This study was aimed to verify a comparison by dental alloys upon the marginal fitness of dental prosthesis. Firstly, we waxed up on 45 epoxy resin dies, pressed the margin with hands, and identified the marginal fitness with microscope. And we made a single direct spruing system type of sprue by 3 dental alloys - metal crown alloys, PFM crown alloys, and gold crown alloys - each 15, total 45 waxing up, adjusting W/P ratio and invested the cast ring. Then, we made the dental prosthesis using the electric casting machine. In these processes we followed the manufacturer's instructions, in order to maintain the other conditions from the inner and outer, which included investment and burning out. After we tried on the dental prosthesis on epoxy resin dies, we have got the means of marginal gap at 9 points with same distances, around the cervical line which was checked already, using microscope($\times$300). The results of this study were as follows : 1. Metal crown alloys showed 2.9% better in marginal fitness than PFM crown alloys, and the difference was not statistically significant(P=0.497). 2. Gold crown alloys showed 31.3% better in marginal fitness than Metal crown alloys, and the difference was statistically significant(P=0.004). 3. Gold crown alloys showed 32.4% better in marginal fitness than PFM crown alloys, and the difference was statistically significant(P=0.002). 4. We saw that Gold crown alloys was the best dental alloys in the marginal fitness among the three.(P=0.049).
The study aimed to compare the 2 main types of insurance used by colorectal cancer (CRC) patients in a university hospital in Thailand: universal coverage (UC) and 'Civil Servant Medical Benefit Scheme' (CSMBS) in terms of hospital expenditure and survival outcomes. CRC cases in stages I-IV who were operated on and had completed their adjuvant therapy in Songklanagarind Hospital from 2004 through 2013 were retrospectively reviewed regarding their hospital expenditure, focusing on surgical and chemotherapy costs. Of 1,013 cases analyzed, 524 (51.7%) were in the UC group while 489 (48.3%) belonged to the CSMBS group. Cases with stage IV disease were significantly more frequent in the UC group. Average total treatment expenditure (TTE) was 143,780 Thai Baht (THB) (1 US$ =~ 30 THB). The TTE increased with tumor stage and the chemotherapy cost contributed the most to the TTE increment. TTE in the CSMBS group was significantly higher than in the UC group for stage II-III CRCs. The majority of cases in the UC group (65.5%) used deGramont or Mayo as their first line regimen, and the proportion of cases who started with a capecitabine-based regimen (XELOX or $Xeloda^{(R)}$) was significantly higher in the CSMBS group (61.0% compared to 24.5% in the UC group, p-value < 0.01). On survival analysis, overall survival (OS) and progress free survival in the CSMBS group were significantly better than in the UC group. The 5-year OS in the CSMBS and UC groups were 84.3% and 74.6%, respectively (p-value < 0.01). In conclusion, the study indicates that in Thailand, the type of insurance influences resource utilization, especially the choice of chemotherapy, in CRC cases. This disparity in treatment, in turn, results in a gap in treatment outcomes.
There may be some cases in which underwriters refuse to pay claims to the assured in case of his want of due diligence and actually, a lot of cases which an assured could not have been covered, existed through the history of marine hull insurance claims. Statistically, looking back the past marine accident cases in korea, the most parts of the accident are man-made disasters caused by want of due diligence. So, this study will focuss on this kind of marine losses and insurance clauses and other relevant rules containing due diligence such as due diligence of the assured in inchmaree clause, ITC-Hulls(1983), and due diligence of carrier in Hague-Visby Rule and so on. This study also shows what the disadvantages to marine enterprisers are, caused by want of due diligence and the advantages of doing due diligence are. In conclusion, this study contends that marine enterprisers should perform due diligence in dong their business for both financial stability and good management of their companies.
This experiment was performed to observe the adhesion pattern and microleakage in the gingival margin according to variation in the resin cement thickness which results from thickness of Die spacer. which is considered to effect the adaptability of the composite resin inlays. Clearfil CR inlays were fabricated on stone models with CR Sep applicated once and Nice fit twice, 4 times, and 6 times each. After 2nd curing within the CRC-100 oven, CR inlays were cemented with CR inlay cement. Dye(2% methylene blue) penetration and adhesion pattern were evaluated after sectioning of gingival margin into :3 pieces. The results were as follows ; 1. The thickness of resin cement showed unevenchanging pattern with that of die spacer, namely, it was increased until 4 times' application of Nice-Fit but was decreased with 6 times' application of that. 2. The degree of dye penetration wasn't affected by cement thickness within a limited value. 3. Most of dye penetration was shown through the interface between cement and enamel rather than the interface between cement and CR inlay. This shows that the affinity of resin cement for CR inlay was superior to the adhesive strength with tooth structure. 4. No gap was found at the interface between enamel and cement but some showed separation between dentin and cement. It is concidered that the contraction force of cement was less than the bond strength with the enamel. 5. Lots of voids were found in the CR inlay and resin cement. There was a pooling tendency of bonding agent and cement in the axiogingival line angle portion. 6. In some specimens, cracks were shown in enamel margin. From this it could be considered that cavity preparation and surface treatment weakened the tooth structure.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.07a
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pp.529-532
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2003
Quench behavior of resistive superconducting fault current limiters (SFCLs) with various pattern shapes was investigated. The pattern shapes employed were meander, bi-spiral, and spiral shapes of identical line width, gap and margin. SFCLs were fabricated from YBCO thin films grown on two-inch diameter $Al_2O_3$ substrates under the same conditions. Resistance rise of current limiting elements was low at a spiral shape before the whole quench completion, which may act as a disadvantage for simultaneous quench in serial connection between current limiting elements, but the temperature tended to have similar values at higher voltages. On the other hand, bi-spiral shape was severe at insulation level between current limiting lines. When these aspects were considered, we concluded that a meander shape was appropriate to design for a resistive SFCL based on thin films except the concentration of electric field at edge areas of strip lines.
As the Seated Iron Buddha Statues, Vairocana Buddha of Dopiansa Temple in Cheolwon, Nosana Buddha of Samhwasa Temple in Donghae and Sakyamuni of Mangisa Temple in Pyeongtaek were made during Unified Silla to Koryo Dynasty. These are damaged degradation which are crack, break-out, peel off and various pollutant. As a result of deterioration evaluation using radiography, crack, gap, break-out, pore space and restoration material are confirmed inside in the Buddha Statues. Based on iron strength, the Buddha Statues will be maintain current state as long as a high external impact is not applied. Also, iron core and nails used for fixing of internal and external framework were observed in the Buddha Statues. According to prominent line of surface, embossed inscription, hands cast separately and combined, the Buddha Statues were made by using division casting.
Potentially lethal damage repair (PLDR) in HFL-I was investigated by delayed plating experiments. The surviving fraction data were fitted to the linear Quadratic equation ($LogSn=-n{\gamma}({\alpha}d+{\beta}d^2$) where ${\gamma}=1$ for immediate plating). And a repair factor ${\gamma}$ was developed to compare survival for immediate and delayed plating. When we only took into account the repair factor of PLDR ${\gamma}$ which was derived from the delay assay, the cell survival response th fractionated carbon ion irradiation was not fully matched. This gap suggested that consideration of another repair process is necessary. So this suggests that the various repair process plays an important role in the fractionated irradiations.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.08a
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pp.198-198
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2010
전하 트랩형 비휘발성 메모리는 10년 이상의 데이터 보존 능력과 빠른 쓰기/지우기 속도가 요구 된다. 그러나 두 가지 특성은 터널 산화막의 두께에 따라 서로 trade off 관계를 갖는다. 즉, 두 가지 특성을 모두 만족 시키면서 scaling down 하기는 매우 힘들다. 이것의 해결책으로 적층된 유전막을 터널 산화막으로 사용하여 쓰기/지우기 속도와 데이터 보존 특성을 만족하는 Tunnel Barrier engineered Memory (TBM)이 있다. TBM은 가운데 장벽은 높고 기판과 전극쪽의 장벽이 낮은 crested barrier type이 있으며, 이와 반대로 가운데 장벽은 낮고 기판과 전극쪽의 장벽이 높은 VARIOT barrier type이 있다. 일반적으로 유전율과 밴드갭(band gap)의 관계는 유전율이 클수록 밴드갭이 작은 특성을 갖는다. 이러한 관계로 인해 일반적으로 crested type의 터널산화막층은 high-k/low-k/high-k의 물질로 적층되며, VARIOT type은 low-k/high-k/low-k의 물질로 적층된다. 이 형태는 밴드갭이 다른 물질을 적층했을 때 전계에 따라 터널 장벽의 변화가 민감하여 전자의 장벽 투과율이 매우 빠르게 변화하는 특징을 갖는다. 결국 전계에 민감도 향상으로 쓰기/지우기 속도가 향상되며 적층된 유전막의 물리적 두께의 증가로 인해 데이터 보존 특성 또한 향상되는 장점을 갖는다. 본 연구에서는 기존의 TBM과 다른 형태의 staggered tunnel barrier를 제안한다. staggered tunnel barrier는 heterostructure의 에너지 밴드 구조 중 하나로 밴드 line up은 두 밴드들이 같은 방향으로 shift된 형태이다. 즉, 가전자대 에너지 장벽의 minimum이 한 쪽에 생기면 전도대 에너지 장벽의 maximum은 반대쪽에 생기는 형태를 갖는다. 이러한 밴드구조를 갖는 물질을 터널 산화막층으로 하게 되면 쓰기/지우기 속도를 증가시킬 수 있으며, 데이터 보존 능력 모두 만족할 수 있어 TBM의 터널 산화막으로의 사용이 기대된다. 본 연구에서 제작한 staggered TBM소자의 터널 산화막으로는 Si3N4/HfAlO (3/3 nm)을 사용하여 I-V(current-voltage), Retention, Endurance를 측정하여 메모리 소자로서의 특성을 분석하였으며, 제 1 터널 산화막(Si3N4)의 두께를 wet etching 시간 (0, 10, 20 sec)에 따른 메모리 특성을 비교 분석하였다.
In welding of thin plate, some defects such as melt through and unmelted zone occur easily at welding start, however there is a limited study on those problems. Therefore the effects of start block and arc length on melt through and unmelted zone at start were investigated in this study. When start block height was lower than base metal, there was melt through at start. And when the height was even with base metal, no unmelted zone existed. Unmelted zone was increased as start block height increased from 0mm to 0.5mm. However unmelted zone was not much changed as the height increasing from 0.5mm to 1.0mm. When gap existed between start block and base metal, melt through occurred. However, unmelted zone was increased as the contact force of start block on base metal was increased from 0kgf to 7.5kgf. And when arc length was decreased from 3.8mm to 3.0mm, unmelted zone was decreased. It was concluded that the optimum condition to prevent melt through and to minimize unmelted zone would be with start block height 0.25mm, contact force 3.0kgf, and arc length 3.4mm. This optimum condition was applied to the mass production line and resulted in satisfied outcome.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.106-106
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2011
Recently, zinc oxide (ZnO) thin films have attracted great attention as a promising candidate for various electronic applications such as transparent electrodes, thin film transistors, and optoelectronic devices. ZnO thin films have a wide band gap energy of 3.37 eV and transparency in visible region. Moreover, ZnO thin films can be deposited in a poly-crystalline form even at room temperature, extending the choice of substrates including even plastics. Therefore, it is possible to realize thin film transistors by using ZnO thin films as the active channel layer. In this work, we investigated influence of oxygen partial pressure on ZnO thin films and fabricated ZnO-based thin film transistors. ZnO thin films were deposited on glass substrates by using a pulsed laser deposition technique in various oxygen partial pressures from 20 to 100 mTorr at room temperature. X-ray diffraction (XRD), transmission line method (TLM), and UV-Vis spectroscopy were employed to study the structural, electrical, and optical properties of the ZnO thin films. As a result, 80 mTorr was optimal condition for active layer of thin film transistors, since the active layer of thin film transistors needs high resistivity to achieve low off-current and high on-off ratio. The fabricated ZnO-based thin film transistors operated in the enhancement mode with high field effect mobility and low threshold voltage.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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