쉘이 복합재로 제작되었거나 보강재를 사용하였을때에는 쉘요소의 역학적 특성은 방향성을 가지게 된다. 이 논문에서는 선형관계식을 사용하여 동적 표면가동을 받는 이방성원통쉘의 안정성을 고려하여 다루었다. 재료의 이방성을 고려하여 3방향 즉, 축방향, 둘레방향 및 반경향의 실성항이 포함된 운동방장실을 유도하였다. 동적 안전성의 해석은 Bolotin 의 방법을 따랐으며 근사해를 행렬식행으로 제시하였다. 수직열로 외압을 받는 원통쉘의 좌단을 다루었으며 본 이론과 고전이론 사이의 차이점을 검토하였다.
초기결함을 가진 직교이방성원통셸이 축방향스텝하중을 받은 때의 동적좌굴을 연구하였다. 원통 쉘의 운동방정식은 비선형 Donnell 방정식을 사용하였으며 변위식에는 6개항을 채용하였다. 좌굴 조건은 원통셸의 수직변위와 길이변화의 급격한 변화로써 정의하였다. 좌굴모우드형상은 초기결 함과 쉘재료의 이방성에 따라 달라짐은 발견하였고 좌굴강도는 초기결함의 증가에 따라 크게 감 소된다.
Based upon the experimental data from multi-stage tensile loading at angles to the rolling direction of steel sheets, anisotropic hardening rules are proposed. Experiments show that orthotropic anisotropy is maintained and the orientations of orthotropy axes are changed during tensile loading. A phenomenological model is proposed which includes the rotations of orthotropy axes, work hardening and kinematic hardening. Using the model, uniaxial tensile stress, R-value and tensile necking strain are predicted and compared with the experimental data.
Suppressed Wave equation Estimation of Traveltime (SWEET, Shin et, al., 2000) 알고리즘을 이용하여 등방성 및 이방성 탄성 매질에 대한 ched 주시와 진폭을 계산하는 방법을 개발하였다. SWEET 알고리즘을 2차원 등방성 및 이방성 탄성 매질의 속도 구조에 적용하여 P파의 초동 주시와 진폭을 계산 할 수 있었다. 본 논문에서는 간단한 등방성 균질 탄성 모형, 복잡한 등방성 탄성 모형 및 간단한 이방성 균질 모형에 대한 수치 계산 결과를 보여 줄 것이다.
이방성 습식 식각을 이용하여 멤브레인을 제작하기 위하여 KOH-IPA의 식각액을 사용하여 단결정 실리콘 기판을 이방성으로 식각을 하고, 각 용액에 대한 식각 특성을 관찰하였다. 식각률은 식각액의 온도와 농도에 의존하며, 패턴 형성 방향과 식각액의 농도에 따라 식각 형태가 다르게 나타났다. 패턴은 Primary Flat에 45°로 기울여 형성되었으며 20wt·% KOH 80℃ 이상에서는 U-groove, 그 이하의 온도와 농도에서는 V-groove 식각 형태를 관찰할 수 있었다. 각 면에 대한 식각률 차이에 의해서 생기는 Hillock은 온도와 농도가 높아짐에 따라 줄어들었고, 재식각을 퉁하여 현저하게 줄어듦을 알 수 있었다.
본 연구에서는 균열 끝을 포함하는 선 적분을 행하여 $J_{k}$ 구한 다음 이방 성 재료에서의 탄성계수 상호간의 관계를 이용하여 $J_{k}$를 탄성계수와 응력확대계 수 $K_{I}$, $K_{II}$ 로 간단히 표현 하고자 한다. 이 결과는 선형탄성 이방성 재 료에서 수치적으로 응력확대계수를 구하는 데 있어 기초 자료로 활용 될 것으로 생각 된다.다.다.다.
SF6 플라즈마를 이용한 텅스템 실리사이드 식각공정에서 전력, 압력, 전극간 거리, 기판온도 등의 공정변수와 CI2 첨가 기체가 식각율, 이방성, RIE Lag 등의 식각특성에 미치는 영향을 살펴보았다. 입력 전력이 증가할수록 식각율이 증가하였고 RIE Lag는 감소하였다. 식각율은 150mtorr에서 최대가 되었는데 이는 이온과 반응성 라디칼의 공동작용효과가 가장 크게 나타나기 때문으로 생각된다. 또한 압력이 작아질수록 이온의 에너지가 증가하고 이온의 분산현상이 감소하여 RIE Lag이 감소되었다. 전극간 거리가 감소할수록 식각율은 증가하고 RIE Lag은 감소되었으나 이방성은 악화되는 것으로 나타났다. 기판 온도가 증가할수록 표면 반응이 활발해져 총 식각율은 증가하였으며 반응성 라디칼의 도랑 내부로의 확산이 용이하게 이루어져 RIE Lag가 감소하였으나 화학적 식각의 증가로 이방성은 악화되었다. 염소의 첨가량이 증가할수록 도랑 벽면에 보호막이 형성되어 식각율 및 RIE Lag은 감소하였으며 이방성은 향상되는 것으로 나타났다.
대표적인 철계비정질 합금인 $Fe_{80}B_{15}Si_{5}$의 기초연자기특성을 펄스법으로 측정하였다. 자기변형, 이방성에너지, 자화율의 역수들 사이의 정량적 관계를 연구하였다. 자기변형과 일축이방성에너지의 자화율의 역수에 대한 상대적인 기여도를 계산하였다. 내부응력의 크기와 듀도이방성에너지를 추산하였다. 시료의 장축방향으로 인가된 장력은 유도 이방성에너지를 크게 증가하게 함을 알았다.
이방성 재료에서의 표면파 진행과 산란에 대한 연구를 수행하였다. 두 개의 이방성 4분 무한 영역의 계면에서의 표면파 산란거동을 해석하기 위한 이론을 제안하였다. Green 함수법을 이용하여 계면에서의 표면파 산란계수를 결정하기 위한 방정식을 유도하였다. 수치계산을 수행하였으며 이방성과 비균질성이 산란 거동에 미치는 영향을 비교하였다.
고에너지적 Nd-Fe-B계 소결자석 제조를 위한 펄스자장 성형시, 금형 및 다양한 성형조건이 자석의 이방화율 향상에 미치는 영향에 대하여 조사하였다. 일반적으로 butterfly, disk or coin 형태의 자석을 제조하는 방법으로는, 종축자장성형법(Axial Die Press, ADP)을 이용하여 최종제품의 near-net shape으로 성형 및 소결하는 방법과, 횡축자장성형법(Transverse Die Press, TDP)을 이용하여 blick or cylinder 형태로 제조한 후 여러 단계의 가공공정을 거쳐 최종제품으로 제조하는 방법이 적용되고 있다. 그러나, ADP의 경우 분말의 자장정렬 후 성형단계에서 성형밀도가 증가함에 따라 배향의 틀어짐 현상이 증가하므로 이방화율 향상의 한계가 있어 (BH)$_{MAX}$+iHc=54 이상의 자석은 제조되기 어렵고, TDP의 경우 고이방화 자석의 제조가 가능하나 복잡한 형상의 제품을 직접 성형할 수 없어 성형/소결 후 복잡한 가공공정을 거쳐야 하므로 재료의 손실뿐만 아니라 고가의 가공비용이 소요되므로 경제적인 문제점을 갖게 된다. 반면에, 펄스자장 종축성형방법(PDP)은 3T~5T의 펄스자장을 이용하여 분말의 정렬 및 성형을 동시에 수행함으로써 TDP보다 향상된 배향율이 얻어질 수 있으며, ADP으로만 실현 가능한 복잡한 형성의 자석을 near-net shape으로 제조가 가능한 잇점이 있다.다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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