• Title/Summary/Keyword: 소자 모델링

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The Modeling Analysis of the AT Forward Multi-Resonant Converter (AT 포워드 다중공진형 컨버터의 모델링 해석)

  • 김창선
    • Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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    • v.14 no.3
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    • pp.6-14
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    • 2000
  • The high efficiency multi-resonant converter(MRC) is capable of operating at a high frequency because the losses are decreased due to the resonant tank circuit. Such a few MHz high frequency applications provide high power density[W/inch3] of the converter. However, the resonant voltage stress across the switch of the resonant tank circuit is 4∼5 times input voltage. This high voltage stress increases the conduction losses because of on-resistance of a MOSFET with higher rating. In this paper, the modeling analysis for the AT Forward MRC suggested to solve the these problems is discusses. The operational modes of the AT Forward MRC are divided to 8 equivalent modes according to the two switching sequences. Each mode analysis is covered using the equivalent circuits modeled over all of the paper. The operational principle of the resonant converter was verified through the experimental converter with 48[V] input voltage, 5[V]/50[W] output voltage/power and PSpice simulation. The measured maximum voltage, 5[V]/50[W] output voltage/power and PSpice simulation. The measure maximum voltage stress is 170[V] of 2.9 times the input voltage and the maximum efficiency is measured to 81.66%.

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저온 플라즈마 반응기에서의 수정충돌주파수를 이용한 실리콘 나노 입자 형성 모델링

  • Kim, Yeong-Seok;Kim, Dong-Bin;Kim, Hyeong-U;Kim, Tae-Seong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.217.1-217.1
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    • 2014
  • 반도체 및 디스플레이 산업은 많은 공정들에서 저온 플라즈마 반응을 이용한다. 특히 소자 제작을 위한 실리콘 박막의 증착은 저온 플라즈마 공정의 주요 공정이다. 하지만 실리콘 박막을 합성하는데 있어서 저온 플라즈마에서 형성되는 실리콘 나노 입자는, 오염입자로써 박막의 특성을 악화시켜 소자생산 수율을 악화시키는 주요 원인이 되고 있다. 따라서 플라즈마에서 입자 형성의 원인이 되는 화학반응 및 입자들의 성장 매커니즘에 대한 연구는, 1980년대 플라즈마 공정에서 입자 합성이 보고된 이래 공정의 최적화를 위해 꾸준히 연구되어왔다. 이러한 매커니즘의 연구들은, 플라즈마 화학반응에 의해 실리콘 입자 핵을 만들어 내는 과정과 입자들이 충돌에 의해 성장해가는 과정으로 나눠진다. 플라즈마 화학 반응 과정은 아레니우스 방정식에 의해 정의된 반응계수를 이용하여 플라즈마 내 전자와 이온, 중성 화학종들이 전자 온도와 전자 밀도, 챔버 온도 등에 의해 결정되는 현상을 모사한다. 또한 이 과정에서 실리콘을 포함하는 화학종들의 반응에 의해 핵이 생성 되가는 양상을 모사한다. 생성된 핵은 충돌에 의해 입자가 성장해 가는 과정의 가장 작은 입자로써 이용된다. 입자들이 성장해가는 과정은 입자들이 서로 충돌하면서 다양한 입경의 입자로 분화되어가는 현상을 모사한다. 이 과정에 의해 다양한 입경분포로 분화된 입자들은 플라즈마 내 전자에 의해 하전되며, 이러한 하전 양상은 입경에 따라 다른 분포를 보인다. 본 연구에서는 입자의 하전 분포를 고려하여, 입자들의 성장의 주요 원인인 입자간의 충돌을 대표하는 충돌주파수를 수정하는 방식을 채택하여 보다 정밀한 입자 성장 양상을 모델링하였다. Inductively coupled plasma (ICP) 타입의 저온 플라즈마 반응기에서 합성된 입자들을 Particle Beam Mass Spectrometer (PBMS)와 Scanning Electron Microscope (SEM)를 이용하여 입경분포를 측정한 데이터와 모델링에 의해 계산된 결과를 비교하여 본 모델의 유효성을 검증하였다. 검증을 위해 100~300 mtorr의 챔버 압력 조건과 100~350 W의 입력 전력 조건들을 달리하며 측정한 결과와 계산한 데이터를 조건별로 비교하였다.

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Characteristics Analysis of Class E Frequency Multiplier using FET Switch Model (FET 스위치 모델을 이용한 E급 주파수 체배기 특성 해석)

  • Joo, Jae-Hyun;Koo, Kyung-Heon
    • Journal of Advanced Navigation Technology
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    • v.15 no.4
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    • pp.596-601
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    • 2011
  • This paper has presented research results for the switching mode class E frequency multiplier that has simple circuit structure and high efficiency. Frequency multiplication is coming from the nonlinearity of the active component, and this paper models the FET active component as a simple switch and some parasitics to analyze the characteristics. The matching component parameters for the class E frequency doubler have been derived with modeling the FET as a input controlled switch and some parasitics. A circuit simulator, ADS, is used to simulate the output voltage and current waveform and efficiency with the variation of the parasitic values. With 2.9GHz input and 2V bias, the drain efficiency has been decreased from 98% to 28% with changing the parasitic capacitance from 0pF to 1pF at 5.8GHz output, which shows that the parasitic capacitance CP has the most significant effect on the efficiency among the parasitics of FET.

High-k 물질의 적층을 통한 고신뢰성 EIS pH 센서

  • Jang, Hyeon-Jun;Kim, Min-Su;Jeong, Hong-Bae;Lee, Yeong-Hui;Jo, Won-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.129-129
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    • 2011
  • ISFET (ion sensitive field effect transistor)는 용액 중의 각종 이온 농도를 측정하는 반도체 이온 센서이다. ISFET는 작은 소자 크기, 견고한 구조, 즉각적인 반응속도, 기존의 CMOS공정과 호환이 가능하다는 장점이 있다. ISFET의 기본 구조는 기존의 MOSFET (metal oxide semiconductor field effect transistor)에서 고안되었으며, ISFET는 기존의 MOSFET의 게이트 전극 부분이 기준전극과 전해질로 대체되어진 구조를 가지고 있다. ISFET소자의 pH 감지 메커니즘은 감지막의 표면에서 pH용액 속의 이온들이 감지막의 표면에서 속박되어 막의 표면전위의 변화를 유발하는 것을 이용한다. 그 결과, ISFET의 문턱전압의 변화를 일으키게 되고 드레인 전류의 양 또한 달라지게 된다. ISFET의 높은 pH감지능력을 얻기 위하여 높은 high-k물질 들이 감지막으로서 연구되었다. Al2O3와 HfO2는 높은 유전상수, non-ideal 효과에 대한 immunity 그리고 높은 pH 감지능력 등 많은 장점을 가지고 있는 물질로 알려졌다. 본 연구에서는, SiO2/HfO2/Al2O3 (OHA) 적층막을 이용한 EIS (electrolyte- insulator-silicon) pH센서를 제작하였다. EIS구조는 ISFET로의 적용이 용이하며 ISFET보다 제작 방법과 소자 구조가 간단하다는 장점이 있다. HfO2은 22~25의 높은 유전상수를 가지며 높은 pH 감지능력으로 인하여 감지막으로서 많은 연구가 이루어지고 있는 물질이다. 하지만 HfO2의 물질이 가진 고유의 특성상 화학적 용액에 대한 non-ideal 효과는 다른 금속계열 산화막에 비하여 취약한 모습을 보인다. 반면에 Al2O3의 유전상수는 HfO2보다 작지만 화학용액으로 인한 손상에 대하여 강한 immunity가 있는 재료이다. 이러한 물질들의 성질을 고려하여 OHA의 새로운 감지막의 적층구조를 생각하였다. 먼저 Si과 high-k물질의 양호한 계면상태를 이루기 위하여 5 nm의 얇은 SiO2막을 완충막으로서 성장시켰다. 다음으로 높은 유전상수를 가지고 있는 8 nm의 HfO2을 증착시킴으로서 소자의 물리적 손상에 대한 안정성을 향상시켰다. 최종적으로 화학용액과 직접적인 접촉이 되는 부분은 non-ideal 효과에 강한 Al2O3을 적층하여 소자의 화학적 손상에 문제점을 개선시켰다. 결론적으로 감지막의 적층 모델링을 통하여 각각의 high-k 물질이 가진 고유의 특성에 대한 한계점을 극복함으로써 높은 pH 감지능력뿐만 아니라 신뢰성 있는 pH 센서가 제작 되었다.

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Modeling and Optimization of $sub-0.1\;{\mu}m$ gate Metamorphic High Electron Mobility Transistors ($0.1\;{\mu}m$ 이하의 게이트 길이를 갖는 Metamorphic High Electron Mobility Transistor의 모델링 및 구조 최적화)

  • Han Min;Kim Sam-Dong;Rhee Jin-Koo
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.42 no.3 s.333
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    • pp.1-8
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    • 2005
  • In this paper, we analyzed the DC and RF characteristics of $0.1\;{\mu}m$ metamorphic high electron mobility transistor (MHEMT) using the ISE-TCAD simulation tool. we also analyzed the effects or the scaling on vertical and lateral dimensions such as a gate length, source-drain spacing, and channel thickness. We discussed the degradation of extrinsic transconductance $g_{m,max}$ in the MHEMTs adopting the gate length $(L_g)$ of $sub-0.1\;{\mu}m$. We suggested the model describing the effects on the vertical and lateral parameter scaling.

Cold FET modeling and examination of validness of parasitic resistances (수동 FET 모델링과 기생저항값의 유효성 검증)

  • Kim, Byung-Sung
    • Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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    • v.36D no.2
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    • pp.1-10
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    • 1999
  • Direct extraction of FET's small signal model parameters needs predetermined parasitic elements usually obtained under forward cold FET conditionl This paper derives analytic intrinsic model for cold FET's and shows that normal cold FET condition can replace forward cold FET condition for extracting parasitic elements. Then, we track the error of hot FET's small signal model bounded by the cold FET condition and examine the validness of cold parasitic resistances by checking the existence of the error minimum.

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Analysis of Rate-of-rise of VFTO Measured in Transformer During the Operation of Disconnector (단로기 조작 시 변압기 단자에서 측정된 VFTO의 상승률 분석)

  • Lee, Ji-Young;Oh, Yun-Sik;Seo, Hun-Chul;Kim, Chul-Hwan
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2011.07a
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    • pp.45-46
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    • 2011
  • 단로기와 회로 차단기의 스위칭 동작에 의해 발생하는 Very Fast Transient Overvoltage(VFTO)는 변압기, 회로차단기 등 GIS 전력소자에 큰 충격을 주어 잠재적인 위험이 된다. VFTO는 전력기기 소자 및 절연체 손상의 주된 원인이므로 시스템을 설계할 때 반드시 VFTO 최대값을 고려해야 한다. 본 논문에서는 55kV Gas Insulated Substation(GIS)를 분포정수회로기반으로 모델링하여 다양한 투입위상각에 따른 VFTO 상승률을 모의하였다. 이때, EMTP-RV를 이용하여 변압기로 전파된 VFTO를 측정하여 그 경향을 분석하였다.

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Analysis of Power Transfer and Noise characteristics for PCB Design of DC/DC Converter (DC/DC Converter의 PCB 설계에 따른 전력전달 및 잡음 특성 분석)

  • Park, Jin-Hong
    • Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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    • v.10 no.2
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    • pp.264-268
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    • 2009
  • In this paper, the two PCB design method results of boost converters are simulated with same circuit device parameters. One is modeled with microstrip structure and the other is modeled two layers structure without reference plane. Between devices of each circuit are routed 5 centimeters. When the switching frequency is operated 100kHz, the overshoot by signal reflection and the noise characteristics by frequency spectrum for the output voltage and current of the power switch is compared and analyzed using simulation.

Circuit modeling and simulation of active controlled field emitter array for display application (디스플레이 응용을 위한 능동 제어형 전계 에미터 어레이의 회로 모델링 및 시뮬레이션)

  • Lee, Yun Gyeong;Song, Yun Ho
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.38 no.2
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    • pp.28-28
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    • 2001
  • 능동제어형 전계방출 디스플레이의 전자공급원으로서 능동제어형 전계 에미터 어레이의 회로모델이 제안되었다. 능동제어형 전계 에미터 어레이는 전계방출을 안정화시키고 저전력구동을 위한 수소화 된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터와 Spindt형 Mo 전계 에미터 어레이로 구성되었고 같은 유리기판 위에 제작되었다. 비정질 박막 트랜지스터와 Spindt형 Mo 전계 에미터 어레이의 전기적 특성으로부터 추출된 기본 모델 변수는 제안된 능동제어형 전계 에미터 어레이 회로모델에 입력되었고 SPICE 회로 시뮬레이터를 사용하여 특성을 분석하였다. 제작된 소자의 측정값과 DC 시뮬레이션 결과를 비교한 결과 두 값이 상당히 일치함으로써 등가회로 모델의 정확성을 확인하였다. 또한 제작된 소자의 transient 시뮬레이션 결과 전계 에미터 어레이의 게이트 커패시턴스와 TFT의 구동능력이 반응시간에 가장 크게 영향을 끼치고 있음을 확인하였다. 제작된 능동제어형 전계방출 에미터 어레이는 pulse width modulation으로 구동하는 경우 15㎲의 반응시간을 얻었고 이 값으로는 4bit/color의 계조(gray scale)표현이 가능하였다.

Fabrication and Evaluation of Ultrasonic Bi-directional Linear Motors (양방향성 초음파 리니어 모터의 제작 및 특성 평가)

  • Kwon Jae-Hwa;Lee Su-sung;Roh Yongrae
    • Proceedings of the Acoustical Society of Korea Conference
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    • autumn
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    • pp.193-196
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    • 2001
  • 본 연구에서는 원활한 정재파 생성과 양방향 구동이 가능한 새로운 형태의 초음파 리니어 모터를 제작하고, 그 특성을 평가하였다 본 연구에서 제안한 모터는 $\lambda/4$ 간격으로 이빨 구조를 가지는 스테이터의 상, 하부에 압전소자를 $90^\circ$ 의 위치 위상차를 갖도록 부착한 형태의, 상, 하부 압전소자에 각각 동위상, 180도의 시간 위상차를 가지는 교류 전압을 인가함으로써 양방향 구동이 가능하도록 하였다. 또한 원활한 정재파를 생성할 수 있는 최적의 구조를 결정하기 위해, 여러 가지 형태의 경계조건들에 대해 유한요소해석법을 이용하여 모델링하여 각 이빨들의 변위를 관찰함으로써 각각의 구조에 대해 타당성을 검증하였다. 위 결과를 바탕으로 세 종류의 초음파 리니어 모터를 제작하여 구동실험을 하였고, 실험 결과에 따라 속도와 추력 및 양방항성이 가장 우수한 최적의 구조를 결정하였다. 본 연구에서 제작한 모터는 최대 82.4cm/s의 속도와 0.46N의 추력을 가졌다.

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