The purpose of this study was to evaluate histomorphometrically a toothash - plaster of Paris mixture associated with collagen membrane ($Bio-Gide^{(R)}$), regarding new bone formation in the peri-implantitis defects in dogs. Three mandibular molars were removed from 1-year-old mongrel dogs. After 2 months of healing, 2 titanium implants with sandblasted with large grit and acid etched (SLA) surface were installed in each side of the mandible. Experimental peri-implantitis was induced with ligatures after successful osseointegration. Ligatures were removed after identification of bone defect beneath the level of 5th thread of fixture on radiographic image. The mucoperiosteal flaps were elevated and the contaminated fixtures were treated with chlorhexidine and saline. The bone defects were assigned to one of the following treatments: no guided bone regeneration (GBR) procedure (group 1), GBR with Bio-$Oss^{(R)}$ and Bio-$Gide^{(R)}$ (group 2), or GBR with toothash - plaster of Paris mixture (TPM) and Bio-$Gide^{(R)}$ (group 3). The dogs were sacrificed after 8 or 16 months. The mean percentages of new bone formation within the limits of the 5 most coronal threads were $17.83{\pm}10.69$ (8 weeks) and $20.13{\pm}13.65$ (16 weeks) in group 1, $34.25{\pm}13.32$ (8 weeks) and $36.33{\pm}14.21$ (16 weeks) in group 2, and $46.33{\pm}18.39$ (8 weeks) and $48.00{\pm}17.78$ (16 weeks) in group 3, respectively. The present study confirmed statistically considerable new bone formation within the threads in group 3 compared with group 1 at 8 and 16 weeks (P<0.05). Although, data analysis did not reveal significant differences between group 2 and 3, the latter showed better results during the period of 8 or 16 weeks. Our findings support the effectiveness of TPM as a GBR material in the treatment of peri-implantitis bone defect.
The pupose of this study was to compare the fracture strength of five kinds of all-ceramic crowns(Vintage, Dicor Empress-staining, Empress-layering, In-Ceram) luted with glass ionomer cerment and composite resin cement and to evaluate the effect of cements on the fracture stregth of all ceramic crowns. Five groups of twelve uniform sized all-ceramic crown specimens were fabricated. Six specimens of each group were cemented with glass ionomer cement(Fuji G.I. Cement) and the remaining six specimens of each group were etched, silane-treated, and cemented with composite resin cement(Bistite resin cement). The crowns were stored in water$(37^{\circ}C)$ for 1 day prior to loading in an Instron, using a steel ball(diameter 4mm) at a crosshead speed of 0.5mm/min. The crowns were angled $30^{\circ}$, so the steel ball contacted with the crowns 2mm lingual from the mid-incisal edge. The results obtained were summarized as follows ; 1. With G.I. cement, mean fracture load(Kg) Were : Intage : $18.33{\pm}1.47$ ; Empress-staining : $23.92{\pm}6.67$ ; Dicor : $24.0{\pm}5.81$ ; Empress-layering : $26.92{\pm}2.80$ ; In-Ceram : $51.58{\pm}6.87$ ; ANOVA revealed a significant difference existed(p<0.05) between the group A(Vintage, Dicor, Empress-staining, Empress-layering) and group B(In-Ceram). 2. With Resin cement, mean fracture load(Kg) were : Intage : $22.75{\pm}4.97$ ; Dicor : $42.75{\pm}7.07$ ; Empress-staining : $44.08{\pm}7.99$ ; Empresslayering : $50.42{\pm}5.43$ ; In-Ceram : $52.58{\pm}6.51$ ; ANOVA revealed a significatnt difference existed(p<0.05) between the group A(Vintage) and B(Dicor, Empress-staining Empress-alyering, In-Ceram). 3. Resin cement significantly increased the fracture strength of the all-ceramic crowns for Dicor(156%), Empress-staining(185%), Empress-alyering(187%)(p<0.05); but did not increase the fracture strength of Vintage(128%) and In-Ceram(101%)(p>0.05). 4. Majority of the all-ceramic crowns show a wedge fracture extending through proximal surfaces to an apex, usually apical third(with G.I. cement) or middle third(with Resin cement) of the facial surface.
In order to apply for transparent conductive oxide(TCO), we deposited ZnO thin films on the glass at room temperature by RF magnetron sputtering method. Deposition conditions for high transmittance and low resistivity were optimized in our previous studies. Under the deposition condition with the RF power of 200 W, target to substrate distance of 30 mm and working pressure of 5 mTorr, highly conductive($7.4{\times}10^{-3}{\Omega}cm$) and transparent(over 85%) ZnO films were prepared. Highly oriented ZnO film in the [002] direction were obtained with specifically designed ZnO targets. Systematic study on dependence of deposition parameters on electrical and optical properties of the as-grown ZnO films were mainly investigated in this work. And for application tests using these films as transparent conductive oxide anodes, wet chemical etching behaviors of ZnO films were also investigated using various chemicals. Wet-chemical etching behavior of ZnO films were investigated using various acid solutions. The concentrations of these different acid solutions were controlled to study the etching shapes and etching rate. ZnO films were anisotropically etched at various concentrations and wet etching led to crater-like surface structure. Also we firstly found that the etching rate and etching shapes of ZnO films strongly depended on the etchant concentrations (i.e. pH) and the etching rate is exponentially decreased with increasing pH values regardless of the acid etchants.
Some silicon micromechanical structures useful in sensors and actuators have been fabricated by electropolishing or porous silicon formation technique by anodic reaction in HF solution. The microstructures were lightly doped single crystal silicon and the formation was isotropic independent of crystal directions. Porous silicon layer(PSL) was formed selectively in $n^{+}$ region of $n^{+}/n$ silicon structure by anodic reaction in concentrated HF(20-48%) solution. Characteristics of the formed PSL were investigated along with change of the reaction voltage, HF concentration and the reaction time. PSL was formed only in $n^{+}$ region. The porosity of the PSL was decreased with the increase of HF concentration and independent of reaction voltage. For the case of $n/n^{+}/n$ structures, the etched surface of silicon was fairly smooth and a cusp was not found. The thickness of the microstructures was the same as that of the epitaxial n-Si layer and good uniformity. We have fabricated acceleration sensors by anodic reaction in HF solution(5 wt%) and planar technology. The process was compatible with conventional It fabrication technique. Various micromechanical structures, such as rotors of motor, gears and linear actuator, were also fabricated by the technique and examined by SEM photographs.
Proceedings of the Korean Society for Noise and Vibration Engineering Conference
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2013.04a
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pp.835-841
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2013
Modern solid-state gyroscopes (HRG) with hemispherical resonators from high-purity quartz glass and special surface superfinishing and ultrathin gold coating become the best instruments for precise-grade inertial reference units (IRU) targeting long-term space missions. Designing of these sensors could be a notable contribution into development of Korea as a space nation. In participial, 40mm diameter thin-shell resonator from high-purity fused quartz, fabricated as a single-piece with its supporting stem has been designed, machined, etched, tuned, tested, and delivered by STM Co. (ATS of Ukraine) several years ago; an extremely-high Q-factor (upto 10~20 millions) has been shown. Understanding of the best way how to match such a unique sensor with inner glass assembly of the gyro means how to use the high potential in a maximal extent; and this has become the urgent task. Inner quartz glass assembly has a very thin indium (In) layer soldered the resonator and its silica base (case), but effects of internal resonances between operational modal pair of the shell-cup and its side (parasitic) modes can notable degrade the potential of the sensor as a whole, instead of so low level of resonator's intrinsic losses. Unfortunately, there are special combinations of dimensions of the parts (so-called, "resonant sizes"), when intensive losses of energy occurs. The authors proposed to use the length of stem's fixture as an additional design parameter to avoid such cases. So-called, a cyclic scheme of finite element method (FEM) and ANSYS software were employed to estimate different combinations of gyro assembly parameters. This variant has no mismatches of numerical origin due to FEM's discrete mesh. The optimum length and dangerous "resonant lengths" have been found. The special attention has been paid to analyses of 3D effects in a cup-stem transient zone, including determination of a difference between the positions of geometrical Pole of the resonant hemisphere and of its "dynamical Pole", i.e., its real zone of oscillation node. Boundary effects between the shell (cup) and 3D short "beams" (inner and outer stems) have been ranged. The results of the numerical experiments have been compared with the classic model of a quasi-hemispherical shell band with inextensional midsurface, and the solution using Rayleigh's functions of the $1^{st}$ and $2^{nd}$ kinds. To guarantee the truth of the recommended sizes to a designer of the real device, the analytical and FEM results have been compared with experimental data for a party of real resonators. The consistency of the results obtained by different means has been shown with errors less than 5%. The results notably differ from the data published earlier by different researchers.
This study compared the dentin adhesion to composite resin according to air-dry, blot dry, application of rewetting agent on air-dry or blot dry dentin surface by microleakag test and SEM observation. For microleakage test, class V cavity preparations with dentinal margins were prepared on both buccal and lingual surfaces of 40 extracted human molars. For SEM observation, occlusal dentin of 20 extracted human molars were exposed. After etched the dentin, prepared teeth were randomly divided into four groups; D group: air dry for 10-15 sec., B group: blot dry with moist cotton pellet, D-R group: air dry and rewet with Aqua-Prep F for 20 sec., B-R group: blot dry and rewet with Aqua-Prep F for 20 sec. Treated cavities and surfaces were filled or constructed using One-Step adhesives and Aelitefil composite resins. Specimens were stored in distilled water for 24 hours. For microleakage test, the specimens were thermocycled and soaked into 2% methylene blue. The specimens were sectioned longitudinally and evaluated for microleakage under steromicroscope. The data were statistically analysed by Kuskal-Wallis Test, Mann-Whitney and Wilcoxon signed ranked tests. For SEM observation, the specimens were bisectioned mesiodiatally. After decalcified and deproteinized, specimens were observed under SEM. The results of this study were as follows; 1. The microleakges on dentinal margin were the highest in D group compared with B group, D-R group, and B-R group(p<0.05). But there was no significant difference between B group, D-R group and B-R group. 2. D group showed gap and a few resin tags between dentin and composite resin. 3 B group, D-R group, and B-R groups showed close adaptation between dentin and composite resin. It showed that resin rags in B group were numerous and long, in D-R group were few and short, in B-R group were numerous and short or long. 4. Adhesive layer showed in D-R group ($10{\;}\mu\textrm{m}$) and B-R group ($3{\;}\mu\textrm{m}$) In conclusion, use of rewetting agent to dry dentin was efficient to dentin adhesion, also it did not provide reverse effect on blot dry dentin.
The purpose of this study was to investigate the behavior of ozone in DI water and the reaction with wafers during the semiconductor wet cleaning process. The solubility of ozone in DI water was not only dependent on the temperature but also directly proportional to the input concentration of ozone. The lower the initial ozone concentration and the temperature, the longer the half-life time of ozone. The reaction order of ozone in DI water was calculated to be around 1.5. The redox potential reached a saturation value in 5min and slightly increased as the input ozone concentrations increased. The completely hydrophilic surface was created in Imin when HF etched silicon wafer was cleaned in ozonized DI water containing higher ozone concentrations than 2ppm. Spectroscopic ellipsometry measurements showed that the chemical oxide formed by ozonized DI water was measured to be thicker than that by piranha solution. The wafers contaminated with a non-ionic surfactant were more effectively cleaned in ozonized DI water than in piranha and ozonized piranha solutions.
Hong, Jeong-Ug;Choi, Sang-Mook;Han, Soo-Boo;Chung, Chong-Pyoung;Rhyu, In-Chul;Lee, Yong-Moo;Ku, Young
Journal of Periodontal and Implant Science
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v.32
no.1
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pp.143-160
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2002
타이태늄은 뛰어난 생체적합성과 적절한 물리적 성질을 바탕으로 치과 및 정형외과 영역의 매식재로 널리사용되어져 왔으며, 골과 매식재 사이의 골 융합 정도를 증가시킬 목적으로 물리, 화학적인 방법을 이용한 타이태늄의 표면처리에 관한 많은 연구들이 진행되어 왔다. 최근에는 부착단백질 또는 성장인자를 이용한 생체재료의 표면개질을 통하여 조직적합성 및 치유 능의 개선을 위한 시도들이 있어왔다. Fibronectin(FN)은 주요 세포외기질중의 하나로 생체 내 널리 분포하여 세포의 부착, 이동 및 증식에 관여하는 거대 당단백으로, RGD및 PHSRN 펩타이드 서열이 세포의 인테그린과 결합하여 세포의 활성을 조절하는 것으로 알려져 있다. 이 연구에서는 FN으로 처리된 타이태늄이 조골세포의 부착, 증식 및 분화에 미치는 영향과 이에 따른 석회화 정도에 미치는 영향을 관찰하여 부착분자를 이용한 타이태늄 표면개질의 효과를 규명하고자 하였다. 상업용 순수 타이태늄을 gold thiol법을 이용하여 표면처리 후, 혈장 FN(plasma FN, pFN)과 유전자재조합법을 이용하여 얻은 FN조각(FN type III 7-10, FNIII 7-10)을 피복한 시편을 실험군으로, 아무런 처리를 하지 않은것(smooth surface, SS)과 산 부식(Sandblasted and acid etched, SLA)처리된것을 대조군으로 이용하였다. 배양된 조골세포주(MC3T3-E1)를 사용하여 타이태늄 표면 처리에 따른 세포의 증식, 형태변화, 알칼리성 인산분해효소(ALPase) 생산 및 세포면역형광법을 이용한 분화정도를 시간 경과에 따라 관찰하였다. 조골세포증식의 경우 FNIII 7-10 처리군에서 pFN 처리군 및 대조군에 비해 시간경과에 따라 유의성있는 세포수의 증식이 관찰되었으며(p<0.05), ALPase 생성의 경우에도 FNIII 7-10 처리 군에서 아무 처리도 하지 않은 군에 비해 유의성 있게 높은 효소의 생성이 관찰되었다(p<0.05). 주사전자현미경을 이용한 세포의 형태관찰결과 아무 처리도 하지 않은 군에서는 마름모형태를 나타내었으며, 산 부식 처리된 군에서는 세포가 가시모양의 형태를 보인 반면 FN으로 처리된 두 군에서는 세포의 부착 및 펴짐이 매우 발달되어 있는 모습이 관찰되었다. 세포의 분화정도를 관찰하기 위하여 국소부착키나제(focal adhesion kinase, FAK), 및 actin stress fiber의 분포양상을 세포면역형광법을 이용하여 관찰한 결과 FN으로 표면처리된 두 군에서 아무런 처리도 하지않은 군 및 산 부식처리 한 군에 비해 프라크의 발현이 높게 나타났으며 잘 발달된 actin stress fiber의 소견을 나타내었다. 이 실험의 결과들은 gold thiol 법을 이용한 표면처리 후 FN부착을 통한 타이태늄의 표면개질이 조골세포의 부착, 증식 및 분화에 중요한 역할을 담당하여 석회화 정도를 촉진시키는 것을 보여주었으며, 이런 결과들은 더 짧은 FN조각을 이용한 다른 생체재료의 표면개질에 폭 넓게 응용할 수 있으리라 생각된다.
Journal of the korean academy of Pediatric Dentistry
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v.33
no.2
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pp.192-200
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2006
The aim of this study was to assess the microleakage underneath a pit and fissure sealant bonded to occlusal surfaces treated by Er:YAG laser To determine the most effective energy density of laser, fourteen specimens were irradiated from 50mJ to 300mJ at 3Hz. After irradiation, the lased specimens were observed under the scanning electron microscope. Thirty six non-carious extracted premolars were randomly assigned to four groups of nine teeth: group 1, no treatment on the occlusal surface; group 2, acid etching for 15 seconds; group 3, Er:YAG laser irradiation; group 4, acid etching followed by Er:YAG laser irradiation. The pits and fissures were sealed with unfilled sealant(Helioseal F) and the specimen teeth were thermo-cycled, immersed in 2% Rhodamine B solution, longitudinally sectioned and analyzed for microleakage with fluorescent microscope. The results were as follows: 1. Er:YAG lased surfaces with 50mJ, 3Hz showed a similar pattern of irregularity with acid etched enamel surfaces 2. The mean microleakage score increased in the order of group 2, 4, 3 and 1. There was no significant difference among group 1, 3 and 4(p>0.05), however group 2 showed significantly less microleakage compared with group 1 and 3. Conclusively, the laser irradiation seemed not enough to replace the acid etching for proper retention of pit and fissure sealants.
$SF_6$ gas is widely used for dry etching process of semiconductor and display fabrication process. But $SF_6$ gas is considered for typical greenhouse gas for global warming. So it is necessary to research relating to $SF_6$ alternatives reducing greenhouse effect in semiconductor and display. $C_3F_6$ gas is one of the promising candidates for it. We studied about etch characteristics by performing Reactive Ion Etching process of dry etching and reduced gas element exhausted on etching process using absorbent Zeolite 5A. $Si_3N_4$ thin film was deposited to 500 nm with Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and we performed Reactive Ion Etching process after patterning through photolithography process. It was observed that the etch rate and the etched surface of $Si_3N_4$ thin film with Scanning Electron Microscope pictures. And we measured and compared the exhausted gas before and after the absorbent using Gas Chromatograph-Mass Spectrophotometry.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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