비휘발성 메모리를 위한 SiO2와 Si3N4가 대칭적으로 적층된 터널링 절연막의 전기적 특성과 열처리를 통한 특성 개선효과 (Improved Electrical Characteristics of Symmetrical Tunneling Dielectrics Stacked with SiO2 and Si3N4 Layers by Annealing Processes for Non-volatile Memory Applications)
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- 한국전기전자재료학회논문지
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- 제22권5호
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- pp.386-389
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- 2009