References
- 이원석, 이상회, 이종호, 이세훈, 구자일, 'USN 실무', 복두출판사, 2009
- 김정태, '고전압이론과 응용', 교우사, 2001
- 김두현외, '정전기 안전', 동화기술, 2001
- 二澤 正行, 'Guide for ESD control management 工業調査會, 2004
- 'KS C IEC 61340-5-1, 5-2 해설집' 산업 자원부 기술표준원, 2006
전자공학회논문지 IE
- Volume 46 Issue 3
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- Pages.26-32
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- 2009
- /
- 1975-2377(pISSN)
Development of The System of Clearing Static Electricity with A Fan in the VLSI Device
초고밀도집적반도체 장비의 송풍형 정전기 제거 장치 개발
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Yi, Chong-Ho
(Department of Digital Electronics, Inha Technical College)
;
- Jun, Sung-Ho (Tech-Line Co.,LTD)
- Published : 2009.09.25
Abstract
The reason of the contamination in the VLSI industry is the electric charge of the wafer itself. We develop the corona discharged system of clearing static electricity with a fan. This system has automatic cleaner of discharging electrode, check the state of jot control a suitable mount of discharged ion, and monitor all state using Zigbee communication module.
반도체 산업에서, 웨이퍼가 오염되는 불량률 원인의 70%는 웨이퍼 자체의 대전이다. 본 논문은 기존의 고전압을 이용한 코로나 방전식의 송풍형 정전기 제거장치를 개발하였다. 이 시스템은 방전 침 세정 기능을 자동으로 구현하여 균형하게 이온을 방출하도록 하였고, 이온 방출 상태를 감지하여 최적의 이온량을 조절하도록 하였으며, Zigbee 통신모듈을 이용하여 전 시스템을 모니터링하도록 하였다.