Co/Ti 이중막 실리사이드를 이용한 $p^{+}$ -n극저접합 다이오드의 제작과 전기적 특성
(Fabrication and Electrical Characteristics of $p^{+}$ -n Ultra Shallow Junction Diode with Co/Ti Bilayer Silicide)
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- 한국재료학회지
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- 제8권4호
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- pp.288-292
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- 1998