유도결합형 플라즈마 식각 공정시 실리콘 표면의 잔류막 형성과 물리적, 전기적 손상 에 관한 연구

• 김현수 (성균관대학교) ;
• 남욱준 (성균관대학교) ;
• 김정훈 (서울대학교) ;
• 이호준 (서울대학교) ;
• 주정훈 (군산대학교) ;
• 황기웅 (서울대학교) ;
• 염근영 (성균관대학교)

• Published : 1995.06.01

• PDF