The objective of this paper is to study the effects of the cooling air mass flow rate and the heat input variation by the simulation and the experiment. An air-cooled $NH_3/H_2O$ absorption chiller is tested in the present study. The nominal cooling capacity of the single effect machine is 17.6 kW (5.0 USRT). The overall conductance (UA) of each component, the cooling capacity, coefficient of performance and each state point are measured with the variation of the cooling air mass flow rate and the heat input. It is found that the COP and cooling capacity increase and then decreases with increasing the heat input. It is also found that the COP and the cooling capacity increase and keep constant with increasing the cooling air mass flow rate. The maximum COP is estimated as 0.51 and the optimum cooling air mass flow rate is $217\;m^3/min$ from the present experiment.
Tin-doped indium oxide(ITO) thin films were deposited on polyethylene terephthalate(PET) at room temperature by oxygen ion beam assisted evaporator system and the effects of oxygen gas flow rate on the properties of room temperature ITO thin films were investigated. Plasma characteristics of the ion gun such as oxygen ions and atomic oxygen radicals as a function of oxygen flow rate were investigated using optical emission spectroscopy(OES). Faraday cup also used to measure oxygen ion density. The increase of oxygen flow rate to the ion gun generally increase the optical transmittance of the deposited ITO up to 6sccm of $O_2$ and the further increase of oxygen flow rate appears to saturate the optical transmittance. In the case of electrical property, the resistivity showed a minimum at 6 sccm of $O_2$ with the increase of oxygen flow rate. Therefore, the improved ITO properties at 6 sccm of $O_2$ appear to be more related to the incorporation of low energy oxygen radicals to deposited ITO film rather than the irradiation of high energy oxygen ions to the substrate. At an optimal deposition condition, ITO thin films deposited on PET substrates showed the resistivity of $6.6{\times}10^{-4}$${\Omega}$ cm and optical transmittance of above 90%.
Ignition of hydrogen and oxygen in the "third limit" is theoretically investigated in the stagnation point flow with activation energy asymptotics. With the steady-state approximations of H, OH, O and HO$_2$, a two-step reduced kinetic mechanism is derived for the regime lower than the crossover temperature T$_{c}$ at which the rates of production and consumption of all radicals are equal. Appropriate scaling of Damkohler number successfully provides the explicit relationship between pressure, temperature and strain rate at ignition. It is shown that, compared with those for the counterflow, ignition temperatures for the stagnation point flow are considerably increased with increasing the system pressure. This is because ignition in the "third limit" is characterized by the production of reduction of $H_2O$$_2$, which is reduced by wall effect. Strain rate substantially affects ignition temperature because key reaction rates of $H_2O$$_2$ are comparably with its transport rate, while the mixture temperature and the hydrogen composition do not significantly affect ignition temperature.e.
In this paper, our main issue is that establishing the control procedure of continuous gas flow rate according to combustion fan RPM. For this, first, we decide the optimum operating condition of gas swirl burner through analysis of combustion characteristics - thermal efficiency, combustion efficiency and exhaust gases such as CO, $CO_{2}$, $O_{2}$, $NO_{x}$ and THC. Second, fuel gas flow rate of gas valve is decided with considering excess air ratio and combustion fan RPM is decided by the target of combustion air flow rate. Finally, experimental operating equation is acquired by regression for gas valve and combustion fan. This equation is the control equation of continuous gas flow rate and always gas flow rate is decided by combustion fan operating RPM.
NiO 산화물 타겟을 이용한 RF 마그네트론 스퍼터로 상온에서 Si(100) 기판 위에 NiO 박막을 증착시켜, 스퍼터 가스의 산소 유량비가 NiO 박막의 결정 배향성과 표면 형상에 미치는 영향을 조사하였다. Ar 가스에서 증착된 NiO 박막은 높은결정화도와 (100)면의 우선 배향성을 나타내었으나, $O_2$ 가스에서 증착된 경우에는 (111)면의 우선 배향성을 보였으며 그 증착속도도 감소하였다. 스퍼터 가스의 $O_2$ 함량에 따른 NiO 박막의 결정성과 우선배향성 변화에 대한 요인을 고찰하였으며, 박막의 표면 형상과 거칠기의 변화를 조사하였다.
The perpose of this study was to suggest the experimental characteristic of the Cherepnov Water Lifter following the drain mode. The Cherepnov Water Lifter(CWL), which is powered by the potential energy of water, can be set to operate automatically when the water m a tank is drained. In this study, a CWL is constructed in the valve drain controlling mode(VCM) and the siphon drain controlling mode(SCM), and a pressure transducer is installed. It was found that, in the VCM, intake flow volume is proportional to both delivery flow volume and drain flow volume. In the SCM, intake flow volume is proportional to drain flow volume, and the average delivery rate is proportional to both efficiency and the water utilization ratio. Also, in the VCM, the water utilization ratio is 35~49%, efficiency is 62~9O%, average delivery rate is 12.8~81.2$cm^3$/s, and the average drain rate is 14.O~91.5c$cm^3$/s. On the contrary in the SCM, the water utilization ratio is 1.7~38%, efficiency is 3~58%, average delivery rate is 3.1 ~69.2$cm^3$/s, and the average drain rate is shown as 114.5~ 183$cm^3$/s. As a result of the water utilization ratio, efficiency, average delivery rate, and average drain rate are compared, the VCM is found to be superior and the more economical mode. However, the VCM requires manpower and electricity to operate the electronic machinery involved, while the SCM requires no manpower or electricity at all. An economic evaluation of these differences will be necessary in the future. Also, in the SCM, studies to improve water utilization ratio and efficiency, to find the optimum height of the siphon for decreasing the average drain rate, and to determine the radius of curvature of throat have to be conducted in advance, since a large flow rate is drained during the priming action of the siphon.
As the demand for lithium-ion batteries for electric vehicles is increasing, it is important to recover valuable metals from waste lithium-ion batteries. In this study, the effects of gas flow rate and hydrogen partial pressure on hydrogen reduction of NCM-based lithium-ion battery cathode materials were investigated. As the gas flow rate and hydrogen partial pressure increased, the weight loss rate increased significantly from the beginning of the reaction due to the reduction of NiO and CoO by hydrogen. At 700 ℃ and hydrogen partial pressure above 0.5 atm, Ni and Li2O were produced by hydrogen reduction. From the reduction product and Li recovery rate, the hydrogen reduction of NCM-based cathode materials was significantly affected by hydrogen partial pressure. The Li compounds recovered from the solution after water leaching of the reduction products were LiOH, LiOH·H2O, and Li2CO3, with about 0.02 wt% Al as an impurity.
This paper presents two dimensional simulation results of an inductively coupled $Ar/O_2$ plasma reactor. The effects of operating conditions on the plasma properties and the uniformity of atomic oxygen near the wafer were systematically investigated. The plasma density had the linear dependence on the chamber pressure, the flow rate of the feed gas and the power deposited into the plasma. On the other hand, the electron temperature decreased almost linearly with the chamber pressure and the flow rate of the feed gas. The power deposited into the plasma nearly unaffected the electron temperature. The simulation results showed that the uniformity of atomic oxygen near the wafer could be improved by lowering the chamber pressure and/or the flow rate of the feed gas. However, the power deposited into the plasma had an adverse effect on the uniformity.
RuO2 박막은 SiO2(1000$\AA$)Si와 MgO(100) 단결정 위에 낮은 증착온도에서 hot-wall MOCVD법으로 증착시켰다. 그리고 박막의 특성에 미치는 공정변수의 영향을 고찰하였다. 25$0^{\circ}C$의 비교적 낮은 온도에서부터 RuO2의 단일상을 얻었으며 SiO2(1000$\AA$)Si위에 증착된 RuO2박막은 무질서한 배향을 보이는 반면 MgO(100)단결정 위에 증착시킨 RuO2박막의 경우에는 (hk0) 배향성을 보이는 것을 관찰하였다. 증착온도가 증가함에 따라 RuO2박막의 결정성은 증가하였고 전기적 비저항은 감소하였다. O2유량이 감소함에 따라 RuO2박막의 비저항은 감소하였으며, 증착온도 35$0^{\circ}C$, O2 유량 50sccm에서 증착된 두께 2600$\AA$-RuO2박막의 비저항은 52.7$\mu$$\Omega$-cm이었으며 이는 고 유전물질의 하부전극으로 이용하기에 적합하다.
Rhodamine B(RhB) 탈색에 대한 광전기촉매 공정의 적용가능성을 분말 TiO$_2$를 충전한 슬러리 광전기촉매 반응기에서 연구하였다. 광전기촉매 공정의 반응기 시스템은 분말 TiO$_2$, Pt 전극 및 3개의 8 W UV-C 등으로 구성되어 있다. 전류, 전해질, 공기 유량 및 전극 재질과 같은 운전 인자의 영향을 고찰하였다. 광전기촉매 공정의 최적 광촉매 량과 전류는 각각 0.4 g/L과 0.02A이었다. 광촉매 공정과 전기분해 단독 공정에 의해 분해되는 RhB의 합보다 광전기촉매 공정에 의해 더 빨리 분해되었는데, 광촉매 공정과 전기분해 공정의 결합에 의한 시너지 효과를 나타내는 것으로 사료되었다. 광전기촉매 공정은 공기 유량에 의해 영향을 받는 것으로 나타났고 최적 공기 유량은 2 L/min이었다. RhB 탈색에 대한 전극 재질과 NaCl 효과는 본 실험범위에서는 크지 않은 것으로 나타났다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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