• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2003.03a
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• pp.40-40
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• 2003

일반적으로 액티브 매트릭스 구동용 스위칭 소자의 경우 Turn-on 시간은 프레임 주파수와 게이트 라인의 수에 반비례하므로 LCD의 화면이 대면적으로 갈수록 스위칭 주파수는 증가하고 이는 채널에서의 열적 효과(thermal effect)를 유도하게 된다. 그러므로 전도성 유기물이 LCD용 유기박막트랜지스터(Thin Film Transistor) 등의 부품으로서의 적절성을 판단하기 위하여는 이에 대한 열적 특성에 대한 검증이 필요하게 된다. 따라서 본 연구에서는 유기 TFT의 열설계에 있어서 필수적인 물질변수로 인식되는 열적 특성들을 측정 계산하였으며 이를 소자의 열적 모델링에 적용하였다. 실험물질로는 pentacene을 사용하였으며 열확산도는 레이저 플레쉬법을 이용하여 측정하였다. 별도로 측정된 비열ㆍ밀도 등의 물성특성을 이용하여 상온에서 200 C의 온도범위에서 pentacene의 열전도도를 계산하여 그 결과를 열적으로 해석하였다. 계산결과, pentacene의 열전도도는 상온에서 약 0.0024 W/cm K의 값을 나타내었고, 70 C 까지 증가하여 약 0.0035 W/cm K의 정점을 보인 후에 200 C 에서 약 0.0022 W/cm K의 낮은 값을 나타낼 때까지 계속 감소하였다 아울러 본 연구에서는 실제 소자응용 시 박막으로서의 pentacene의 응용을 고려하여 실제 박막형태에 대한 열전도를 측정하였으며 이를 레이저 플레쉬법으로 측정한 값과 비교ㆍ분석하였다.

• Proceedings of the Polymer Society of Korea Conference
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• 2006.10a
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• pp.17-18
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• 2006

Flat Panel Displays (FPDs) have made a revolution in the display industry. TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display) has been the main player of FPD for last two decades. As the industry continuously develops the technology for better performance with lower cost is constantly demanded where several post LCD technologies are being developed. One of the prime candidates of post LCD technology is AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitting Diode) that is considered to be an ideal FPD due to its extraordinary display performance and potentially low cost display structure. This technology has been accepted to small size display applications, such as cellular phone, PDA and PMP, etc. In this paper it is discussed that how this technology can be extended to large size display applications, such as TV. The technical issues and solutions of TFT backplane and color patterning of OLED materials are discussed and proposed

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2006.08a
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• pp.601-604
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• 2006

We have developed ZnO TFT array using conventional photolithography and wet etching processes. Transparent 20 nm of ultra thin ZnO film deposited by means of plasma enhanced atomic layer deposition at $100^{\circ}C$ was used for the active channel. The ZnO TFT has a mobility of $0.59cm^2/V.s$, a threshold voltage of 7.2V, sub-threshold swing of 0.64V/dec., and an on/off ratio of $10^8$.

• Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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• v.25 no.6
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• pp.440-444
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• 2016

Owing to the introduction of various IT devices with emphasis on portability and design, the TFT (thin film transistor liquid crystal display) panel applied to IT devices has the same shape as the product, and the portability requirement of IT devices has resulted in a need for panels with higher rigidity. In this study, the effect of grinding conditions such as the feed rate and edge speed of edge grinding on the surface roughness and chipping of the machined surface is investigated using a metal bond wheel. During edge grinding of alkari-free glass, weak mechanical property of glass results in big chipping owing to generation of tensile stress at the end of grining operation. The results of this study show that the grinding characteristics of alkali-free glass are obtained and meet industry requirements.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.08a
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• pp.280-281
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• 2011

We fabricated the devices of TFT type with the amorphous chalcogenide channel. A single device consists of a Pt source and drain, a Ti glue layer and a GeSe chalcogenide channel layer on SiO2/Si substrate which worked as the gate. We confirmed the drain current with variations of gate bias and channel size. The I-V curves of the switching device are shown in Fig. 1. The channel of the device always contains amorphous state, but can be programmed into two states with different threshold voltages (Vth). In each state, the device shows a normal Ovonic switching behavior. Below Vth (OFF state), the current is low, but once the biasing voltage is greater than Vth (ON state), the current increases dramatically and the ON-OFF ratio is about 4 order. Based on the experiments, we contained the conclusion that the gate voltage can enhance the drain current, and the electric field by the drain voltage affects the amorphous-amorphous transition. The switching device always contains the amorphous state and never exhibits the Ohmic behavior of the crystalline state.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2000.01a
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• pp.71-72
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• 2000

The design of large area thin film transistor liquid crystal displays (TFT-LCDs) requires consideration of cross-talks between the data lines and pixel electrodes. These limits are imposed by the mutual coupling capacitances present in a pixel. The mutual coupling capacitance causes a pixel voltage error. In this study, semi-empirical model, which is adopted from VLSI interconnection capacitance calculations, is used to calculate mutual coupling capacitances. With calculated mutual coupling capacitances and arbitrary given image pattern, the root mean square (RMS) voltage of pixel is calculated to see vertical cross-talk from the first to the last column. The information obtained this study can be utilized to design the larger area and finer image quality panel.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2007.07a
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• pp.248-249
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• 2007

본 연구에서는 능동 구동형 유기 발광 소자(AMOLED)에 쓰이는 수소화된 비정질 실리콘(a-Si:H)의 전류 안정성(stability)을 개선하기 위한 새로운 구동방법(driving method)을 제안한다. 제안된 방식은 한 프레임 시간 중 특정 시간동안 비정질 실리콘 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)에 음의 화상데이터전압을 인가함으로써 열화(degradation)를 억제한다. 비정질 실리콘 박막트랜지스터의 열화를 회복하기 위한 음의 화상데이터의 진폭은 실제 이미지를 표현하는 이전에 인가한 양의 화상데이터에 의해 결정된다. 본 연구에서 제안된 구동방식을 시뮬레이션을 통하여 화소 회로의 동작을 검증하였고, 이를 통해 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 열화가 억제되는 것과 화면의 균일성(screen uniformity) 개선하고자 한다.

• Transactions on Electrical and Electronic Materials
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• v.12 no.6
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• pp.271-274
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• 2011

Screen-printed source and drain electrodes were used for a spin-coated and inkjet-processed zinc-tin oxide (ZTO) TFTs for the first time. Source and drain were silver nanoparticles. Channel length was patterned using screen printing technology. Different silver nanoinks and process parameters were tested to find optimal source and drain contacts Relatively good electrical properties of a screen-printed inkjet-processed oxide TFT were obtained as follows; a mobility of 1.20 $cm^2$/Vs, an on-off current ratio of $10^6$, a Vth of 5.4 V and a subthreshold swing of 1.5 V/dec.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2011.02a
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• pp.153-153
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• 2011

유리나 폴리머를 기판으로 하는 TFT(Thin film transistor), solar cell에서는 낮은 공정 온도에서($200{\sim}500^{\circ}C$) amorphous semiconductor thin film을 poly-crystal semiconductor thin film으로 결정화 시키는 기술이 매우 중요하게 대두 되고 있다. Ge은 Si에 비해 높은 carrier mobility와 낮은 녹는점을 가지므로, 비 저항이 낮을 뿐만 아니라 더 낮은 온도에서 결정화 할 수 있다. 하지만 일반적으로 쓰이는 Ge의 결정화 방법은 비교적 높은 열처리 온도를 필요로 하거나, 결정화된 원소에 남아있는 metal이 불순물 역할을 한다는 문제점, 그리고 불균일한 결정크기를 만든다는 단점이 있었다. 그 중에서도 현재 가장 많이 쓰이고 있는 MIC, MILC는 metal과 a-Ge이 접촉되는 interface나, grain boundary diffusion에 의해 핵 생성이 일어나고, 결정이 성장하는 메커니즘을 가지고 있으므로 단순 증착과 열처리 만으로는 앞서 말한 단점을 극복하는데 한계를 가지고 있다. 이에 PIII&D 장비를 이용하면, 이온 주입된 원소들이 모재와 반응 할 수 있는 표면적이 커짐으로 핵 생성을 조절 할 수 있을 뿐만 아니라, 이온 주입 시 발생하는 self annealing effect로 결정 크기까지도 조절할 수 있다. 또한 이러한 모든 process가 한 진공 장비 내에서 이루어지므로 장비의 단순화와, 공정간 단계별로 발생하는 불순물과 표면산화를 막을 수 있으므로 절연체 위에 저항이 낮고, hall mobility가 높은 poly-crystalline Ge thin film을 만들 수 있다. 본 연구에서는, 주로 핵 생성과정에서 seed를 만드는 이온주입 조건과, 결정 성장이 일어나는 증착 조건에 따라서 Ge의 결정방향과 크기가 많은 차이를 보이는데, 이는 HR-XRD(High resolution X-ray Diffractometer)와 Raman spectroscopy를 이용하여 측정 하였으며, SEM과 AFM으로 결정의 크기와 표면 거칠기를 측정하였다. 또한 Hall effect measurement를 통해 poly-crystalline thin film 의 저항과 hall mobility를 측정하였다.

• Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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• 2011.05a
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• pp.60.1-60.1
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• 2011

비정질 indium-gallium-zinc-oxide (a-IGZO)는 thin film transistor (TFT)에 적용되는 대표적인 active layer로써 높은 이동도를 갖고, 도핑 농도의 제어가 용이하며 낮은 온도에서도 대면적에 증착할 수 있는 특성을 가지고 있다. 특히 저온에서 대면적 증착이 가능한 장점을 갖고 있어 LCD 분야뿐만 아니라 다양한 분야에서 상용화하려는 연구가 시도되고 있다. a-IGZO를 구성하는 물질 중에 이동도에 중요한 역할을 미치는 In은 대표적인 투명전극물질인 indium-tin oxide (ITO)에서 고전류 구동에 의한 확산이 널리 알려져 이에 대한 증명과 개선을 위한 연구가 진행되고 있다. 보고된 결과에 따르면 device에 지속적인 구동 전압을 가했을 때 In이 유기층로 확산되어 organic light emitting diode(OLED)의 성능을 저하시키는 것으로 알려져 있다. 따라서, a-IGZO에서도 고전류 구동에 의한 indium의 이동이 필수불가결하다고 판단된다. 본 연구에서는 a-IGZO TFT에 고전압 구동을 반복적으로 시행함으로써 발생하는 전기적 특성의 변화를 확인하였고, 동일한 소자의 전극과 채널 사이의 계면에서 In 분포를 energy dispersive spectrometer (EDS)로 관찰하여 In 분포와 전기적 특성 간의 상관관계에 대해 연구하였다.