
• /
• 2007.07a
• /
• pp.447-448
• /
• 2007

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
• /
• 2009.06a
• /
• pp.162-163
• /
• 2009

본 연구에서는 초음파 진동자를 적용한 초극세사 자동 절단 시스템을 개발 하였다. 초극세사 자동 절단 시스템은 공진 주파수 28kHz를 가지는 초음파 진동자, 구동회로부, 원단 이송장치, 초음파 진동자 이송장치, 초극세사 원단과 에어실린더 사이의 정전기 발생을 방지하기 위한 정전기 제거장치, 구동모터, 및 절단 크기와 절단 속도 등을 조절하기 위한 전기제어 판넬로 구성하여 제작하였다. 또한, 개발한 절단 시스템을 이용하여 초극세사 클리너 시제품을 제작하여 절단면을 전자현미경으로 관찰하였고, 절단 시스템의 소음진동 특성을 평가하였다.

• Journal of Sensor Science and Technology
• /
• v.7 no.2
• /
• pp.140-146
• /
• 1998

Methods and systems to remove static electricity are requested necessarily because the static electricity causes a flammable gas explosion, a fire, reduction of production rate in manufacturing VLSI semiconductor device and so on. In this paper, abrasion and dust contaminant of needle electrode are studied experimentally. And, frequencies and pulse durations of a high frequency pulse source were controlled effectively to minimize the abrasion of needle electrode and control generated numbers of ions. As a result, it is verified experimentally that the ion generation of charge neutralizer increases by using a high frequency pulse source.

• Proceedings of the Korean Society of Postharvest Science and Technology of Agricultural Products Conference
• /
• 2003.10a
• /
• pp.174-175
• /
• 2003

현재 유통되고 있는 일반백미의 경우 소비자가 밥을 짓기 위해서는 쌀을 씻어야하는 번거로움 뿐만아니라 쌀 중량의 약 15배의 물이 소요되고, 또한 이때 발생된 쌀뜨물이 수질오염의 원인이 되기 때문에 무세미가공 및 보급 필요성이 점차 높아지고 있다. 무세미 가공분야의 선진국인 일본의 경우 ‘92년부터 습식 무세미조제기가 실용화되기 시작, 현재 사다께 등 6개사에서 기계장치를 생산보급 하고 있으며, 무세미의 유통도 일반화되어가고 있는 추세이다. 국내의 경우 무세미조제기는 근래에서야 습식 무세미 조제설비가 국산화되어 보급초기 단계 있으며, 무세미의 안정적 가공 및 보급을 위해서는 앞으로 많은 연구가 이루어져야 할 것으로 생각된다. 특히 습식의 경우 쌀이 물에 접촉하는 시간이 길 경우 품질저하의 우려가 크고, 쌀중량의 1.4배에 해당하는 물이 가공과정에 필요하기 때문에 물사용량을 억제할수 있는 가공기술의 개발 필요성이 커지고 있다. 따라서 본 연구에서는 물사용량을 최소화 할 수 있는 무세미 조제시스템을 개발하고자 하였으며, 주요결과를 요약하면 다음과 같다. 시작기는 연마 및 공기세척부, 정전기 세척부, 미세가수세척부로 구성하여 쌀이 단계적으로 세척될 수 있도록 제작되었다. 성능시험 결과, 각 세척공정별 세척수의 탁도 감소효과는 연마 및 공기크리닝부에서 22.67ppm, 정전기 크리닝부에서 8.33ppm, 미세가수세척부에서 17.34 ppm이 감소되는 것으로 나타났다. 특히 정전기세척부의 탁도감소 효과는 다른 두공정에 비해 작지만 제거가 쉽지 않은 미세한 쌀겨들을 제거하여 탁도를 개선을 시켰기 때문에 미세가수세척장치에서 가수량을 적게 사용하는데 기여한 것으로 판단된다. 가공시 적정 탁도를 확보할 수 있는 가수량은 430cc/kg로 기존의 습식에 비해 약 69%정도 세척수 절감효과가 있었다. 이때 미세가수세척부의 원통스크린 회전수는 108, 205rpm범위가 적정한 것으로 나타났다. 쌀의 품위는 탁도가 가공전 97.33ppm(일반백미)에서 가공후 최대 48.00ppm으로 낮아졌으며, 백도도 가공전 36.80에서 42.80으로 향상되어 씻지 않고도 밥을 지을수 있는 무세미 가공이 가능하였다. 이밖에 쇄립률은 가공전 5.30%에서 7.37%로 다소 증가하는 것으로 나타났고, 함수율은 가공전 15.60%에서 15.80%로 약 0.2%가 증가하였으나 기존의 연구결과에 비춰볼 때 문제가 되지 않을 것으로 여겨진다.

• Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
• /
• v.19 no.1
• /
• pp.603-608
• /
• 2018

Although the voltage-applied discharge method is most widely used in the semiconductor and display industries, periodic management costs are incurred because the method causes defects due to the absorption of ambient fine dust and causes emitter tip contamination due to the discharge. The emitter tip contamination problem is caused by the accumulation of fine particles in ambient air due to the corona discharge of the ionizer. Fuzzy ball generation accelerates the wear of the emitter tip and deteriorates the performance of the ionizer. Although a mechanical cleaning method using a manual brush or an automatic brush is effective for contaminant removal, it requires management of additional mechanical parts by the user. In some cases, contaminants accumulated in the emitter may be transferred to the wafer or product. In order to solve this problem, we developed an ionizer for a clean environment that can remove the pencil-type emitter tip and directly ionize the surrounding gas molecules using the tungsten wire located inside the ion tank. As a result of testing and certification by the Korea Institute of Machinery and Materials, the average concentration was $0.7572particles/ft^3$, the decay time was less than two seconds, and the ion valance was 7.6 V, which is satisfactory.

• The Magazine of the Society of Air-Conditioning and Refrigerating Engineers of Korea
• /
• v.18 no.2
• /
• pp.130-137
• /
• 1989

본 논문은 1. 초청정기술의 현황, 2. 초청정장치의 요소기술, 3. 초청정장치의 개요, 4. 국부청정실의 기본계획에 대해 기술하고 있다. 1. 초청정기술의 현황에서는, 본 연구수행의 방향설정을 위해 미국과 일본의 관련 학${\cdot}$협회의 동향 및 최근에 발표된 논문에 근거한 초청정기술의 연구경향과 과제 등을 파악 분석했다. 2. 초청정장치의 요소기술에서는, 초청정장치 개발에 필요한 미립자제거, 환경조건과 오염제어 기술을 확립하기 위해, Filter와 System Ceiling 방식, 온${\cdot}$습도, 진동, 정전기제어 기술에 관한 문제점과 대책에 대해 검토했다. 3. 초청정장치의 개요에서는, 초청정장치로써 대표적인 클린벤취의 관련규격, 설계요점 등을 검토하여 설계를 위한 기초자료로 삼았다. 4. 국부청정실의 기본계획에서는 상기의 요소기술과 기초자료에 근거하여 본 연구를 수행하기 위한 Line 형의 클린터널 유닛의 기본계획을 수립했다.

• Journal of Korea Society of Industrial Information Systems
• /
• v.14 no.5
• /
• pp.131-137
• /
• 2009

Ionizer is used in removal of static-electricity charge from several production processes such as flat panel display, organic EL, etc. In this paper, we introduce remote monitoring systems for ionizer which have been built to communicate with multiple ionizer and to control the power and ionizing state independently. Based on a series of tests, we verified the key functions of this controller such as unit connection, quantity of ion and electric charge, alarm, and successful communication between PC and controller. This system may be directly applicable to monitor systems for ionizer in the manufacturing processes of TFT-LCD, PDP, organic EL, and others.