Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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v.27
no.1
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pp.46-50
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1990
Heteroface AlGaAs/GaAs drift solar cells with an active area conversion efficiency of 15.9% under one sun and AM 1.5 condition have been grown by molecular beam epitaxy(MBE). These drift solar cells have graded doping profiles in the base and emitter regions. The cells have a short circuit current density (Jsc) of 19.00 mA/cm\ulcorner an open circuit voltage(Voc) of 0.93 V, and f fill factor(FF) of 0.78, respectively. Conventional solar cells with fixed doping profiles were also grown by MBE for comparison with the drift solar cells. Even though the fabrication cost of MBE grown solar cell is higher, the expected highest conversion efficiency of the single or multiple cells could compensate for the increased cost, particularly in case of space applications.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.43
no.4
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pp.170-175
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2010
The GaAs epitaxial layers were grown on Si(100) substrates by molecular beam epitaxy(MBE) using the two-step method. The Si(100) substrates were cleaned with different surface cleaning method of vacuum heating, As-beam, and Ga-beam at the substrate temperature of $800^{\circ}C$. Growth temperature and thickness of the GaAs epitaxial layer were $800^{\circ}C$ and 1 ${\mu}m$, respectively. The surface structure and epitaxial growth were observed by reflection high-energy electron diffraction(RHEED) and scanning electron microscope(SEM). Just surface structure of the Si(100) substrate cleaned by Ga-beam at $800^{\circ}C$ shows double domain ($2{\times}1$). RHEED patterns of the GaAs epitaxial layers grown on Si(100) substrates with cleaning method of vacuum heating, As-beam, and Ga-beam show spot-like, ($2{\times}4$) with spot, and clear ($2{\times}4$). From SEM, it is found that the GaAs epitaxial layers grown on Si(100) substrates with Ga-beam cleaning has a high quality.
The magnetotransport properties at room temperature of the 250-nm-thick MnAs(-1100) film grown on GaAs(001) substrate by molecular beam epitaxy was investigated. The results measured with various magnetic field directions were reported. They show the negative magnetoresistive effect for all field directions. The difference in the magnetoresistance curves for different field directions is in agreement with the magnetic anisotropy of the film.
Han Seok-Kyu;Hong Soon-Ku;Lee Jae-Wook;Lee Jeong-Yong
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.19
no.10
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pp.923-929
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2006
Single crystalline ZnO films were successfully grown on R-plane sapphire substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy. Epitaxial relationship between the ZnO film and the R-plane sapphire was determined to be $[-1101]Al_2O_3{\parallel}[0001]ZnO,\;[11-20]Al_2O_2{\parallel}[-1100]ZnO$ based on the in-situ reflection high-energy electron diffraction analysis and confirmed again by high-resolution X-ray diffraction measurements. Grown (11-20) ZnO films surface showed mound-like morphology along the <0001>ZnO direction and the RMS roughness was about 4 nm for $2{\mu}m{\times}2{\mu}m$ area.
Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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v.29
no.7
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pp.795-800
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2005
The optical properties of $ZnS_{y}Se_{1-x-y}:Te_x\;(x\;<\;0.08,\;y\∼0.11$) alloys grown by molecular beam epitaxy (MBE) have been investigated by photoluminescence (PL) and PL-excitation (PLE) spectroscopy. Good optical properties and high crystal quality were established with lattice match condition to GaAs substrate. At room temperature, emission in the visible spectrum region from blue to green was obtained by varying the Te content of the ZnSSe:Te alloy. The efficient blue and green emission were assigned to $Te_{1}$Tel and $Te_{n}$ (n$\geq$2) cluster bound excitons, respectively. Bright blue (462 nm) and green (535 nm) light emitting diodes (LEDs) have been developed using ZnSSe:Te system as an active layer.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.13
no.6
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pp.467-471
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2000
The thermal annealing effect of $Zn_{0.9}Cd_{0.1}$ single quantum-well structures grown by molecular beam epitaxy is investigated. As the results of before and after rapid thermal annealed samples a red shift of E1-HH1 peak by Cd interdiffusion during thermal annealing of ZnCeSe/ZnSe sample was observed. In the case of annealed sample over $450^{\circ}C$ donor and acceptor impurities related peaks were observed which seems to be due to a diffusion of Ga and As from GaAs substrate. And also interdiffusion phenomena is idenified by the results of DCX measurements and which are consisten with the PL measurements.
Proceedings of the Korean Society of Marine Engineers Conference
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2002.05a
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pp.167-171
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2002
We have investigated the optical properties of Te-doped ZnSSe:Te epitaxial layers grown on (100) GaAs substrates by molecular beam epitaxy. The Te-doped ternary specimen shows strong blue or green emission (at 300k) which is assigned to Te$_{1}$ or Te$_{n}$( n$\geq$2) cluster bound exciton. Bright green and blue light-emitting diodes (LEDs) have been developed using ZnSSe:Te system as an active layer. The green LEDs exhibit a fairly long device lifetime (>2000 h) when operated at 3 A/cm$^{2}$ under CW condition at room temperature. It is confirmed that the Te-doping induced "crystal-hardening effect" plays a significant role in both efficient and strong suppression of the optical device degradation.gradation.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2005.11a
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pp.95-96
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2005
The general method and mechanism for the polarity control of heteroepitaxial wurtzite films, such as ZnO and GaN, by interface engineering via plasma-assisted molecular beam epitaxy are addressed. We proposed the principle and method controlling the crystal polarity of ZnO on GaN and GaN on ZnO. The crystal polarity of the lower film was maintained by forming a heterointerfce without any interface layer between the upper and the lower layers. However the crystal polarity could be changed by forming the heterointerface with the interface layer having an inversion center. The principle and method suggested here give us a promising tool to fabricate polarity inverted heterostructures, which applicable to invent novel heterostructures and devices.
Santos, B.H. Bononi Dos;Gobatoa, Y. Galvao;Heninib, M.
Applied Science and Convergence Technology
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v.23
no.5
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pp.211-220
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2014
In this paper, we present a review of optical and structural studies of $GaBi_xAs_{1-x}$ epilayers grown by Molecular Beam Epitaxy (MBE) on (311)B and (001) GaAs substrates with different As fluxes. The results indicate that under near-stoichiometric conditions the bismuth incorporation is higher for samples grown on (311)B GaAs substrates than for those grown on (001) GaAs. In addition, carrier localization effects in GaBiAs layers are clearly revealed for both samples by optical measurements. The (311)B samples showed evidence of higher density of defects. It has also been found that the nonradiative centers play a significant role in the recombination process in this material system. The influence of post-growth annealing on the microstructural, optical, and magneto-optical properties was also investigated. An important improvement of optical and spin properties after thermal annealing due to the reduction of defects in the GaBiAs layers was observed.
Proceedings of the Korean Society of Marine Engineers Conference
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2006.06a
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pp.289-290
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2006
We report a study of Zn(S)Se/GaAs heterojunction solar cells grown by molecular beam epitaxy (MBE). Zn(S)Se/GaAs heterostructures prepared under different conditions were characterized in-situ by reflection high-energy electron diffraction (RHEED). Structural and electrical properties were investigated with double crystal X-ray diffraction and current-voltage characteristics, respectively. The fabricated $n-ZnS_{0.07}Se_{0.93}/p-GaAs$ solar cell (SC #2) exhibited open circuit voltage($V_{oc}$) of 0.37 V, short circuit current($I_{sc}$) of $1.7{\times}10^{-2}$ mA, fill factor of 0.62 and conversion efficiency of 7.8 % under 38.5 $mW/cm^2$ illumination.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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