• 제목/요약/키워드: 유도결합형 플라즈마

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자화된 유도결합형 $\textrm{C}_{4}\textrm{F}_{8}$ 플라즈마를 이용한 $\textrm{SiO}_2$ 건식 식각시 실리콘 표면에 발생하는 손상 및 오염에 관한 연구 (A Study of Damage and Contamination on Silicon by Magnetized Inductively Coupled $\textrm{C}_{4}\textrm{F}_{8}$ Plasma Etching of $\textrm{SiO}_2$)

  • 남욱준;김현수;윤종구;염근영
    • 한국재료학회지
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    • 제8권9호
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    • pp.825-830
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    • 1998

  • 자화된 유도결합형 C4F8 플라즈마로 SiO2를 건식식각시 실리콘 표면에 발생하는 손상과 오염에 대하여 연구하였다. 오염의 분석을 위해서 XPS, SIMS, TEM을 사용하였으며, 손상정도를 측정하기 위해서 HRTEM과 Schottky-diode 구성을 통한 I-V특성 측정을 사용하였다. 유도 결합형 C4F8 플라스마에 0에서 18Gauss까지의 자장이 가해짐에 따라서 실리콘 표면에 생기는 잔류막의 두께가 SiO2식각속도와 선택비의 증가와 함께 증가하였으며, XPS를 통하여 그 조성이 fluorine-rich에서 carbon-rich 한 상태로 변화함을 알 수 있었다. 자장을 가하지 않는 상태에서는 표면에서 $40\AA$부근까지 고밀도의 손상층이 관찰되었으나, 자장을 가함에 따라서 노출된 손상층의 깊이는 깊어지나 그 밀도는 줄어들음을 HRTEM을 통하여 관찰 할 수 있었다. Schottky-diode를 통한 I-V특성곡선의 분석으로 자장이 증가함에 따라서 전기적인 손상이 감소함을 알 수 있었다.

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무전극 형광램프의 페라이트 특성변화에 대한 전자계 분포 (The Study on Electromagnetic Distribution of Electrodeless Fluorescent)

  • 김광수;이영환;조주웅;최용성;박대희
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2003년도 춘계학술대회 논문집 유기절연재료 방전 플라즈마연구회
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    • pp.81-84
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    • 2003

  • 유도결합형 플라즈마(Inductively coupled plasma)는 조명기술 분야에서도 효과적인 방전 소스로 이용되고 있다. 이중 무전극 램프에서의 유도결합형 플라즈마의 이용은 장수명은 물론 높은 효율과 넓은 동작 온도특성, 전원 인가시와 동시에 방전이 개시되는 등 여러 가지 장점을 가지고 있다. 본 논문에서는 Re-entr-ant Type QL-lamp에 사용되어진 페라이트의 형태에 변화를 주어 이에 따른 전자계 특성을 살펴보았다. 먼저 페라이트 코어의 특성에 따른 임의의 영역에서의 자속 및 자속밀도 그리고 자계강도 등을 고려하였으며, 시뮬레이션을 통한 페라이트 크기의 변화에 따른 전자계 분포 특성을 조사하였다.

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Ar 가스압력과 RF 전력변화 (13.56MHz)에 따른 유도결합형 플라즈마의 광학적 특성 (Optical Properties of Inductively Coupled Plasma with Ar Gas Pressure and RF Power (13.56MHz))

  • 허인성;김광수;최용성;이종찬;박대희
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2003년도 춘계학술대회 논문집 유기절연재료 방전 플라즈마연구회
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    • pp.92-95
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    • 2003

  • In this paper, the emission properties of electrodeless fluorescent lamp were discussed using the inductively coupled plasma. To transmit the electromagnetic energy into the chamber, a RF power of 13.56MHz was applied to the antenna and considering the Ar gas pressure and the RF electric power change, the emission spectrum, Ar-I line, luminance were investigated. At this time the input parameter for ICP RF plasma, Ar gas pressure and RF power were applied in the range of 10~60m Torr, 10~300W respectively.

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무전극 형광램프의 페라이트 특성변화 시뮬레이션을 통한 전자계 분포 (The Study on Electromagnetic Distribution Electrodeless Fluorescent Lamp)

  • 김광수;이영환;조주웅;최용성;박대희
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2003년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1701-1703
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    • 2003

  • 유도결합형 플라즈마(Inductively coupled plasma)는 조명기술 분야에서도 효과적인 방전 소스로 이용되고 있다. 이중 무전극 램프에서의 유도결합형 플라즈마의 이용은 장수명은 물론 높은 효율과 넓은 동작 온도특성, 전원 인가시와 동시에 방전이 개시되는 등 여러 가지 장점을 가지고 있다. 본 논문에서는 Re-entrant Type QL-lamp에 사용되어진 페라이트의 형태에 변화를 주어 이에 따른 전자계 특성을 살펴보았다. 먼저 페라이트 코어의 특성에 따른 임의의 영역에서의 자속 및 자속밀도 그리고 자계강도 등을 고려하였으며, 시뮬레이션을 통한 페라이트 크기의 변화에 따른 전자계 분포 특성을 조사하였다.

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고밀도 유도 결합 플라즈마를 이용한 박막 증착 장치 개발

  • 주정훈
    • 한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집
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    • 한국반도체및디스플레이장비학회 2003년도 추계학술대회 발표 논문집
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    • pp.26-30
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    • 2003

  • 안테나 내장형 유도결합 플라즈마를 마그네트론 스퍼터링 장치에 추가하고 플라즈마의 생성 조건을 제어함으로써 고품질의 박막을 증착할 수 있는 장치의 개발 연구를 수행하였다. 정확한 장치의 성능을 평가하고 앞으로의 개선점을 찾기 위하여 Langmuir probe, OES, RF impedance probe, QMS 등의 플라즈마 진단 도구들을 사용하여 기본 동작 특성 및 공정중 플라즈마의 전자 온도, 밀도, 방출 파장 분석을 통한 입자 상태 분석, 부하 임피던스와 시스템 임피던스 분석을 통한 파워 전달 특성을 평가하고 이에 따라서 장치의 구성 및 동작 조건을 변경 개선하였다. 실험 대상 박막계는 기본 물성 측정을 위한 Al, Ag, TiN, MgO, Si, $SiO_2$, 등이며 타겟의 크기는 2인치 직경의 원형, 12인치 원형, 5인치 * 25인치 사각형 3가지 이다.

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