본 논문에서는 차단층 설계 변수에 따른 GaN 기반 LED의 출력 특성을 분석하였다. 사용된 LED의 기본 구조는 GaN 버퍼층을 기반으로 GaN 장벽과 InGaN 양자 우물로 이루어진 활성 영역이 AlGaN EBL(Electron Blocking Layer)과 AlGaN HBL(Hole Blocking Layer) 사이에 구성되어 있다. ISE-TCAD를 이용하여 GaN 기반 LED에서 EBL의 Al 몰분율과 두께, HBL의 Al 몰분율과 도핑 농도에 따른 출력 전력과 내부 양자 효율 특성을 분석하였다.
Transparent indium tin oxide (ITO) anode surface was modified using $O_3$ Plasma and organic ultrathin buffer layers were deposited on the ITO surface using 13.56 MHz RF plasma polymerization technique. The EL efficiency, operating voltage and lifetime of the organic light-emitting device (OLED) were investigated in order to study the effect of the plasma surface treatment and role of plasma polymerized organic ultrathin buffer layer. Poly methylmethacrylate (PMMA) layers were plasma polymerized on the ITO anode as buffer layer between anode and hole transport layer (HTL). The plasma polymerization of the organic ultrathin layer were carried out at a homemade capacitive-coupled RF plasma equipment. N,N'-diphenyl-N,N'(3- methylphenyl)-1,1'-diphenyl-4,4'-diamine (TPD) as HTL, Tris(8-hydroxyquinolinato) Aluminum $(Alq_3)$ as both emitting layer (EML)/electron transport layer (ETL), and aluminum layer as cathode were deposited using thermal evaporation technique. Effects of the plasma surface treatment of ITO and plasma polymerized buffer layers on the OLED performance were discussed.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제15권1호
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pp.41-44
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2014
Emission properties of the organic light-emitting diodes were investigated with the use of a hole-injection layer of copper(II)-phthalocyanine (CuPc). The manufactured device structure is indium-tin-oxide (ITO) (180 nm)/CuPc (0~50 nm)/N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-diphenylbenzidine (TPD) (40 nm)/tris-(8-hydroxyquinoline) aluminum (III) ($Alq_3$) (60 nm)/Al(100 nm). We investigated the luminescence properties of $Alq_3$ which is affected by the CuPc hole-injection layer. Also, we studied the influence of light-emission properties in the structure of an ITO/CuPc/TPD/$Alq_3$/Al device depending on the several thicknesses of CuPc (0~50 nm) layer. As a result, it was found that the hole injection occurs smoothly in the device with 20 nm thick CuPc layer, and the properties become significantly worse in the device with a CuPc layer thickness higher than 40 nm. We studied the topography and external quantum efficiency depending on the layer thickness of CuPc. Also, we analyzed the electroluminescent characteristics in the low and high-voltage range.
Porous anodic alumina(PAA) which has arrays of nano size holes, was incorporated into organic light emitting devices. Porous anodic alumina on glass scattered the light generated from emitting layer and was decreased the waveguiding modes within the glass. An increase in the device coupling-out factor for the scattering structure is demonstrated.
Organic light emitting diodes(OLEDs) have been expected to find an application as a new type of display since C. W. Tang and VanSlyke first reported on high performance OLEDs. This paper has been stuied a green organic EL device using dye doped emitting layer such as C6(Coumarin 6). In the Alq-based e]ectroluminescence diodes, we applied highly fluorescent molecular(Coumarin 6) and obtained enhancement in the electroluminescence efficiency.
Recently there has been many understood the basis device physics OLEDs and their basic operating principle. We demonstrate that there have many relation in order to improve luminescence efficiency both emitting light material physics characteristics and luminary. Efficient Electro Luminescence from organic materials was first reported in 1987 at Kodak. OLEDs emitting light material use tris-(8-hydroxyquinoline)(Alq3). Sudied maximum luminescence efficiency about structure of optimized emitting light layer of OLED which do observing change of luminescence efficiency by structure change of organic material in this paper.
한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
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pp.817-819
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2009
We have developed highly efficient blue phosphorescent organic light-emitting devices (PHOLEDs) with simplified architectures using new host materials. The Blue PHOLED with new host:FIrpic emitting layer exhibits a maximum luminance efficiency of 34 cd/A and a low operating voltage 5 V at a high luminance of 1212 cd/$m^2$.
Admittance Spectroscopic analysis was applied to study the effect of LiF buffer layer and to model the equivalent circuit for poly(2-methoxy-5-(2'-ethylhexyloxy)-1,4-phenylenevinylene) (MEH-PPV)-based polymer light emitting diodes (PLEDs) with the LiF cathode buffer layer. The single layer device with ITO/MEH-PPV/Al structure can be modeled as a simple parallel combination of resistor and capacitor. Insertion of a LiF layer at the Al/MEH-PPV interface shifts the highest occupied molecular orbital level and the vacuum level of the MEH-PPV layer as a result the barrier height for electron injection at the Al/MEH-PPV interface is reduced. The admittance spectroscopy measurement of the devices with the LiF cathode buffer layer shows reduction in contact resistance ($R_c$), parallel resistance ($R_p$) and increment in parallel capacitance ($C_p$).
We report the enhanced performance of poly(N-vinylcarbozole) (PVK)/poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate (PEDOT:PSS)-based quantum-dot light-emitting diodes by inserting the polyaniline:poly (p-styrenesulfonic acid) (PANI:PSS) interlayer. The QD-LED with PANI:PSS interlayer exhibited a higher luminance and luminous current efficiency than that without PANI:PSS. Ultraviolet photoelectron spectroscopy results exhibited different electronic energy alignments of QD-LEDs with/without the PANI:PSS interlayer. By inserting the PANI:PSS interlayer, the hole-injection barrier at the QD layer/PVK interface was reduced from 1.45 to 1.23 eV via the energy level down-shift of the PVK layer. The reduced barrier height alleviated the interface carrier charging responsible for the deterioration of the current and luminance efficiency. This suggests that the insertion of PANI:PSS interlayer in QD-LEDs contributed to (i) increase the p-type conductivity and (ii) reduce the hole barrier height of QDs/PVK, which are critical factors leading to improve the efficiency of QD-LEDs.
In this paper, we have deposited silicon nitride films by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD). For films deposited under optimized conditions, the mechanism of plasma-enhanced vapor deposition of silicon nitride is studied by varying process parameters such as rf power, gas ratio, and chamber pressure. It was demonstrated that organic light-emitting diode(OLEDs) were fabricated with the inorganic passivation layer processing. We have been studied the inorganic film encapsulation effect for organic light-emitting diodes (OLED). To evaluate the passivation layer, we have carried out the fabrication of OLEDs and investigate with luminescence and MOCON.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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