Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.17
no.1
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pp.33-36
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2016
In the present work, a Ni-doped indium zinc oxide (NIZO) film and its multilayers with Ag layers were investigated as transparent conducting electrodes for liquid crystal display (LCD) applications, as a substitute for indium tin oxide (ITO) electrodes. By interposing the Ag layer between the NIZO layers, the loss of the optical transmittance occurred; however, the Ag layer brought enhancement of electrical sheet resistance to the NIZO/Ag/NIZO multilayer electrode. The twisted nematic cell based on the NIZO/Ag/NIZO multilayer electrode exhibited superior electro-optical characteristics than those based on single NIZO electrode and was competitive compared to those based on the conventional ITO electrode. An LCD-based NIZO/Ag/NIZO multilayer electrode may allow new approaches to conventional ITO electrodes in display technology.
The properties of the IZTO thin films on the glass were studied with a variation of the $SiO_2$ buffer layer thickness. $SiO_2$ buffer layers were deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) on the glass, and the In-Zn-Tin-Oxide (IZTO) thin films were deposited on the buffer layer by RF magnetron sputtering. All the IZTO thin films with the $SiO_2$ buffer layer are shown to be amorphous. Optimum $SiO_2$ buffer layer thickness was obtained through analyzing the structural, morphological, electrical, and optical properties of the IZTO thin films. As a result, the IZTO surface roughness is 0.273 nm with a sheet resistance of $25.32{\Omega}/sq$ and the average transmittance is 82.51% in the visible region, at a $SiO_2$ buffer layer thickness of 40 nm. The result indicates that the uniformity of surface and the properties of the IZTO thin film on the glass were improved by employing the $SiO_2$ buffer layer and the IZTO thin film can be applied well to the transparent conductive oxide for display devices.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.30
no.5
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pp.552-558
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2013
In recent years the interest on flexible display has been increasing as a future display due to its bendable characteristics. An ITO(indium tin oxide) layer, which is part of a flexible display, can be broken easily while bending because it is made of brittle materials. This brittle property can cause the malfunction of flexible display. To analyze fracture characteristics of ITO layer, bending test was conducted commonly. However, it is not possible to know specific phenomena on bended ITO layer by simple bending test only. Accordingly, in this study, the FE(finite element) model is developed similarly to a real flexible display to analyze stress distribution of flexible display under bending condition, especially on ITO layer. To validate FE model, actual bending test was conducted and the test results were compared with the simulation results by measuring reaction forces during bending. By using the developed model, FE analysis about the effect of design parameter (Thickness & Young's Modulus of BL) on ITO Layer was performed. By explained FE analysis above, this research draws a conclusion of reliable design guide of flexible display, especially on ITO layer.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.55
no.1
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pp.30-33
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2006
Transparent indium tin oxide (ITO) anode surface was modified using $O_3$ Plasma and organic ultrathin buffer layers were deposited on the ITO surface using 13.56 MHz RF plasma polymerization technique. The EL efficiency, operating voltage and lifetime of the organic light-emitting device (OLED) were investigated in order to study the effect of the plasma surface treatment and role of plasma polymerized organic ultrathin buffer layer. Poly methylmethacrylate (PMMA) layers were plasma polymerized on the ITO anode as buffer layer between anode and hole transport layer (HTL). The plasma polymerization of the organic ultrathin layer were carried out at a homemade capacitive-coupled RF plasma equipment. N,N'-diphenyl-N,N'(3- methylphenyl)-1,1'-diphenyl-4,4'-diamine (TPD) as HTL, Tris(8-hydroxyquinolinato) Aluminum $(Alq_3)$ as both emitting layer (EML)/electron transport layer (ETL), and aluminum layer as cathode were deposited using thermal evaporation technique. Effects of the plasma surface treatment of ITO and plasma polymerized buffer layers on the OLED performance were discussed.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.15
no.1
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pp.41-44
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2014
Emission properties of the organic light-emitting diodes were investigated with the use of a hole-injection layer of copper(II)-phthalocyanine (CuPc). The manufactured device structure is indium-tin-oxide (ITO) (180 nm)/CuPc (0~50 nm)/N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-diphenylbenzidine (TPD) (40 nm)/tris-(8-hydroxyquinoline) aluminum (III) ($Alq_3$) (60 nm)/Al(100 nm). We investigated the luminescence properties of $Alq_3$ which is affected by the CuPc hole-injection layer. Also, we studied the influence of light-emission properties in the structure of an ITO/CuPc/TPD/$Alq_3$/Al device depending on the several thicknesses of CuPc (0~50 nm) layer. As a result, it was found that the hole injection occurs smoothly in the device with 20 nm thick CuPc layer, and the properties become significantly worse in the device with a CuPc layer thickness higher than 40 nm. We studied the topography and external quantum efficiency depending on the layer thickness of CuPc. Also, we analyzed the electroluminescent characteristics in the low and high-voltage range.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.33
no.1
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pp.21-24
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2020
We investigated a solution-driven Yttrium Tin Oxide (YSnO) film that was imprinted using a parallel nanostructure as a liquid crystal (LC) alignment layer. The imprinting process was conducted at the annealing temperature of 100℃. To evaluate the effect of this process, we conducted surface analyses including atomic force microscopy (AFM). During imprinting, the surface roughness was reduced, and anisotropic characteristics were observed. Planar LC alignment was observed at a pretilt angle of 0.22° on YSnO film. Surface anisotropy induced by imprinting method forces LC to align along the direction of the parallel nanostructure, which is an alternative to conventional polyimide treated using a rubbing process.
Ordered array of gold nanoparticles (Au NPs) over ITO glass was investigated in terms of ITO pretreatment, particle size, and diamines with different chain length. Owing to the indium-tin-oxide (ITO) layer coated on the glass, the substrate surface has a limited number of hydroxyl groups which can produce functionalized amine groups for Au binding, which resulted in the loosely-packed array of Au NPs on the ITO surface. Diamine ligand as a molecular linker was introduced to enhance the lateral binding of adjacent Au NPs immobilized on the amine-functionalized ITO glass, consequently leading to the densely-packed array of Au NPs over the ITO substrate. The molecular bridging effect was strengthened with the increase of chain length of diamines: C-12 > C-8. The packing density of small Au NPs (< 40 nm) was significantly increased with the increase of C-8 diamine, but large Au NPs (> 60 nm) did not produce densely-packed array on the ITO glass even for the dosage of C-12 diamine.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.04a
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pp.67-68
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2008
A simple bi-layer structure of organic light emitting diode (OLED) was used to study the characteristics of anode preparation. Indium tin oxide (ITO) anode surface treatment of OLEDs was performed to get the optimum condition for the ITO anode. The ITO surface was treated by $O_2$ or $O_2$ / Ar mixed gas plasma with different processing time. The electrical characteristics of OLED were improved by plasma treatment. The operating voltage of OLED with $O_2$ or $O_2$/Ar mixed gas plasma treated anodes decreases from 8.2 to 3.4 V and 3.2V, respectively. The $O_2$ /Ar mixed gas plasma treatment results in better electrical property.
Indium tin oxide (ITO) layers are of considerable interest on account of the combination of properties they provide high electrical conductivity, high infrared reflection with high solar energy transmission, high transmission in the visible range. We are concerned about the variation of the spectral transmittances and sheet resistances as the thickness of SiO2-ZrO2 barrier layer and ITO layers and heat treating conditions are changed. Transmittances and reflectivities were studied by measuring UV-VIS-NIR-, FT-IR spectroscopy. ITO films are crack free, homogeneous and of polycrystalline cubic structure. The microstructure of good ITO films shows a narrow grain size distribution and mean value of 100 nm. The selectivity of absorbing properties is improved by increasing the thickness of ITO films. The increase of sheet resistance of ITO films are due to the increase in the reaction between films and glass substrate.
Proceedings of the Korean Society for Technology of Plasticity Conference
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1995.10a
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pp.181-187
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1995
The effet of glass fiber and graphite on the wear properies in tin-bronze alloy matrix composites was studied by a pin-on-disk type wear testing machine. The results obtained from the wear test were analized by SEM observations of worn surfaces of pins and disks and EPMA composition measurments. The amount of wear was devreased as increasing the content of glass fiber in matrix, since the alloy matrix was reinforced by glass fibers. The wear mechanism of the matrix specimen without glass fibers was proved as the contact area delamination. Oxide layer formed on sliding surface led to the increasing wear resistance. Specimens containing graphite particles showed an lubrication effect to counter disks.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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